双面流水线式等离子清洗设备制造技术

本申请涉及等离子清洗技术领域，特别是一种双面流水线式等离子清洗设备，包括物料输送机构、等离子清洗机构，以及支撑架；所述物料输送机构包括第一物料输送段、第二物料输送段，之间设有镂空承接段；所述等离子清洗机构包括设于所述第一物料输送段正上方或第二物料输送段正上方的第一等离子清洗部和设于所述镂空承接段正下方的第二等离子清洗部；当物料经所述物料输送机构从所述第一物料输送段输送至所述第二物料输送机构时，所述第一等离子清洗部对应所述物料的正面，所述第二等离子清洗部对应所述物料的背面，相较原有单面清洗模式，具有明显的效率优势。具有明显的效率优势。具有明显的效率优势。

【技术实现步骤摘要】
双面流水线式等离子清洗设备


[0001]本申请涉及等离子清洗
，特别是一种双面流水线式等离子清洗设备。

技术介绍

[0002]等离子清洗技术已经越来越多的应用在工业生产、汽车制造、医疗卫生、航空航天等领域。特别是在电子工业的领域，应用越来越广。在PCB\FPC电路板的制造中，等离子清洗能有效的提升产品的表面，增加表面的活性；有效清除SMT环节松香、癸烷等残留；使焊接更牢靠更稳固。
[0003]目前在PCB\FPC电路板的制造中，等离子清洗主要有两大类设备：1、真空等离子清洗机；2、常压等离子清洗机。真空等离子清洗机因为抽真空、破真空都需要时间，并且每一次放入的产品数量有限，所以产能十分有限，因此只在特定的状况下使用。
[0004]常压等离子清洗机利用高压电离压缩空气产生等离子，并将等离子体作用于被处理产品的表面，不需要真空的处理环境，工艺气体为压缩空气，使用成本低、产能可依据需求自由搭配，能够满足PCB/FPC电路板大批量生产的需求。但由于电离压缩空气需要高压，会生产较高的热量；并且产生的等离子区域范围有限，一般有效范围在10
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20mm之间，因此常压等离子处理后的时效性较差，需要尽快使用。并且处理后的产品如果用手拿，会影响处理效果。常规的流水线式设备，为单面处理设备，处理完一面后，需人工将产品翻面再进行另一面的清洗，这样不仅效率低下还会影响处理效果。

技术实现思路

[0005]鉴于所述问题，提出了本申请以便提供克服所述问题或者至少部分地解决所述问题的一种双面流水线式等离子清洗设备，包括：
[0006]物料输送机构、设于所述物料输送机构的输送路径上的等离子清洗机构，以及用于支撑所述物料输送机构和所述等离子清洗机构的支撑架；所述物料输送机构包括沿其输送方向间隔设置的第一物料输送段、第二物料输送段，所述第一物料输送段的输送尾部和所述第二物料段的输送首部间隔之间设有镂空承接段；所述等离子清洗机构包括设于所述第一物料输送段正上方或第二物料输送段正上方的第一等离子清洗部和设于所述镂空承接段正下方的第二等离子清洗部；当物料经所述物料输送机构从所述第一物料输送段输送至所述第二物料输送机构时，所述第一等离子清洗部对应所述物料的正面，所述第二等离子清洗部对应所述物料的背面。
[0007]优选的，所述物料输送机构还包括两对称设置在所述支撑架上的侧板，所述第一物料输送段和所述第二物料输送段均为输送带结构，每一所述输送带结构的主动辊和从动辊分别转动设于两所述侧板上，所述主动辊传动连接有驱动电机，每一组所述主动辊和所述从动辊之间绕设有输送带。
[0008]优选的，所述第一物料输送段的输送带顶面和所述第二输送段的输送带顶面水平平齐。
[0009]优选的，两所述侧板之间转动设有可上、下调节的张紧辊，所述张紧辊与所述输送带底面抵接。
[0010]优选的，所述镂空承接段包括设于两所述侧板顶侧壁上的第一镂空板和设于两所述侧板对应内侧壁之间的第二镂空板，所述第一镂空板和所述第二镂空板竖直对应设置，所述第一镂空板的镂空区域和所述第二镂空板的镂空该区域分别相邻间隔设有格栅，所述第二镂空板的格栅表面与所述输送带的表面水平平齐。
[0011]优选的，两所述格栅之间的间隔距离与所述物料的高度对应。
[0012]优选的，两所述格栅交错设置。
[0013]优选的，所述第一等离子清洗部和所述第二等离子清洗部分别包括均与所述支撑架连接的第一直线往复机构和第二直线往复机构，所述第一直线往复机构和所述第二直线往复机构分别对应所述输送路径横向设置，所述第一直线往复机构和所述第二直线往复机构分别滑动设有滑动件，所述第一直线往复机构上的滑动件对应所述输送带设有第一等离子清洗组件，所述第二直线往复机构上的滑动件对应所述第二镂空板设有第二等离子清洗组件，通过所述第一直线往复机构或所述第二直线往复机构带动所述第一等离子清洗组件或所述第二等离子清洗组件均对应所述输送路径进行横向运动。
[0014]优选的，所述第一等离子清洗组件和所述第二等离子清洗组件均包括对应所述输送路径横向设置的若干个等离子喷枪。
[0015]优选的，所述支撑架上设有分别与所述物料输送机构和所述等离子清洗机构电连接的可编程逻辑控制器。
[0016]本申请具有以下优点：
[0017]在本申请的实施例中，通过本申请中的双面流水线式等离子清洗设备，包括物料输送机构、设于所述物料输送机构的输送路径上的等离子清洗机构，以及用于支撑所述物料输送机构和所述等离子清洗机构的支撑架；所述物料输送机构包括沿其输送方向间隔设置的第一物料输送段、第二物料输送段，所述第一物料输送段的输送尾部和所述第二物料段的输送首部间隔之间设有镂空承接段；所述等离子清洗机构包括设于所述第一物料输送段正上方或第二物料输送段正上方的第一等离子清洗部和设于所述镂空承接段正下方的第二等离子清洗部；当物料经所述物料输送机构从所述第一物料输送段输送至所述第二物料输送机构时，所述第一等离子清洗部对应所述物料的正面，所述第二等离子清洗部对应所述物料的背面。通过第一等离子清洗部和第二等离子清洗部对物料双面进行离子清洗，再经由物料输送机构沿单一方向输送，形成流水线作业，所被清洗的物料正反面一次性清洗，相较原有单面清洗模式，具有明显的效率优势。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对本申请的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本申请一实施例提供的一种双面流水线式等离子清洗设备的外部结构示意图；
[0020]图2是本申请一实施例提供的一种双面流水线式等离子清洗设备的内部结构示意图；
[0021]图3是本申请一实施例提供的一种双面流水线式等离子清洗设备的输送带结构示意图；
[0022]图4是本申请一实施例提供的一种双面流水线式等离子清洗设备的镂空承接段的结构示意图；
[0023]图中，1、支撑架；2、第一物料输送段；3、第二物料输送段；4、镂空承接段；4、第一等离子清洗部；5、第二等离子清洗部；6、可编程逻辑控制器；11、侧板；12、主动辊；13、从动辊；14、输送带；15、张紧辊；21、第一镂空板；22、第二镂空板；23、格栅；24、第一直线往复机构；25、第二直线往复机构；26、滑动件；27、等离子喷枪。
具体实施方式
[0024]为使本申请的所述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0025]参照图1
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图4，示出了本申请一实施例提供的一种双面流水线式等本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面流水线式等离子清洗设备，其特征在于，包括物料输送机构、设于所述物料输送机构的输送路径上的等离子清洗机构，以及用于支撑所述物料输送机构和所述等离子清洗机构的支撑架；所述物料输送机构包括沿其输送方向间隔设置的第一物料输送段、第二物料输送段，所述第一物料输送段的输送尾部和所述第二物料段的输送首部间隔之间设有镂空承接段；所述等离子清洗机构包括设于所述第一物料输送段正上方或第二物料输送段正上方的第一等离子清洗部和设于所述镂空承接段正下方的第二等离子清洗部；当物料经所述物料输送机构从所述第一物料输送段输送至所述第二物料输送机构时，所述第一等离子清洗部对应所述物料的正面，所述第二等离子清洗部对应所述物料的背面。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述物料输送机构还包括两对称设置在所述支撑架上的侧板，所述第一物料输送段和所述第二物料输送段均为输送带结构，每一所述输送带结构的主动辊和从动辊分别转动设于两所述侧板上，所述主动辊传动连接有驱动电机，每一组所述主动辊和所述从动辊之间绕设有输送带。3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一物料输送段的输送带顶面和所述第二物料输送段的输送带顶面水平平齐。4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，两所述侧板之间转动设有可上、下调节的张紧辊，所述张紧辊与所述输送带底面抵接。5.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述镂空承接段包括设于两所述侧板顶...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘善双，李鑫，周金伟，房小美，于锡静，
申请(专利权)人：深圳市奥坤鑫科技有限公司，
类型：新型
国别省市：