一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台，包括平台底座，平台底座上设有用于吸附硅片的吸附模块，平台底座上还滑动连接有预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块，预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块分别位于吸附模块的四周；平台底座上还设有废液导流槽，废液导流槽的一端连接有废液收集器，废液导流槽的另一端连通至平台底座的顶面，且位于预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块围成的区域之间。本申请通过设计的废液导流槽和废液收集器能够保证对渗透下去的涂布液进行清理，防止污染硅片的背面。止污染硅片的背面。止污染硅片的背面。

A silicon wafer adsorption platform for coating double-sided structure

【技术实现步骤摘要】
一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台


[0001]本技术涉及涂布机
，具体涉及一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台。

技术介绍

[0002]近些年，涂布机的应用越来越广泛，而涂布机的应用于一种双面结构硅片制备工艺上，在硅片的固定结构和吸附方式也产生了很多难题。由于双面结构硅片制程的特殊性，需要涂布覆盖全部区域，所以涂布范围要覆盖硅片全部区域，且涂布液不可以污染硅片背面。而目前市面上的普通吸附平台只能提供简单的吸附力，不具有可以满足此工艺特性的能力，且工作效率较低，涂布液不可以污染平台。因此，其改进和创新势在必行。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台，以解决现有技术中双面结构的硅片涂布过程中易污染硅片背面的问题。
[0004]为达到上述目的，本技术是采用下述技术方案实现的：
[0005]一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台，包括平台底座，所述平台底座上设有用于吸附硅片的吸附模块，平台底座上还滑动连接有预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块，所述预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块分别位于所述吸附模块的四周；
[0006]所述平台底座上还设有废液导流槽，所述废液导流槽的一端连接有废液收集器，所述废液导流槽的另一端连通至所述平台底座的顶面，且位于所述预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块围成的区域之间。
[0007]进一步地，所述废液导流槽和所述废液收集器之间设有负压装置。负压装置用于瞬间吸收涂布时在硅片边缘渗透下去的涂布液，防止污染硅片背面。
[0008]进一步地，所述吸附模块上设有若干吸着孔。
[0009]进一步地，所述吸着孔的孔径为：1
‑
5mm。
[0010]进一步地，所述相邻两个所述吸着孔之间的间隔为：5
‑
50mm。
[0011]吸着孔的孔位、孔隙、孔间隔可根据实际需求进行定制，如需吸力大，则孔位较少，孔隙较大，孔间隔较大；如需吸力均匀，则孔位较多，孔隙较小，孔间隔较小，以保证对硅片的吸附效果。
[0012]进一步地，还包括固定连接在所述平台底座上的前挡板和后挡板，所述前挡板和后挡板分别设置在所述吸附模块的两侧。
[0013]前挡板和后挡板的形状和尺寸可根据硅片的形状和尺寸进行定制，以更好的适应硅片，通过前挡板和后挡板的设计，使硅片的前后侧分别和前挡板和后挡板接触，以保证固定硅片的效果。
[0014]进一步地，所述前挡板的顶面和后挡板顶面在同一平面，高度高于所述吸附模块的顶面高度，小于所述预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块的顶面高度。
[0015]进一步地，所述预涂区模块、收尾模块和夹紧模块和平台底座上的滑道相连接，通过螺钉锁紧。
[0016]通过此种设计便于预涂区模块、收尾模块和夹紧模块在平台底座上的滑动和锁紧，也可对预涂区模块和收尾模块进行更换，以使其材料可根据在硅片上涂布使用的涂布液特性进行更改，更好的适应涂布的需要。
[0017]根据上述技术方案，本技术的实施例至少具有以下效果：
[0018]1、本申请在使用时将硅片放置到吸附模块上，保证了对硅片的吸附效果，通过四周设计的预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块，很好的实现了对硅片四周的密封，防止涂布液进入至硅片的背面对其污染；通过设计的废液导流槽和废液收集器能够保证对渗透下去的涂布液进行清理，防止污染硅片的背面；
[0019]2、前挡板、后挡板顶面的高度高于吸附模块的顶面高度，能够保证前挡板、后挡板对硅片的固定效果，前挡板、后挡板顶面的高度小于预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块的顶面高度，能够使吸附模块上放置的硅片的顶面高度和预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块的顶面高度相同，硅片放置后可以让平台整体平面融为一体，这样可以解决涂布过程中由于高低差造成的涂布不均匀情况。
附图说明
[0020]图1为本技术具体实施方式吸附平台的俯视图；
[0021]图2为本技术具体实施方式中平台底座和废液收集器的连接示意图；
[0022]图3为本技术具体实施方式中平台底座及其连接部的剖视放大图。
[0023]其中：1、平台整体；2、平台底座；3、预涂区模块；4、夹紧模块；5、前挡板；6、吸附模块；7、后挡板；8、收尾模块；9、废液导流槽；10、废液收集器；11、吸着孔。
具体实施方式
[0024]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0025]需要说明的是，在本技术的描述中，术语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图中所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术而不是要求本技术必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。本技术描述中使用的术语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”指的是附图中的方向，术语“内”、“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
[0026]如图1至图3所示，一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台，包括平台底座2，平台底座2上设有用于吸附硅片的吸附模块6，平台底座2上还滑动连接有预涂区模块3、收尾模块8和两个夹紧模块4，预涂区模块3、收尾模块8和两个夹紧模块4分别位于吸附模块6的四周；平台底座2上还设有废液导流槽9，废液导流槽9的一端连接有废液收集器10，废液导流槽9的另一端连通至平台底座2的顶面，且位于预涂区模块3、收尾模块8和两个夹紧模块4围成的区域之间。
[0027]本申请在使用时将硅片放置到吸附模块上，保证了对硅片的吸附效果，通过四周设计的预涂区模块、收尾模块和两个夹紧模块，很好的实现了对硅片四周的密封，防止涂布
液进入至硅片的背面对其污染；通过设计的废液导流槽和废液收集器能够保证对渗透下去的涂布液进行清理，防止污染硅片的背面。
[0028]具体的，图1中的平台整体1包括平台底座2及其上连接的吸附模块6、前挡板5、后挡板7、夹紧模块4、预涂区模块3和收尾模块8。
[0029]平台底座2上设有滑道及锁孔，前后两侧的夹紧模块4、左侧的预涂区模块3和右侧的收尾模块8均滑动连接在平台底座2上。通过设计的滑道，可保证夹紧模块4、预涂区模块3和收尾模块8的滑动效果。通过螺丝螺母贯穿锁孔可进行夹紧模块4、预涂区模块3和收尾模块8的锁紧。通过滑动设计，能够适应不同大小的硅片的固定。
[0030]夹紧模块4、预涂区模块3和收尾模块8的形状可为顶端向内凸处的滑块结构，具体如图3所示。
[0031]硅片支撑前挡板5和硅片支撑后挡板7用于初步定位硅片。在一些实施例中，前挡板5和后挡板7同样采用滑道锁孔的形式进行固定。此种设计可以适应不同大小的硅片。在另外一些实施例中，前挡板5和后挡板6直接固定在平台底座3上，此种设计适应同一型号的硅片的定位。
[0032]吸附模本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于涂布双面结构的硅片吸附平台，其特征在于，包括平台底座（2），所述平台底座（2）上设有用于吸附硅片的吸附模块（6），平台底座（2）上还滑动连接有预涂区模块（3）、收尾模块（8）和两个夹紧模块（4），所述预涂区模块（3）、收尾模块（8）和两个夹紧模块（4）分别位于所述吸附模块（6）的四周；所述平台底座（2）上还设有废液导流槽（9），所述废液导流槽（9）的一端连接有废液收集器（10），所述废液导流槽（9）的另一端连通至所述平台底座（2）的顶面，且位于所述预涂区模块（3）、收尾模块（8）和两个夹紧模块（4）围成的区域之间。2.根据权利要求1所述的硅片吸附平台，其特征在于，所述废液导流槽（9）和所述废液收集器（10）之间设有负压装置。3.根据权利要求1所述的硅片吸附平台，其特征在于，所述吸附模块（6）上设有若干吸着孔（11）。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：林曦源，虞旺，马晨，
申请(专利权)人：大正江苏微纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：