玻璃基板磨削系统技术方案

技术编号:34305000 阅读:15 留言:0更新日期:2022-07-27 15:57
本申请公开了一种玻璃基板磨削系统,其包括基架、控制器以及抛光组件,基架的承载面承载待抛光基板,承载面上对应待抛光基板的至少一侧边缘设有检测轨道,检测轨道上间隔设有若干检测位;抛光组件活动设置于检测轨道且与控制器信号连接,以使抛光组件能够沿检测轨道对应待抛光基板的至少一侧边缘往复运动对待抛光基板进行抛光;且待抛光基板抛光前,抛光组件能够于若干检测位获取待抛光基板待抛光边缘的第一类位置信息;待抛光基板抛光后,抛光组件能够于若干检测位获取待抛光基板被抛光边缘的第二类位置信息;其中,控制器能够根据第一类位置信息和第二类位置信息调整抛光组件的磨削量,以使抛光组件对应若干检测位的磨削量均符合指定磨削量。削量均符合指定磨削量。削量均符合指定磨削量。

Glass substrate grinding system

【技术实现步骤摘要】
玻璃基板磨削系统


[0001]本申请涉及玻璃生产
,尤其涉及一种玻璃基板磨削系统。

技术介绍

[0002]光电显示玻璃基板研磨工序加工中,为消除切割造成的微小裂纹及掉片,需使用研磨轮进行磨边,由于研磨轮金刚石颗粒度偏大,磨边后玻璃基板端面粗糙度大,存在微小坑状掉片及微小玻璃碎屑,微小玻璃碎屑会残留在玻璃基板端面或表面,影响玻璃基板表面颗粒度;掉片在后续工序传输中容易造成破片,会污染与损坏后续工序的盘刷、辊刷等耗材,在增加生产成本的同时也存在一定的品质风险,进而需要早磨边后进行抛光。
[0003]但是,磨边后的玻璃基板端部呈波浪线,抛光机的研磨精度无法保证其抛光磨削量满足要求。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种玻璃基板磨削系统,以解决现有玻璃基板模板后进行抛光无法保证抛光磨削量的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本申请实施例提供如下技术方案:
[0006]本申请提供一种玻璃基板磨削系统,其包括:
[0007]基架,所述基架具有承载面,以承载待抛光基板,所述承载面上对应所述待抛光基板的至少一侧边缘设有检测轨道,所述检测轨道上间隔设有若干检测位;
[0008]控制器;
[0009]抛光组件,所述抛光组件活动设置于所述检测轨道,所述抛光组件与所述控制器信号连接,以使所述抛光组件能够沿所述检测轨道对应所述待抛光基板的至少一侧边缘往复运动对所述待抛光基板进行抛光;且所述待抛光基板抛光前,所述抛光组件能够于所述若干检测位获取所述待抛光基板待抛光边缘的第一类位置信息;所述待抛光基板抛光后,所述抛光组件能够于所述若干检测位获取所述待抛光基板被抛光边缘的第二类位置信息;
[0010]其中,所述控制器能够根据所述第一类位置信息和所述第二类位置信息调整所述抛光组件对所述待抛光基板的磨削量,以使所述抛光组件对应所述若干检测位的磨削量均符合指定磨削量。
[0011]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其还包括若干光电传感器;
[0012]所述若干光电传感器与所述若干检测位一一对应且可拆卸地设置于所述检测轨道,所述若干光电传感器与所述控制器信号连接,所述光电传感器检测所述抛光组件运动至所述检测位时,所述控制器控制所述抛光组件停驻。
[0013]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述抛光组件包括行走机构、抛光单元以及检测器;
[0014]所述行走机构与所述控制器信号连接,以使所述行走机构能够沿所述检测轨道往
复运动并对应于所述若干检测位停驻;
[0015]所述抛光单元设置于所述行走机构,所述抛光单元与所述控制器信号连接,以使所述抛光单元能够随所述行走机构运动并对所述待抛光基板进行抛光;
[0016]所述检测器设置于所述行走机构,所述检测器与所述控制器信号连接,以使所述检测器能够随所述行走机构运动至所述检测位获取对应于所述检测位的待抛光基板的第一类位置信息和第二类位置信息。
[0017]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述抛光单元包括抛光装置和伸缩部;
[0018]所述伸缩部垂直所述行走机构的行走方向设置,所述抛光装置接于所述伸缩部远离所述行走机构的一侧,所述伸缩部与所述控制器信号连接,以使所述伸缩部能够根据所述控制器的指令调整所述抛光装置与所述待抛光基板的相对位置。
[0019]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述检测器包括接触式数字传感器和驱动部;
[0020]所述驱动部设置于所述行走机构,所述驱动部与所述控制器信号连接;
[0021]所述接触式数字传感器垂直所述行走机构的行走方向连接于所述驱动部的输出端,以能够沿垂直所述行走机构的行走方向由初始位置向所述待抛光基板运动并抵触于所述待抛光基板或由抵触于所述待抛光基板回复至所述初始位置。
[0022]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述行走机构包括行走架和行走驱动部;
[0023]所述行走架上设有与所述检测轨道相适配的运动部,以使所述行走架能够沿所述检测轨道往复运动;
[0024]所述行走驱动部与所述控制器信号连接,且所述行走驱动部与所述行走架相接,以驱动所述行走架沿所述检测轨道往复运动。
[0025]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其还包括显示组件;
[0026]所述显示组件与所述控制器相接,以对应所述若干检测位显示所述第一类位置信息、所述第二类位置信息、根据所述第一类位置信息和所述第二类位置信息得到的磨削量,且突出显示不符合所述指定磨削量的磨削量对应的检测位。
[0027]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其还包括报警装置;
[0028]所述报警装置与所述控制器相接,任意所述检测位的所述磨削量不符合所述指定磨削量,所述报警装置报警。
[0029]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述控制器包括信息收发单元、数据处理单元以及存储单元;
[0030]所述信息收发单元与所述抛光单元相接,以发出抛光、获取所述第一类位置信息和所述第二类位置信息的指令;
[0031]所述存储单元与所述信息收发单元相接,以存储所述第一类位置信息和所述第二类位置信息,且所述存储单元内预设有所述指定磨削量;
[0032]所述数据处理单元与所述信息收发单元和所述存储单元相接,以根据所述第一类位置信息和所述第二类位置信息计算所述检测位的磨削量,并比较所述指定磨削量和所述磨削量,发送比较结果至所述信息收发单元。
[0033]在本申请的一些变更实施方式中,前述的玻璃基板磨削系统,其中所述若干检测位至少包括所述待抛光基板待抛光边缘的一个最突出点和一个最凹陷点。
[0034]相较于现有技术,本申请提供的玻璃基板磨削系统,通过在基架的承载面上设置检测轨道,并于所述检测轨道上设置若干检测位,进一步通过控制器和抛光组件的配合实现于若干检测位对应位置进行抛光前第一类位置信息和抛光后第二类位置信息的获取,从而实现待抛光基板边缘上多点测量数据进行磨削量的计算,并通过控制器调整抛光组件的抛光磨削量,使得抛光组件对各个检测位处的待抛光基板的抛光磨削量均符合指定磨削量,从而提高抛光磨削量的均匀性,从而实现对整个生产产线的精准调节和管控,减少边部不良的问题;有效解决了现有玻璃基板模板后进行抛光无法保证抛光磨削量的问题。
附图说明
[0035]通过参考附图阅读下文的详细描述,本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中,以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式,相同或对应的标号表示相同或对应的部分,其中:
[0036]图1示意性地示出了本申请实施例提供的一种玻璃基板磨削系统的结构示意图;
[0037]图2示意性地示出了本申请实施例提供的一种玻璃本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板磨削系统,其特征在于,其包括:基架,所述基架具有承载面,以承载待抛光基板,所述承载面上对应所述待抛光基板的至少一侧边缘设有检测轨道,所述检测轨道上间隔设有若干检测位;控制器;抛光组件,所述抛光组件活动设置于所述检测轨道,所述抛光组件与所述控制器信号连接,以使所述抛光组件能够沿所述检测轨道对应所述待抛光基板的至少一侧边缘往复运动对所述待抛光基板进行抛光;且所述待抛光基板抛光前,所述抛光组件能够于所述若干检测位获取所述待抛光基板待抛光边缘的第一类位置信息;所述待抛光基板抛光后,所述抛光组件能够于所述若干检测位获取所述待抛光基板被抛光边缘的第二类位置信息;其中,所述控制器能够根据所述第一类位置信息和所述第二类位置信息调整所述抛光组件对所述待抛光基板的磨削量,以使所述抛光组件对应所述若干检测位的磨削量均符合指定磨削量。2.根据权利要求1所述的玻璃基板磨削系统,其特征在于:还包括若干光电传感器;所述若干光电传感器与所述若干检测位一一对应且可拆卸地设置于所述检测轨道,所述若干光电传感器与所述控制器信号连接,所述光电传感器检测所述抛光组件运动至所述检测位时,所述控制器控制所述抛光组件停驻。3.根据权利要求1所述的玻璃基板磨削系统,其特征在于:所述抛光组件包括行走机构、抛光单元以及检测器;所述行走机构与所述控制器信号连接,以使所述行走机构能够沿所述检测轨道往复运动并对应于所述若干检测位停驻;所述抛光单元设置于所述行走机构,所述抛光单元与所述控制器信号连接,以使所述抛光单元能够随所述行走机构运动并对所述待抛光基板进行抛光;所述检测器设置于所述行走机构,所述检测器与所述控制器信号连接,以使所述检测器能够随所述行走机构运动至所述检测位获取对应于所述检测位的待抛光基板的第一类位置信息和第二类位置信息。4.根据权利要求3所述的玻璃基板磨削系统,其特征在于:所述抛光单元包括抛光装置和伸缩部;所述伸缩部垂直所述行走机构的行走方向设置,所述抛光装置接于所述伸缩部远离所述行走机构的一侧,所述伸缩部与所述控制器信号连接,以使所述伸缩部能够根据所述控制器的指令调整所述抛光装置与所...

【专利技术属性】
技术研发人员:李青李赫然付继龙李震董光明陆成州王广彪张骏伍敏
申请(专利权)人:芜湖东旭光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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