信息处理装置、信息处理方法、物品制造系统和方法制造方法及图纸

公开了信息处理装置、信息处理方法、物品制造系统和方法。信息处理装置包括：取得单元，被配置成取得如下信息，该信息包括在第一定时处由被配置成执行基板处理的基板处理装置对基板进行处理的处理结果，与在第一定时之后的第二定时处在基板处理装置中发生的事件有关的事件信息，以及在第二定时之后的第三定时处由基板处理装置对基板进行处理的处理结果；以及显示控制单元，被配置成基于由取得单元取得的信息执行控制以使得显示设备显示包括在第一定时处的处理结果和在第三定时处的处理结果的处理结果的按时间顺序排列的图表，其中，显示控制单元执行控制以在图表上以叠加方式显示指示出第二定时的信息。显示指示出第二定时的信息。显示指示出第二定时的信息。

【技术实现步骤摘要】
信息处理装置、信息处理方法、物品制造系统和方法


[0001]本公开涉及信息处理装置、信息处理方法、物品制造系统和物品制造方法。

技术介绍

[0002]在半导体制造工厂中，通常安装了诸如用于处理基板的基板处理装置之类的多个半导体制造装置，并且期望对每个装置的操作状态的准确确定以及基于该确定的有效的基板处理。此外，期望迅速地解决在半导体制造装置中发生的异常。
[0003]日本专利申请特许公开No.2009
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170612讨论了用于检测在半导体制造装置中的异常的技术。具体而言，针对包括多个基板的每个批次统计地处理半导体制造装置的处理结果，并且显示统计处理结果的图表。这有助于对发生了异常的批次的迅速识别，并且用户能够迅速地执行用于将半导体制造装置恢复到正常状态的操作。
[0004]虽然基于统计处理结果能够确定发生了异常的批次，但是难以确定异常的原因。例如，难以立即确定是由装置的操作引起了异常还是由装置随时间的改变引起了异常。因此，解决异常需要花费很长时间。

技术实现思路

[0005]根据本专利技术的一方面，信息处理装置包括：取得单元，被配置成取得如下信息，该信息包括在第一定时处由被配置成执行基板处理的基板处理装置对基板进行处理的处理结果，与在第一定时之后的第二定时处在基板处理装置中发生的事件有关的事件信息，以及在第二定时之后的第三定时处由基板处理装置对基板进行处理的处理结果；选择单元，被配置成选择在基板处理装置中发生的事件；以及显示控制单元，被配置成基于由取得单元取得的信息执行控制以使得显示设备显示包括在第一定时处的处理结果和在第三定时处的处理结果的处理结果的按时间顺序排列的图表，其中，显示控制单元执行控制以在图表上以叠加方式显示如下信息，该信息指示出由选择单元选择的事件的发生定时。
[0006]本专利技术的进一步特征将根据以下(参考附图)对示例性实施例的描述变得清楚。
附图说明
[0007]图1是图示出物品制造系统的图。
[0008]图2是图示出作为图案形成装置的示例的曝光装置的图。
[0009]图3是图示出信息处理装置的硬件配置的图。
[0010]图4是图示出管理装置的中央处理器(CPU)的配置的图。
[0011]图5是图示出在显示设备上的显示处理的流程图。
[0012]图6是图示出在相同区域中显示不同配方(recipe)的批次数据的图表的图。
[0013]图7是图示出叠加在相同区域中显示不同配方的批次数据的图表上的事件线的图。
[0014]图8是图示出在不同区域中显示不同配方的批次数据的图表的图。
[0015]图9是图示出叠加在不同区域中显示不同配方的批次数据的图表上的事件线的图。
[0016]图10是图示出在不同区域中显示不同配方的批次数据的图表的图。
[0017]图11是图示出叠加在不同区域中显示不同配方的批次数据的图表上的事件线的图。
[0018]图12是图示出叠加在不同区域中显示不同配方的批次数据的图表上的多个事件线的图。
[0019]图13是图示出叠加在不同区域中显示不同装置的批次数据的图表上的事件线的图。
具体实施方式
[0020]下面将参考附图详细地描述本专利技术的示例性实施例。在附图中，类似的部件由相同的附图标记表示，并且省略其冗余的描述。
[0021]下面将描述根据第一示例性实施例的包括多个装置以及管理这多个装置的操作状态的管理装置的物品制造系统。图1是图示出物品制造系统100的图。根据本示例性实施例的物品制造系统100包括：图案形成装置200(基板处理装置)、处理装置201、检查装置202以及管理装置300。图案形成装置200在晶片(基板)上形成图案。管理装置300管理图案形成装置200、处理装置201以及检查装置202。此外，物品制造系统100的图案形成装置200、处理装置201以及检查装置202各自包括一个或多个装置。
[0022]图案形成装置200包括曝光装置。曝光装置利用光来照射其上形成有图案的中间掩模(掩模，原版)以利用来自中间掩模的光将图案投影到在晶片上的压射区。图案形成装置200还包括压印装置。压印装置例如使被供给在晶片上的压印材料与模型(原版，模具)相互接触，并且对压印材料施加用于硬化的能量，以使得形成具有转印到其上的模型形状的组成物。此外，图案形成装置200还包括绘制装置。绘制装置经由带电粒子光学系统使用诸如电子束或离子束之类的带电粒子束在基板上执行绘制以在基板上形成图案。图案形成装置200被配置成使用前述方法执行基板处理。
[0023]处理装置201包括执行在制造诸如器件之类的物品时除了由曝光装置和其他装置执行的处理之外的处理的制造装置。其示例包括将感光介质涂敷到基板表面的涂敷装置以及对具有转印到其上的图案的基板进行显影的显影装置。除了上述装置之外，处理装置201包括蚀刻装置和沉积装置。
[0024]检查装置202例如包括：重叠检查装置、线宽检查装置、图案检查装置以及电特性检查装置。重叠检查装置是指检查在包括各自形成有图案的多个层的基板的上层和下层上的图案的定位的精度的装置。线宽检查装置是指检查诸如在基板上形成的图案的线宽之类的维度的精度的装置。图案检查装置是指检查是否存在由于在形成有图案的基板上的异物或由于压印材料的缺失所致的不满足精度的图案的装置。电特性检查装置是指检查使用形成有图案的基板制造的半导体器件的电特性的精度的装置。
[0025]接下来，将描述作为图案形成装置200的示例的如下曝光装置，该曝光装置将晶片暴露给来自形成有图案的中间掩模的光。图2是图示出作为图案形成装置200的示例的曝光装置204的图。根据本示例性实施例的曝光装置204将被描述为如下步进扫描式曝光装置，
该步进扫描式曝光装置在彼此同步地驱动中间掩模台和晶片台的同时执行曝光。曝光装置204不限于扫描仪并且可以是如下步进重复式曝光装置，该步进重复式曝光装置在晶片台被固定的状态下执行曝光。在图2图示出的示例中，曝光装置204包括光源7、照明光学系统8、中间掩模台2、投影光学系统3、晶片台6、晶片卡盘5以及控制单元13。曝光装置204还包括激光干涉仪9和10、聚焦传感器11、晶片输送单元12、中间掩模输送单元14以及对准镜15。在图2中，与投影光学系统3的光轴平行的方向将被称作Z轴方向，而在与Z轴方向垂直的平面中彼此正交的两个方向将被称作X轴方向和Y轴方向。
[0026]光源7的示例包括高压汞灯、氟化氩(ArF)准分子激光器以及氟化氪(KrF)准分子激光器。光源7不是必须在曝光装置204的腔室内，并且可以是外部光源。从光源7发射的光穿过照明光学系统8并照射中间掩模1。中间掩模1被放置在中间掩模台2上并且其上绘制有图案。图案要被转印到涂敷有感光材料的晶片4。中间掩模台2经由中间掩模卡盘通过吸附保持中间掩模1，并且通过例如线性马达而可移动。
[0027]投影光学系统3将绘制在中间掩模1上的图案的图像投影到被放置在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种信息处理装置，其特征在于，包括：取得单元，被配置成取得如下信息，该信息包括在第一定时处由被配置成执行基板处理的基板处理装置对基板进行处理的处理结果，与在第一定时之后的第二定时处在基板处理装置中发生的事件有关的事件信息，以及在第二定时之后的第三定时处由基板处理装置对基板进行处理的处理结果；选择单元，被配置成选择在基板处理装置中发生的事件；以及显示控制单元，被配置成基于由取得单元取得的信息执行控制以使得显示设备显示包括在第一定时处的处理结果和在第三定时处的处理结果的处理结果的按时间顺序排列的图表，其中，显示控制单元执行控制以在图表上以叠加方式显示如下信息，该信息指示出由选择单元选择的事件的发生定时。2.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，显示控制单元执行控制以不在图表上以叠加方式显示如下信息，该信息指示出没有被选择单元选择的事件的发生定时。3.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，事件信息是与使基板处理装置的各个单元初始化的复位有关的信息，与控制基板处理装置的操作的参数的改变有关的信息，与使基板处理装置执行预定操作的用户命令有关的信息，或者与其上绘制了要被转印到基板的电路图案的中间掩模的更换有关的信息。4.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，显示控制单元执行控制以在图表上以叠加方式显示指示出第二定时的线。5.根据权利要求4所述的信息处理装置，其中，显示控制单元在显示用于不同类型的事件的线时改变线的颜色和形状中的至少一个。6.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，取得单元取得多个基板处理装置的处理的处理结果，并且其中，显示控制单元执行控制以在不同区域中显示所述多个基板处理装置的处理结果的各个图表。7.根据权利要求1所述的信息处理装置，其中，取得单元取得多个基板处理装置的处理的处理结果，并且其中，显示控制单元按配方对所述多个基板处理装置的处理结果进行分类，并且在不同区域中显示配方的处理结果的各个图表，配方是被设定成由所述多个基板处理装置共享的处理条件。8.根据权利要求7所述的信息处理装置，其中，显示控制单元执行控制以在按配方显示在不同区域中的各个图表上以叠加方式显示指示出第二定时的信息。9.根据权利要求1所述的信息处理装置，还包括：计算单元，其中，取得单元取得每个基板的处理结果，并且其中，计算单元基于由取得单元取得...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤原广镜，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：