用于辐射源的容器制造技术

一种用于EUV辐射源的容器(16)，该容器包括：第一开口(30)，所述第一开口用于访问容器的内部(32)；第一访问构件(34)，所述第一访问构件被构造为允许或防止通过第一开口访问容器的内部；第二开口(36)，所述第二开口用于访问容器的内部，第二开口被布置于第一访问构件中；和第二访问构件(38)，所述第二访问构被布置于第一访问构件上并且被构造为允许或防止通过第二开口访问容器的内部。通过第二开口访问容器的内部。通过第二开口访问容器的内部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于辐射源的容器
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2019年12月17日递交的美国申请62/948,911的优先权，该美国申请的全部内容通过引用的方式并入本文中。


[0003]本专利技术涉及用于诸如极紫外(EUV)辐射源的辐射源的容器以及相关联的设备、系统和方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)处的图案投影至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。此辐射的波长确定可以形成于衬底上的特征的最小尺寸。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm的范围内(例如6.7nm或13.5nm)的波长的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。
[0006]光刻设备可以是光刻系统的一部分，该光刻系统也可以包括辐射源。可以使用等离子体来产生EUV辐射。可以例如通过将激光束引导在辐射源中的燃料处来产生等离子体。所得到的等离子体可以发射EUV辐射。燃料的一部分可能变成燃料碎屑，该燃料碎屑可能累积于辐射源的一个或更多个部件上。
[0007]尽管辐射源可以包括碎屑减缓系统，该碎屑减缓系统可以被构造为减少燃料碎屑在辐射源的部件上的沉积，但是例如由于燃料碎屑沉积，仍然可能存在辐射源的需要更换的一些部件。另外或替代地，辐射源的一些部件可能变得有缺陷，并且因此可能需要更换。
[0008]此类部件可能被布置于辐射源的内部并且难以访问。因此，它们的更换可能非常耗时，需要大量步骤和/或专业工具。更换这些部件所需的各个步骤可能承担对辐射源的一个或更多个部件或零件和/或所使用的工具造成损坏的风险。这些部件的更换可能导致光刻设备的较长的停工时间和/或导致较高的维修或维护成本。

技术实现思路

[0009]根据本专利技术的第一方面，提供一种用于诸如EUV辐射源的辐射源的容器，所述容器包括：第一开口，所述第一开口用于访问所述容器的内部；第一访问构件，所述第一访问构件被构造为允许或防止通过所述第一开口访问所述容器的内部；第二开口，所述第二开口用于访问所述容器的内部，所述第二开口被布置于所述第一访问构件中；和第二访问构件，所述第二访问构件被布置于所述第一访问构件上，并且被构造为允许或防止通过所述第二开口访问所述容器的内部。
[0010]第二访问构件被布置于第一访问构件上可以允许容器的紧凑型构造，例如第一访
问构件和第二访问构件。另外或替代地，例如相对于第二访问构件与第一访问构件分离地提供的布置，第二访问构件被布置于第一访问构件上可以便于访问容器的内部，和/或允许增大第一开口的大小或尺寸。
[0011]第一访问构件和第二访问构件的布置可以允许不受阻碍地访问容器的内部。这可以改善对容器的内部的访问。对容器的内部的改善的访问可能导致更换辐射源的一个或更多个部件可能必要的步骤的数目减少。例如，移除可以被布置于容器附近或前方的部件或零件可能不是必要的。另外或替代地，移动容器例如以访问容器的内部可能不是必要的。这可能导致更换辐射源的一个或更多个部件所需的时间和/或人员减少。
[0012]第一开口可以被构造为允许访问辐射源的第一部件。第一开口可以被构造为允许访问辐射源的第二部件。第一开口可以被构造为允许辐射源的第一部件和/或第二部件通过第一开口。
[0013]第二开口可以被构造为允许访问辐射源的第二部件。第二开口可以被构造为允许辐射源的第二部件通过第二开口。
[0014]容器能够在封闭构造、第一敞开构造和第二敞开构造中的至少两个构造之间操作。
[0015]在容器的封闭构造中，第一访问构件和第二访问构件可以被构造为防止访问容器的内部。在容器的第一敞开构造中，第一访问构件可以被构造为允许通过第一开口访问容器的内部。在容器的第二敞开构造中，第二访问构件可以被构造为允许通过第二开口访问容器的内部。
[0016]容器可以包括用于将一个或更多个量测模块或检查设备安装至容器的安装部分。安装部分可以是第一访问构件的一部分或者被包括于第一访问构件中。因此，移除一个或更多个量测模块或检查设备例如以访问辐射源的第二部件可以不是必要的。这可能导致更换辐射源的第二部件所需的时间和/或步骤的数目减少。已经发现，步骤减少也可以导致对辐射源的一个或更多个部件、容器和/或用于更换辐射源的第二部件的工具造成损坏的风险降低。
[0017]安装部分可以被构造为相对于容器的内部中的参考点来安装一个或更多个量测模块或检查设备。
[0018]第二访问构件可以与安装部分分离地布置。第二访问构件可以被布置于安装部分下方。
[0019]根据本专利技术的第二方面，提供一种用于诸如EUV辐射源的辐射源的容器，所述容器包括：开口，所述开口用于访问所述容器的内部；和访问构件，所述访问构件被构造为允许或防止通过所述开口访问所述容器的内部，其中，所述访问构件包括用于将一个或更多个量测模块或检查设备安装至所述容器的安装部分。
[0020]容器能够在封闭构造与敞开构造之间操作。
[0021]在容器的封闭构造中，访问构件可以被构造为防止访问容器的内部。在容器的敞开构造中，访问构件可以被构造为允许通过开口访问容器的内部。
[0022]第二方面所述的容器可以包括根据第一方面所述的容器的特征中的任一个。
[0023]根据本专利技术的第三方面，提供一种诸如EUV辐射源的辐射源，所述辐射源包括根据第一方面和/或第二方面所述的容器。
[0024]辐射源可以包括碎屑减缓系统。碎屑减缓系统可以被构造为模块化的。
[0025]辐射源可以包括第一部件。辐射源的第一部件可以包括辐射源的碎屑减缓系统的至少一部分或全部。
[0026]辐射源可以包括第二部件。辐射源的第二部件可以包括以下各项中的至少一项：收集器反射镜，所述收集器反射镜用于收集在辐射源的等离子体形成区处发射的辐射；和燃料收集器，所述燃料收集器用于收集在辐射源的等离子体形成区处产生的燃料碎屑。
[0027]根据本专利技术的第四方面，提供一种光刻系统，所述光刻系统包括光刻设备和根据第三方面所述的辐射源。
[0028]根据本专利技术的第五方面，提供一种更换诸如EUV辐射源的辐射源的至少第一部件的方法，所述辐射源包括根据第一方面所述的容器，所述方法包括：操作第一访问构件，以允许通过第一开口访问容器的内部；移除待更换的至少所述第一部件；安装待使用的至少另一个第一部件；以及操作第一访问构件，以防止通过第一开口访问容器的内部。
[0029]根据本专利技术的第六方面，提供一种更换诸如EUV辐射源的辐射源的第二部件的方法，所述辐射源包括根据第一方面所述的容器，所述方法包括：操作第二访问构件，以允许通过第二开口访问容器的内部；移除待更换的所述第二部件；安装待使用的另一个第二部件；以及操作第二访问构件，以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于EUV辐射源的容器，所述容器包括：第一开口，所述第一开口用于访问所述容器的内部；第一访问构件，所述第一访问构件被构造为允许或防止通过所述第一开口访问所述容器的内部；第二开口，所述第二开口用于访问所述容器的内部，所述第二开口被布置于所述第一访问构件中；和第二访问构件，所述第二访问构件被布置于所述第一访问构件上，并且被构造为允许或防止通过所述第二开口访问所述容器的内部。2.如权利要求1所述的容器，其中，所述第一开口被构造为允许访问所述辐射源的第一部件和第二部件，并且允许所述辐射源的所述第一部件和/或所述第二部件行进通过所述第一开口。3.如权利要求2所述的容器，其中，所述第二开口被构造为允许访问所述辐射源的所述第二部件，并且允许所述辐射源的所述第二部件行进通过所述第二开口。4.如前述权利要求中的任一项所述的容器，其中，所述容器能够在封闭构造、第一敞开构造和第二敞开构造中的至少两个构造之间操作。5.如权利要求4所述的容器，其中，在所述容器的所述封闭构造中，所述第一访问构件和所述第二访问构件被构造为防止访问所述容器的内部，其中，在所述容器的所述第一敞开构造中，所述第一访问构件被构造为允许通过所述第一开口访问所述容器的内部，和/或其中，在所述容器的所述第二敞开构造中，所述第二访问构件被构造为允许通过所述第二开口访问所述容器的内部。6.如前述权利要求中的任一项所述的容器，其中，所述容器包括用于将一个或更多个量测模块或检查设备安装至所述容器的安装部分，所述安装部分是所述第一访问构件的一部分或者被包括于所述第一访问构件中。7.如权利要求6所述的容器，其中，所述安装部分被构造为相对于所述容器的内部中的参考点...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：