一种用于多模穴测试的方法、装置及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于多模穴测试的方法、装置及电子设备，属于SFR测试技术领域，包括依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8

A method, device and electronic equipment for multi-mode hole testing

【技术实现步骤摘要】
一种用于多模穴测试的方法、装置及电子设备


[0001]本专利技术属于SFR测试
，特别涉及一种用于多模穴测试的方法、装置及电子设备。

技术介绍

[0002]SFR测试是一种摄像头解析力的常用测试方法。在进行SFR测试时，将待测摄像头向SFR测试卡进行拍摄，获得SFR测试图像，SFR测试卡上具有多个黑色块，SFR测试软件是通过计算SFR测试图像中黑色块的边缘解析力来得到待测摄像头的解析力的。
[0003]目前，在现有的SFR测试技术中，通常是在SFR测试过程中，需要产品光学中心对准X_chart图中心黑块。但是，在多模穴测试机台上因各个模穴之间的物理偏移，导致一张X_chart不能兼顾所有的测试模穴，迫使SFR测试时只能使用单模穴作业或使用运算更复杂的棋盘格chart，极大地降低了测试的效率。
[0004]综上所述，在现有的SFR测试技术中，存在着测试的效率低，无法满足多模穴的同时测试的技术问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术所要解决的技术问题是测试的效率低，无法满足多模穴的同时测试的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于多模穴测试的方法，所述方法包括：依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8/>°
的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。
[0007]进一步地，所述依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值包括：所述产品的测试距离为400mm，所述产品的视场角为78.2
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，所述全视场值等于tan(78.2/2)*400*2。
[0008]进一步地，所述依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值包括：所述芯片出图比例为4:3，所述尺寸数值包括长边数值和短边数值，所述长边数值等于全视场值*0.8，所述短边数值等于全视场值*0.6。
[0009]进一步地，所述矩形图的中心画出黑块包括：在所述矩形图的中心以200pixel尺寸来画出中心黑块，所述黑块的边长为35mm。
[0010]进一步地，所述对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制包括：对所述黑块进行复制，且将所述复制后的黑块均按照50mm的距离来进行平移。
[0011]依据本专利技术的又一个方面，本专利技术还提供一种用于多模穴测试的装置，所述装置
包括：全视场值计算模块，用于依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；矩形图计算模块，用于依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；黑块制作模块，用于依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；单模空间频率响应测试控制图制作模块，用于在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；多模空间频率响应测试控制图制作模块，用于依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。
[0012]依据本专利技术的又一个方面，本专利技术还提供一种用于多模穴测试的电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现以下步骤：依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。
[0013]进一步地，所述处理器执行所述程序时还实现以下步骤：所述依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值包括：所述产品的测试距离为400mm，所述产品的视场角为78.2
°
，所述全视场值等于tan(78.2/2)*400*2。
[0014]依据本专利技术的又一个方面，本专利技术还提供一种用于多模穴测试的计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现以下步骤：依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。
[0015]进一步地，该程序被处理器执行时还实现以下步骤：所述依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值包括：所述产品的测试距离为400mm，所述产品的视场角为78.2
°
，所述全视场值等于tan(78.2/2)*400*2。
[0016]有益效果：
[0017]本专利技术提供一种用于多模穴测试的方法，通过依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。这样如在对于使用双模治具时，通过左边模
组中心对准中心靠左的黑块中心，对应的SFR视场抓取黑块对应视场，右边模组中心对准中心靠右的红块中心，对应的SFR视场抓取红块对应视场，就可以实现双模同时测试。继而实现提高测试的效率，能够满足多模穴的同时测试。从而达到了提高测试的效率，满足多模穴的同时测试的技术效果。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于多模穴测试的方法，其特征在于，所述方法包括：依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制，且将平移复制后的所述黑块合并在同一张图纸，以制作出多模空间频率响应测试控制图。2.如权利要求1所述的用于多模穴测试的方法，其特征在于，所述依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值包括：所述产品的测试距离为400mm，所述产品的视场角为78.2
°
，所述全视场值等于tan(78.2/2)*400*2。3.如权利要求2所述的用于多模穴测试的方法，其特征在于，所述依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值包括：所述芯片出图比例为4:3，所述尺寸数值包括长边数值和短边数值，所述长边数值等于全视场值*0.8，所述短边数值等于全视场值*0.6。4.如权利要求1所述的用于多模穴测试的方法，其特征在于，所述在所述矩形图的中心画出黑块包括：在所述矩形图的中心以200pixel尺寸来画出中心黑块，所述黑块的边长为35mm。5.如权利要求1所述的用于多模穴测试的方法，其特征在于，所述对所述单模空间频率响应测试控制图中的黑块均进行平移复制包括：对所述黑块进行复制，且将所述复制后的黑块均按照50mm的距离来进行平移。6.一种用于多模穴测试的装置，其特征在于，所述装置包括：全视场值计算模块，用于依据产品的测试距离和产品的视场角计算出全视场值；矩形图计算模块，用于依据芯片出图比例和所述全视场值来计算出矩形图的尺寸数值；黑块制作模块，用于依据所述矩形图的尺寸数值来画出矩形图，在所述矩形图的中心画出黑块，且将所述黑块做8
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的旋转；单模空间频率响应测试控制图制作模块，用于在所述矩形图的对角线上画出每个视场对应测试的黑块，且将所述黑块做8
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的旋转，以制作出单模空间频率响应测试控制图；多模空间频率响应测试控制图制作模块，用于依据多模治具模穴间的间距，对所述单模空间频率响...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢炜，何秀娟，
申请(专利权)人：湖北三赢兴光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：