提供减小被处理物的输送的偏差的连续烧成炉。连续烧成炉包括炉体、输送辊、输送辊的支承构造、驱动装置。炉体具有第1侧壁和第2侧壁。输送辊的支承构造包括:第1支承框架;第1支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于第1支承框架,支承输送辊的贯穿第1侧壁的第1端部;第2支承框架;以及第2支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于第2支承框架,支承输送辊的贯穿第2侧壁的第2端部。多个输送辊中的一部分第1辊组在第1支承构件安装有链轮,连接于驱动装置。多个输送辊中的除了第1辊组以外的第2辊组在第2支承构件安装有链轮,连接于驱动装置。连接于驱动装置。连接于驱动装置。
Continuous firing furnace
【技术实现步骤摘要】
连续烧成炉
[0001]本公开涉及一种连续烧成炉。
技术介绍
[0002]连续烧成炉是在输送被处理物的同时连续地进行加热处理的烧成炉。连续烧成炉包括通过驱动多根输送辊旋转,从而在输送被处理物的同时实施热处理的烧成炉。这样的连续烧成炉也被称为辊道窑。
[0003]在日本国特许出愿公开2019
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172436号公报中公开了关于将输送辊支承为能够旋转的支承轴调整支承输送辊端部的内周面的面的宽度的技术。在日本国特许出愿公开2010
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43816号公报中公开了包含能够使冷却流体流通的支承轴和支承板的加热炉用输送辊支承装置。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本国特许出愿公开2019
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172436号公报
[0007]专利文献2:日本国特许出愿公开2010
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43816号公报
技术实现思路
[0008]专利技术要解决的问题
[0009]另外,在辊道窑中,能够将炉内的构成要素设为陶瓷制。通过将炉内的构成要素设为陶瓷制,从而防止在烧成中金属异物混入。此外,能够沿着输送路径变更温度、成分等炉内的气氛。因此,能够在控制炉内的气氛的同时均匀地烧成。在上述那样的连续烧成炉中,例如,用于半导体材料、电池活性物质材料等的颗粒放入到被称为给定器的容器而输送并同时烧成。给定器也能够重叠多层地输送。通过将给定器重叠多层地输送,能够提高生产率。
[0010]另外,近年,使用连续烧成炉的使用者的需求高度化。例如,要求像用于半导体材料、电池活性物质材料等的颗粒那样使被处理物微细化并均匀且适当地烧成。为了应对这样的需求,将颗粒状的被处理物较薄地排列于平坦的给定器,进而利用输送辊逐层输送给定器而烧成。其结果,能够将较薄地排列于给定器的被处理物均匀地烧成。在增加处理量的情况下,有时在输送辊将给定器排列成多列地输送。另一方面,在本专利技术者尝试之后,发现如下倾向:若将较薄地排列有被处理物的给定器排列成多列地输送,则从入口输送的给定器中的一列给定器相对于另一列给定器先行到达出口。为了将被处理物按照预期那样精度较佳且均匀地烧成,还期望输送的给定器的输送速度从入口到出口为止偏差不大。
[0011]用于解决问题的方案
[0012]在此公开的一技术方案的连续烧成炉包括炉体、多个输送辊、输送辊的支承构造、驱动装置。炉体是包围直线状的输送空间的隧道状的炉体。连续烧成炉具有:第1侧壁,其设于输送空间的宽度方向的单侧;以及第2侧壁,其设于与第1侧壁相反的那一侧。多个输送辊
沿着设定于输送空间的输送方向排列。多个输送辊的各输送辊是圆筒轴状的辊,架设于第1侧壁和第2侧壁,并且,贯穿于第1侧壁和第2侧壁。输送辊的支承构造包括:第1支承框架,其配置于第1侧壁的外侧;第1支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于第1支承框架,支承输送辊的贯穿第1侧壁的第1端部;第2支承框架,其配置于第2侧壁的外侧;以及第2支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于第2支承框架,支承输送辊的贯穿第2侧壁的第2端部。多个输送辊中的一部分第1辊组在第1支承构件安装有链轮,连接于驱动装置。多个输送辊中的除了第1辊组以外的第2辊组在第2支承构件安装有链轮,连接于驱动装置。
[0013]根据该连续烧成炉,在将被处理物在输送辊的轴向上排列成多列地输送时,也能够减小输送的偏差。
[0014]也可以是,驱动装置包括连接于第1辊组的第1支承构件的第1驱动装置和连接于第2辊组的第2支承构件的第2驱动装置。
[0015]也可以是,连续烧成炉在输送方向上包括第1辊组所包含的输送辊相邻的区域和第2辊组所包含的输送辊相邻的区域。
[0016]也可以是,连续烧成炉包括多个第1辊组所包含的输送辊相邻的区域和第2辊组所包含的输送辊相邻的区域中的至少一者。
[0017]也可以是,输送辊的支承构造在输送辊的两端还具备螺旋弹簧。此时,可以是,螺旋弹簧分别以压缩的状态配置于输送辊的第1端部的端面与第1支承构件之间和输送辊的第2端部的端面与第2支承构件之间。
[0018]也可以是,第1辊组所包含的输送辊的根数是第1辊组和第2辊组所包含的输送辊的根数的总和的0.4以上且0.6以下。
附图说明
[0019]图1是示意地表示连续烧成炉10的纵剖视图。
[0020]图2是连续烧成炉10的横剖视图。
[0021]图3是表示连续烧成炉10的侧面的局部的示意图。
[0022]图4是支承输送辊12的第1支承构件21的放大图。
[0023]图5是支承输送辊12的第2支承构件22的放大图。
[0024]图6A是连续烧成炉10A的示意图。
[0025]图6B是连续烧成炉10的示意图。
[0026]附图标记说明
[0027]10、连续烧成炉;11、炉体;11a、输送空间;11b、入口;11c、出口;12、输送辊;12a、第1端部;12b、第2端部;12A、第1辊组;12B、第2辊组;13、被处理物;14、基座;14a、下侧框架;14b、支柱框架;14c、上侧框架;14d、脚;16、围板;16a、隔热材料;21、第1支承构件;21a、基端部;21b、弹簧座部;21c、插入轴部;22、第2支承构件;22a、基端部;22b、弹簧座部;22c、插入轴部;31、炉壁;31a、第1侧壁;31b、第2侧壁;32、贯穿孔;34、加热器;50、支承构造;50a、支承构造(驱动侧);50b、支承构造(从动侧);51、基体;52、支柱;53、支承框架;53a、第1支承框架;53b、第2支承框架;54、罩;55、安装孔;61、螺旋弹簧;64、轴承;65、间隔件;66、挡圈;68、链轮;70、70A、动力传递机构;71、辊链机构;72、动力传递部;81、轴;82、82a、链轮;83、辊链;90、驱动装置(马达);91、94、95、联轴器;92、97、减速器;93、96、离合器;98、把手;R1、第1区
域;R2、第2区域;R3、第3区域;R4、第4区域。
具体实施方式
[0028]以下,参照附图,详细地说明本公开的典型的实施方式之一。另外,在以下的附图中,对起到相同的作用的构件、部位标注相同的附图标记来说明。此外,各图中的尺寸关系(长度、宽度、厚度等)不反映实际的尺寸关系。
[0029]图1是示意地表示连续烧成炉10的纵剖视图。图2是连续烧成炉10的横剖视图。连续烧成炉10是所谓的辊道窑。如图1和图2所示,连续烧成炉10包括炉体11、多个输送辊12、输送辊12的支承构造50、动力传递机构70、驱动装置90。在图2中,示意地图示输送辊12的支承构造50、动力传递机构70以及驱动装置90。另外,在图2中,在炉体11和基座14中示出各不相同的截面。在炉体11中,示出输送辊12贯穿于炉体11的截面。此外,在基座14中,图示配置有动力传递机构70和作为驱动装置90的马达的部位。图3是表示连续烧成炉10本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种连续烧成炉,其中,该连续烧成炉包括:炉体;多个输送辊;所述输送辊的支承构造;以及驱动装置,所述炉体是包围直线状的输送空间的隧道状的炉体,具有:第1侧壁,其设于所述输送空间的宽度方向的单侧;以及第2侧壁,其设于与所述第1侧壁相反的那一侧,所述多个输送辊沿着设定于所述输送空间的输送方向排列,所述多个输送辊的各输送辊是圆筒轴状的辊,架设于所述第1侧壁和所述第2侧壁,并且,贯穿于所述第1侧壁和所述第2侧壁,所述输送辊的支承构造包括:第1支承框架,其配置于所述第1侧壁的外侧;第1支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于所述第1支承框架,支承所述输送辊的贯穿所述第1侧壁的第1端部;第2支承框架,其配置于所述第2侧壁的外侧;以及第2支承构件,其借助轴承能够旋转地支承于所述第2支承框架,支承所述输送辊的贯穿所述第2侧壁的第2端部,所述多个输送辊中的一部分第1辊组在所述第1支承构件安装有链轮,连接于所述驱动装置,所述多个输送辊中的除了所述第1辊组以外的第2辊组在所述第2支承构件安装有链轮,连接于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:冈岛上士,中岛千浩,
申请(专利权)人:株式会社则武,
类型:发明
国别省市:
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