用于玩具的光电晶体管制造技术

技术编号:34305466 阅读:64 留言:0更新日期:2022-07-27 16:12
本实用新型专利技术涉及用于玩具的光电晶体管,集电区上依次设有反型半导体的基区和同型半导体的发射区,其特征在于,所述集电区为正方形,所述基区呈圆角正方形,位于集电区中央;基区一角有圆弧状凹陷,使其一角缺失;所述发射区沿基区缺失角走势设置,呈半圆环状,发射区上依次沉积氮化硅层和碳纳米层。本实用新型专利技术的光电晶体管呈方形结构,尺寸仅有0.51mm

Phototransistor for toys

【技术实现步骤摘要】
用于玩具的光电晶体管


[0001]本技术涉及半导体功率器件,特别涉及一种用于玩具的光电晶体管。

技术介绍

[0002]光电晶体管是一种依靠曝光工作的电子开关和电流放大组件,可用于有源模式也可用于开关模式,其基极暴露,光线入射基极表面时激活光电晶体管。光电晶体管和光电二极管不同,其工作不依赖外部放大器,而根据其应用范围的区别,对其尺寸、光谱范围、电流大小等也有不同的要求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于玩具的光电晶体管。
[0004]为实现上述技术目的,本技术采用如下技术方案:
[0005]一种光电晶体管,集电区上依次设有反型半导体的基区和同型半导体的发射区,所述集电区为正方形,所述基区呈圆角正方形,位于集电区中央;基区一角有圆弧状凹陷,使基区一角缺失;所述发射区沿基区缺失角走势设置,呈半圆环状,发射区上依次沉积氮化硅层和碳纳米层。
[0006]作为本技术的进一步改进,所述圆弧状凹陷对应的完整圆位于基区内且接近基区外边缘。
[0007]作为本技术的进一步改进,所述圆弧状凹陷对应的完整圆的直径小于基区边长的一半。
[0008]作为本技术的进一步改进,所述发射区上沉积的氮化硅层、碳纳米层宽度小于发射区宽度。
[0009]作为本技术的进一步改进,所述发射区上沉积的氮化硅层、碳纳米层位于发射区中部。
[0010]作为本技术的进一步改进,基区缺失角对角侧沉积方形氮化硅层,所述方形氮化硅层上设有等平面尺寸的碳纳米层。
[0011]作为本技术的进一步改进,所述集电区上边缘设有保护环结构,所述保护环结构和发射区掺杂浓度相同。
[0012]作为本技术的进一步改进,所述保护环结构上依次沉积氮化硅层和碳纳米层。
[0013]作为本技术的进一步改进,所述保护环结构的上沉积的氮化硅层、碳纳米层宽度小于保护环结构宽度,且保护环结构的上沉积的氮化硅层、碳纳米层外边缘与保护环结构外边缘齐平。
[0014]作为本技术的进一步改进,所述保护环结构的上沉积的氮化硅层、碳纳米层宽度为保护环结构宽度的一半。
[0015]本技术的光电晶体管呈方形结构,尺寸仅有0.51mm
×
0.51mm,而直流电流放
大系数可达1100~1900,并具有稳定的性能,可用于玩具如光控电动玩具。
附图说明
[0016]图1为晶体管平面结构示意图。
[0017]图2为基区平面结构图。
[0018]图3为同沉积浓度的保护环和发射区平面结构图。
[0019]图4为氮化硅层平面结构图。
[0020]图5为碳纳米层平面结构图。
具体实施方式
[0021]如图1

5所示的光电晶体管,晶体管尺寸为0.51mm
×
0.51mm。
[0022]集电区1上依次设有反型半导体的基区2和同型半导体的发射区3,集电区1为正方形,如图2所示,基区2呈圆角正方形,位于集电区1中央;基区2一角有圆弧状凹陷21,使其一角缺失;如图3所示,发射区3沿基区缺失角走势设置,呈半圆环状,发射区上依次沉积氮化硅层5和碳纳米层6,如图4、5所示,氮化硅层和碳纳米层平面形状相同。
[0023]如图2所示,圆弧状凹陷对应的完整圆位于基区内且接近基区外边缘,圆弧状凹陷对应的完整圆的直径小于基区边长的一半。
[0024]基区缺失角对角侧沉积方形氮化硅层,方形氮化硅层上设有等平面尺寸的碳纳米层。
[0025]如图3所示,集电区上边缘设有保护环结构4,所述保护环结构4和发射区3掺杂浓度相同。
[0026]保护环结构4上依次沉积氮化硅层5和碳纳米层6,保护环结构4的上沉积的氮化硅层5、碳纳米层6宽度为保护环结构4宽度的一半,且保护环结构4的上沉积的氮化硅层5、碳纳米层外6边缘与保护环结构4外边缘齐平。
[0027]本实施例的晶体管,V
CBO
=30V,V
ECO
=5V,hFE=1100~1900,光谱灵敏度为450~1100nm。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于玩具的光电晶体管,集电区上依次设有反型半导体的基区和同型半导体的发射区,其特征在于,所述集电区为正方形,所述基区呈圆角正方形,位于集电区中央;基区一角有圆弧状凹陷,使基区一角缺失;所述发射区沿基区缺失角走势设置,呈半圆环状,发射区上依次沉积氮化硅层和碳纳米层。2.根据权利要求1所述的光电晶体管,其特征在于,所述发射区上沉积的氮化硅层、碳纳米层宽度小于发射区宽度。3.根据权利要求2所述的光电晶体管,其特征在于,所述发射区上沉积的氮化硅层、碳纳米层位于发射区中部。4.根据权利要求1所述的光电晶体管,其特征在于,基区缺失角对角侧沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔峰敏
申请(专利权)人:傲迪特半导体南京有限公司
类型:新型
国别省市:

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