一种透明导电膜制造技术

本实用新型专利技术涉及导电膜领域，具体涉及一种透明导电膜，其包括透明基膜层、金属网格层和透明导电层，其中透明基膜层由柔性透明薄膜材料制成，透明导电层由ITO制成，金属网格层和透明导电层相互导通。本实用新型专利技术提供的透明导电薄膜，能够容易通过现有制作工艺获得透明度佳的导电薄膜，并同时实现导电性和导电均匀性兼得，整体透光度高，导电性好，可以满足更多的生产需求。产需求。产需求。

A transparent conductive film

【技术实现步骤摘要】
一种透明导电膜


[0001]本技术涉及导电膜领域，具体涉及一种透明导电膜。

技术介绍

[0002]现有技术中的常规透明导电材料ITO（Indium tin oxide,氧化铟锡）方阻相对较高，通常在100
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200Ω/sq，如果将其镀层加厚或者在其中参杂微量银等金属，可以把阻值降到30Ω/sq，但其透过率会大大降低，雾度也会升高，牺牲了光学性能。
[0003]金属网格（Metal Mesh）透明导电膜，采用银、铜、铝等导电性较高的金属为导体，可以做到非常低的阻值，通常可以做到10Ω/sq以下，甚至1Ω/sq以下。但银、铜、铝等高导电金属，不像ITO材料这样自身透光。为了实现透明，需要将其做成网格状结构，让网（金属线路）导电、让格（镂空的部分）透光。从而实现宏观上的导电和透光这两种需求，然而这种网格状结构尽管金属线路部分具有非常高的导电性，然而镂空部分是不导电的，就决定了其导电均匀性相对比较差，且当单个镂空部分的面积越大，整体导电均匀性就会越差。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本技术提供了一种透明导电薄膜，以解决常规透明导电膜产品导电性和导电均匀不能兼顾的问题。
[0005]具体的，本技术提供了这样一种透明导电薄膜，其包括透明基膜层、金属网格层和透明导电层，其中所述的透明基膜层由柔性透明薄膜材料制成，所述的透明导电层由ITO制成，所述的金属网格层和所述的透明导电层相互导通。这里所说的“相互导通”是指金属网格层和透明导电层直接相连，二者中间没有其他间隔层，电流可以从金属网格层自由流到透明导电层；也可以从透明导电层自由流到金属网格层。
[0006]在一些优选的实施例中，所述的透明基膜层、金属网格层和透明导电层的叠构顺序为金属网格层在中间，透明基膜层和透明导电层位于所述金属网格层的两侧；在另一些优选的实施例中，所述的透明基膜层、金属网格层和透明导电层的叠构顺序为透明导电层在中间，透明基膜层和金属网格层位于透明导电层的两侧。
[0007]在一些优选的实施例中，所述的透明基膜层由PET、PC、COP或透明PI制成。
[0008]在一些优选的实施例中，所述的金属网格层由银、铜或者铝制成，即在一些具体的实施例中，所述的金属网格层由银制成；在另一些具体的实施例中，所述的金属网格层由铜制成；在另一些具体的实施例中，所述的金属网格层由铝制成。
[0009]在一些优选的实施例中，所述的透明基膜层的厚度为1
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1000μm，在一些具体的实施例中，所述的透明基膜层的厚度为1
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500μm，在一些具体的实施例中，所述的透明基膜层的厚度为1
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200μm。
[0010]在一些优选的实施例中，所述的金属网格层的厚度为0.1
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100μm，在一些具体的实施例中，所述的金属网格层的厚度为0.1
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10μm，在一些具体的实施例中，所述的金属网格层的厚度为0.1
‑
1μm。
[0011]在一些优选的实施例中，所述的透明导电层的厚度为0.01
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1μm，在一些具体的实施例中，所述的透明导电层的厚度为0.01
‑
0.5μm，在一些具体的实施例中，所述的透明导电层的厚度为0.01
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0.1μm。
[0012]在一些优选的实施例中，所述的金属网格层的金属线宽为1
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100μm，在一些具体的实施例中，所述的金属网格层的金属线宽为2
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20μm。
[0013]在一些优选的实施例中，所述的金属网格层的网格形状为任意形状。在一些具体的实施例中，所述的金属网格层的网格形状为多边形、曲线等形状。
[0014]本技术提供的透明导电薄膜，能够容易通过现有制作工艺获得透明度佳的导电薄膜，并同时实现导电性和导电均匀性兼得，整体透光度高，导电性好，可以满足更多的生产需求。
附图说明
[0015]图1为本技术提供的透明导电薄膜的另一种结构示意图，图中透明导电层位于中间，透明基膜层和金属网格层位于透明导电层的两侧；
[0016]图2为本技术提供的透明导电薄膜的另一种结构示意图，图中金属网格层位于中间，透明基膜层和透明导电层位于金属网格层的两侧；
[0017]图3为本技术提供的透明导电薄膜的金属网格的网格形状为方格的示意图；
[0018]图4为本技术提供的透明导电薄膜的金属网格的网格形状为菱形的示意图；
[0019]图5为本技术提供的透明导电薄膜的金属网格的网格形状为随机多边形的示意图；
[0020]图6为本技术提供的透明导电薄膜的金属网格的网格形状为随机曲线的示意图；
[0021]图7为本技术提供的透明导电薄膜的金属网格的网格形状为随机扭曲菱形的示意图；
[0022]图中：1
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透明基膜层；2
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透明导电层；3
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金属网格层。
具体实施方式
[0023]为了使本
的人员更好地理解本技术，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都应当属于本技术的保护的范围。
[0024]参见图1，本实施例提供了一种透明导电薄膜，其包括透明基膜层1、金属网格层3和透明导电层2，透明基膜层1、金属网格层3和透明导电层2的叠构顺序为透明导电层2位于中间，透明基膜层1和金属网格层3位于透明导电层2的两侧。透明导电层2由ITO制成。透明基膜层1可以由PET、PC、COP或透明PI制成，本实施例中提供的透明导电薄膜的透明基膜层1由PET制成。金属网格层3可以由银、铜或铝制成，本实施例中提供的金属网格层3由铜制成。透明基膜层1的厚度可以为1
‑
1000μm之间的任意厚度（包含端点值），本实施例中提供的透明基膜层1的厚度为50μm。金属网格层3的厚度可以为0.1
‑
100μm之间的任意厚度（包含端点
值），本实施例中提供的金属网格层3的厚度为0.4μm。透明导电层2的厚度可以为0.01
‑
1μm之间的任意厚度（包含端点值），本实施例中提供的透明导电层2的厚度为0.05μm。金属网格层3的金属线宽可以为1
‑
100μm之间的任意厚度（包含端点值），本实施例中提供的金属网格层3的金属线宽为5μm。金属网格层3的网格形状为多边形、曲线。本实施例中提供的金属网格层3的网格形状为菱形（见图4所示）。
[0025]参见图2，本实施例提供了一种透明导电薄膜，其包括透明基膜层1、金属网格层3和透明导电层2，透明基膜层1、金属网格层3和透明导电层2的叠本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明导电膜，其特征在于，所述的透明导电膜包括透明基膜层（1）、金属网格层（3）和透明导电层（2），其中所述的透明基膜层（1）由柔性透明薄膜材料制成，所述的透明导电层（2）由ITO制成，所述的金属网格层（3）和所述的透明导电层（2）相互导通，所述的透明基膜层（1）、金属网格层（3）和透明导电层（2）的叠构顺序为透明导电层（2）位于中间，透明基膜层（1）和金属网格层（3）位于透明导电层（2）的两侧。2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述的透明基膜层（1）、金属网格层（3）和透明导电层（2）的叠构顺序为金属网格层（3）位于中间，透明基膜层（1）和透明导电层（2）位于金属网格层（3）的两侧。3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王科磊，宁静，潘绍明，朱宝书，
申请(专利权)人：烟台正海科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：