用于重负载对准的平坦头部单元制造技术

一种掩模框架支撑单元，包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域和圆柱形区域。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。支撑机构、和对中部件。支撑机构、和对中部件。

Flat head unit for heavy load alignment

【技术实现步骤摘要】
用于重负载对准的平坦头部单元


[0001]本说明书总体涉及电子器件制造。更具体地，本说明书涉及用于重负载对准的平坦头部单元。

技术介绍

[0002]电子器件制造设备可包括多个腔室，诸如工艺腔室和装载锁定腔室。这样的电子器件制造设备可在传送腔室中采用机器人设备，该机器人设备被配置为在多个腔室之间运输基板。在一些情况下，一起传送多个基板

技术实现思路

[0003]以下是本公开内容的简化概述，以便提供对本公开内容的一些方面的基本理解。该概述并非是本公开内容的广泛综述。该概述既不旨在标识本公开内容的关键或重要要素，也不旨在界定本公开内容的特定实现方式的任何范围或权利要求的任何范围。该概述的唯一目的是以简化形式呈现本公开内容的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的前序。
[0004]根据一个实施方式，提供一种掩模框架支撑单元。所述掩模框架支撑单元包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸；和工作站(station)，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述突出主体包括渐缩区域(tapered region)和圆柱形区域(cylindrical region)。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。
[0005]根据另一个实施方式，提供一种设备。所述设备包括：掩模框架；对准轴，所述对准轴包括具有开口的中空圆柱体；和多个掩模框架支撑单元，所述多个掩模框架支撑单元包括平坦头部单元。所述平坦头部单元包括：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸并且经由所述开口整合到所述对准轴中；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部。所述壳体容纳多个部件，包括与所述工作站接触的上接收板、设置在所述上接收板下方的下接收板、设置在所述下接收板与所述主体之间的平坦头部单元移动支撑机构、和对中部件。
[0006]根据又一个实施方式，提供一种形成掩模框架支撑单元的方法。所述方法包括：将上接收板和下接收板插入壳体内；在所述壳体内形成对中部件；将突出主体固定到所述壳体的底部；和将具有平坦头部的工作站固定到所述壳体的顶部。所述突出主体包括渐缩区域和圆柱形区域。所述渐缩区域包括耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部，并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部。所述第二直径小于所述第一直径，并且所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域。
附图说明
[0007]从以下给出的详细描述和从附图将更全面地理解本公开内容的方面和实现方式，附图旨在以示例而非限制的方式说明方面和实现方式。
[0008]图1是根据一些实施方式的包括平坦头部单元的设备的透视图。
[0009]图2是根据一些实施方式的包括平坦头部单元的设备的截面图。
[0010]图3是根据一些实施方式的平坦头部单元的示意图。
[0011]图4A是根据一些实施方式的平坦头部单元的截面图。
[0012]图4B是根据一些实施方式的在从中间(neutral)位置移动到偏移位置之后的图4A的平坦头部单元的截面图。
[0013]图5A
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图5H图示根据一些实施方式的形成平坦头部单元的示例工艺流程。
[0014]图6是根据一些实施方式的用于形成包括平坦头部单元的设备的方法的流程图。
[0015]图7A
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图7C是根据一些实施方式的掩模对准系统的俯视图。
具体实施方式
[0016]电子器件处理系统可包括视觉对准技术，该视觉对准技术可使得制造商能够通过减少或消除光刻和/或蚀刻处理系统来降低生产成本。例如，常规的视觉系统可包括放置在视觉轴的顶部上的多个滚珠传送单元(ball transfer unit；BTU)，以在视觉对准期间提供掩模支撑。更具体地，每个BTU包括滚珠(例如在外壳内的陶瓷滚珠)，掩模框架可安置在该滚珠上以支撑掩模框架的重量，同时仍然允许掩模框架的某种移动。然而，在掩模框架与BTU的滚珠之间的小接触点或接触表面积可能因在接触点处的集中压力而导致掩模框架中形成不期望变形(例如凹痕)或痕迹(例如划痕)，特别是如果放置在BTU上的掩模框架足够重的话。
[0017]本公开内容的方面和实现方式通过提供平坦头部单元以提供(重)负载(load)对准来解决现有技术的这些和其他缺点。例如，本文描述的平坦头部单元可用于提供负载对准，同时减少或消除在负载上的变形(例如凹痕)或痕迹(例如划痕)的发生。更具体地，本文描述的平坦头部单元可提供与负载(诸如掩模框架之类)的更大接触点、或增大的接触表面积，以使得能够减少或消除变形(例如局部变形)。本文描述的平坦头部单元可进一步支持负载在X
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Y平面中的自由运动范围。例如，本文描述的平坦头部单元可被设计为在任何X
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Y方向上从中心移动例如约7.5毫米(mm)。为了实现这样的运动，本文描述的平坦头部单元可包括平坦头部移动支撑机构，该平坦头部移动支撑机构用于支撑负载并且使得所述单元能够移动。例如，本文描述的平坦头部单元可被体现为包括设置在滚珠保持器(retainer)中的一组滚珠的平坦头部滚珠(FHB)单元。本文描述的平坦头部单元可进一步包括对中(centering)部件或对中机构，该对中部件或对中机构可在该平坦头部单元上不存在负载时将平坦头部单元带回到中心。例如，对中部件可包括一组拉伸弹簧。
[0018]为了简单和说明起见，本文描述的实施方式将参考其中平坦头部单元被体现为具有圆形表面的实施方式。然而，本文描述的平坦头部单元的表面可具有任何合适的几何形状以提供根据本文描述的实施方式的负载对准。用于平坦头部单元的表面的其他合适的几何形状的示例包括椭圆形、多边形(例如四边形、六边形、八边形)等。
[0019]在一些实施方式中，平坦头部单元可被实现为在包括掩模框架的设备内的掩模框
架支撑单元。在这样的实施方式中，平坦头部单元可支撑放置在该平坦头部单元上的掩模片的重量，由此减少或消除掩模变形(例如凹痕)的发生。例如，可在视觉系统内利用多个平坦头部单元，其中每个平坦头部单元与对应轴(例如惰视觉轴(idle vision shaft))相关联。说明性地，本文描述的平坦头部单元可被实现在包括薄膜封装(TFE)系统的电子器件处理系统内。TFE系统可用于在电子器件处理期间形成薄膜阻挡物(例如有机发光二极管(OLED)器件)。例如，TFE系统可用于使得能够形成柔性有机发光二极管(OLED)器件，该器件具有薄膜阻挡物作为基板材料(与诸如玻璃之类的其他材料相反)，这可降低成本并且实现更轻且更薄的OLED显示器。TFE系统可以是例如TFE化学气相沉积(CVD)(TFE CVD)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模框架支撑单元，包含：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸，所述突出主体包含渐缩区域和圆柱形区域，所述渐缩区域包含耦接到所述壳体的具有第一直径的第一端部并且包含与所述第一端部相对的具有第二直径的第二端部，其中所述第二直径小于所述第一直径，并且其中所述渐缩区域在所述第二端部处耦接到所述圆柱形区域；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部；其中所述壳体容纳多个部件，所述多个部件包含：上接收板，所述上接收板与所述工作站接触；下接收板，所述下接收板设置在所述上接收板下方；平坦头部单元移动支撑机构，所述平坦头部单元移动支撑机构设置在所述下接收板与所述突出主体之间；和对中部件。2.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述平坦头部移动支撑机构包含设置在滚珠保持器中的一组滚珠。3.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述对中部件包含一组拉伸弹簧，每个拉伸弹簧具有附接到所述壳体的第一端部和附接到对中环的第二端部。4.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述壳体是圆形壳体，并且所述平坦头部是圆形平坦头部。5.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中所述对中部件响应于设置在所述工作站上的负载的移除而将所述工作站对中到中间位置。6.如权利要求1所述的掩模框架支撑单元，其中：所述突出主体具有在约30mm与约50mm之间的高度和在约31.2mm与约41.2mm之间的长度；所述壳体具有在约34mm与约36mm之间的高度和在约65mm与约75mm之间的长度；并且所述工作站具有在约10mm与约16mm之间的高度和在约52mm与约60mm之间的长度。7.如权利要求6所述的掩模框架支撑单元，其中：所述突出主体具有约40.1mm的高度和约36.2mm的长度；所述壳体具有约34.75mm的高度和约70mm的长度；并且所述工作站具有约13mm的高度和约56mm的长度。8.一种系统，所述系统包含：掩模框架；对准轴，所述对准轴包含具有开口的中空圆柱体；和多个掩模框架支撑单元，所述多个掩模框架支撑单元包含平坦头部单元，所述平坦头部单元包含：壳体；突出主体，所述突出主体在所述壳体下方延伸并且经由所述开口整合在所述对准轴中；和工作站，所述工作站具有设置在所述壳体上方的平坦头部；
其中所述壳体容纳多个部件，所述多个部件包含：上接收板，所述上接收板与所述工作站接触；下接收板，所述下接收板设置在所述上接收板下方；平坦头部单元移动支撑机构，所述平坦头部单元移动支撑机构设置在所述下接收板与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：哈桑，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：