一种矩阵式框架辅助下料装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种矩阵式框架辅助下料装置，包括水平设置的底板，所述底板上设置有两个并排布置的辅助机构；所述辅助机构包括设置在底板底部的底箱，所述底箱上呈矩阵分布有多个辅助组件；所述辅助组件包括固定管和挤压单元，所述固定管竖向依次穿过底箱的顶部和底板，所述固定管与底箱连通，所述固定管与底板固定连接，所述固定管的顶端上周向均匀设置有多个支撑块，所述挤压单元与底箱连接。该矩阵式框架辅助下料装置，其可以推动框架与石墨舟分离，提高下料的便捷性，而且，还可以实现对框架的散热，防止烫伤，同时，通过弹簧的弹性作用，还可以实现缓冲和减震的功能。还可以实现缓冲和减震的功能。还可以实现缓冲和减震的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种矩阵式框架辅助下料装置


[0001]本技术涉及一种矩阵式框架辅助下料装置，属于半导体元器件生产领域。

技术介绍

[0002]半导体是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，框架是半导体生产过程中晶片的载体，而框架在烧结工序完毕并从烧结炉中取出时，框架是通过定位针直接固定在石墨舟上的，取下的时候需要把石墨舟悬空倒置，使框架掉落在桌面上，会有框架变形、芯片破损、芯片裂缝等风险，另外，石墨舟定位针和框架的定位孔还会卡住，使框架难以取下。因此，需要有一种矩阵式框架辅助下料装置，便于取下石墨舟上的框架。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是：为了克服现有技术的不足，提供一种矩阵式框架辅助下料装置。
[0004]本技术解决上述问题所采用的技术方案为：一种矩阵式框架辅助下料装置，包括水平设置的底板，所述底板上设置有两个并排布置的辅助机构；
[0005]所述辅助机构包括设置在底板底部的底箱，所述底箱上呈矩阵分布有多个辅助组件；
[0006]所述辅助组件包括固定管和挤压单元，所述固定管竖向依次穿过底箱的顶部和底板，所述固定管与底箱连通，所述固定管与底板固定连接，所述固定管的顶端上周向均匀设置有多个支撑块，所述挤压单元与底箱连接。
[0007]作为优选，所述支撑块的顶部设置有凹槽，所述凹槽内滚动连接有滚珠。
[0008]作为优选，所述滚珠的球径大于凹槽的槽口宽度。
[0009]作为优选，所述底板的两侧均固定设置有把手。
[0010]作为优选，所述底板的顶部呈矩阵分布有多个限位装置。
[0011]作为优选，所述限位装置为竖向设置的橡胶杆。
[0012]与现有技术相比，本技术的优点在于：
[0013]本技术一种矩阵式框架辅助下料装置，其可以推动框架与石墨舟分离，提高下料的便捷性，而且，还可以实现对框架的散热，防止烫伤。
附图说明
[0014]图1为本技术一种矩阵式框架辅助下料装置的下料状态的结构示意图；
[0015]图2为图1的A部放大图。
[0016]其中：1.底板，2.底箱，3.固定管，4.支撑块，5.挤压杆，6.弹簧，7.凹槽， 8.滚珠，9.把手，10.橡胶杆，11.石墨舟，12.框架，13.通孔。
具体实施方式
[0017]如图1
‑
2所示，本实施例中的一种矩阵式框架辅助下料装置，包括水平设置的底板1，所述底板1的两侧均固定设置有把手9，所述底板1的顶部呈矩阵分布有多个限位装置，所述限位装置为竖向设置的橡胶杆10，所述底板1上设置有两个并排布置的辅助机构；
[0018]所述辅助机构包括设置在底板1底部的底箱2，所述底箱2上呈矩阵分布有多个辅助组件；
[0019]所述辅助组件包括固定管3和挤压单元，所述固定管3竖向依次穿过底箱2 的顶部和底板1，所述固定管3与底箱2连通，所述固定管3与底板1固定连接，所述固定管3的顶端上周向均匀设置有多个支撑块4，所述支撑块4的顶部设置有凹槽7，所述凹槽7内滚动连接有滚珠8，所述滚珠8的球径大于凹槽7的槽口宽度，所述挤压单元与底箱2连接。
[0020]石墨舟11由两个并排布置的石墨片组成，而石墨舟11的顶部均水平放置有与石墨片一一对应的两个框架12，且石墨舟11上均会开设有多个通孔13，而实际上，固定管3与通孔13一一对应，当石墨舟11放置在底板1的顶部过程中，则使固定管3穿过通孔13，而当框架12与支撑块4上的滚珠8抵靠后，随着石墨舟11的继续下降，通过滚珠8顶住框架12，则可以使石墨舟11与框架12分离，且石墨舟11下降时，并通过挤压单元使底箱2内的空气受到挤压并输送至固定管3内，固定管3内的空气从固定管3的顶端排出并作用到框架12上，从而可以实现框架12的散热，防止发生烫伤，之后，将框架12移开即完成下料，这里，通过滚珠8可以减小支撑块4与框架12之间的摩擦力，防止框架12磨损，而且，通过支撑块4还可以防止框架12堵住固定管3的顶端，便于固定管3排气，框架12移除后，再移除石墨舟11。
[0021]除上述实施例外，本技术还包括有其他实施方式，凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案，均应落入本技术权利要求的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种矩阵式框架辅助下料装置，其特征在于：包括水平设置的底板（1），所述底板（1）上设置有两个并排布置的辅助机构；所述辅助机构包括设置在底板（1）底部的底箱（2），所述底箱（2）上呈矩阵分布有多个辅助组件；所述辅助组件包括固定管（3）和挤压单元，所述固定管（3）竖向依次穿过底箱（2）的顶部和底板（1），所述固定管（3）与底箱（2）连通，所述固定管（3）与底板（1）固定连接，所述固定管（3）的顶端上周向均匀设置有多个支撑块（4），所述挤压单元与底箱（2）连接。2.根据权利要求1所述的一种矩阵式框架辅助下料装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐海军，杨吉明，周琦，芮聪，
申请(专利权)人：江苏海德半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：