【技术实现步骤摘要】
一种Micro
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LED显示芯片及其制备方法
[0001]本说明书涉及半导体电子器件领域,具体涉及一种Micro
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LED显示芯片及其制备方法。
技术介绍
[0002]Micro
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led全彩显示芯片通常采用在单色显示芯片上集成波长转换层,通过设置全彩显示所需的RGB三原色,以满足全彩显示的需要。但是Micro
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led显示芯片的像素点越小,波长转换层越难制作,使得彩色显示的Micro
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led显示芯片制备难度显著增加。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,本说明书多个实施方式致力于提供一种Micro
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LED显示芯片及其制备,实现Micro
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LED显示芯片多色或者全彩显示,有利于降低多色或者全彩Micro
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LED显示芯片制备难度。
[0004]本说明书实施方式提供一种Micro
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LED显示芯片制备方法,包括:提供驱动基板,所述驱动基板包括驱动电路以及与所述驱动电路电连接的触点;提供第一LED层,所述第一LED层包括多个第一LED单元、位于所述第一LED单元之间的第一填充结构以及贯穿所述第一填充结构的第一导电柱;将所述第一LED层与所述驱动基板键合;其中,所述第一LED单元和所述第一导电柱分别与所述触点电连接;在所述第一LED层上设置第二LED层;其中,所述第二LED层包括多个第二LED单元和位于所述第二LED单元之间的第二填充 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,包括:提供驱动基板,所述驱动基板包括驱动电路以及与所述驱动电路电连接的触点;提供第一LED层,所述第一LED层包括多个第一LED单元、位于所述第一LED单元之间的第一填充结构以及贯穿所述第一填充结构的第一导电柱;将所述第一LED层与所述驱动基板键合;其中,所述第一LED单元和所述第一导电柱分别与所述触点电连接;在所述第一LED层上设置第二LED层;其中,所述第二LED层包括多个第二LED单元和位于所述第二LED单元之间的第二填充结构;所述第二LED单元与其正下方的所述第一导电柱电连接,所述第二LED单元与所述第一LED单元的发光颜色不同。2.根据权利要求1所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,在提供第一LED层的步骤中,包括:提供第一LED外延层;刻蚀所述第一LED外延层形成多个所述第一LED单元,每一所述第一LED单元包括第一掺杂型半导体层、有源层和第二掺杂型半导体层,相邻所述第一LED单元的所述第二掺杂型半导体层相互连接;在所述第一LED单元之间设置所述第一填充结构;设置贯穿所述第一填充结构的所述第一导电柱。3.根据权利要求2所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,在所述第一LED层上设置第二LED层的步骤之前,还包括:减薄所述第一LED单元的所述第二掺杂型半导体层,至露出所述第一导电柱的顶端;其中,减薄后的多个所述第一LED单元相互间隔。4.根据权利要求1所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,在提供第一LED层的步骤中,包括:提供第一LED外延层;刻蚀所述第一LED外延层形成多个相互间隔的第一LED单元,每一所述第一LED单元包括第一掺杂型半导体层、有源层和第二掺杂型半导体层;在所述第一LED单元之间设置所述第一填充结构;设置贯穿所述第一填充结构的所述第一导电柱。5.根据权利要求1所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,所述第一LED层中,所述第一填充结构覆盖所述第一LED单元;相应的,设置贯穿所述第一填充结构的第一导电柱的步骤中,包括:在所述第一LED单元上设置第一导电柱,所述第一LED单元通过对应的所述第一导电柱与所述触点电连接。6.根据权利要求1所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,在所述第一LED层上设置第二LED层的步骤中,包括:提供第二LED层,所述第二LED层包括多个第二LED单元以及位于所述第二LED单元之间的第二填充结构;将所述第二LED层与所述第一LED层结合;其中,所述第二LED单元通过与其正下方的所述第一导电柱电连接实现与所述触点电连接。
7.根据权利要求1所述的Micro
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LED显示芯片制备方法,其特征在于,所述第二填充结构中还设置有贯穿所述第二填充结构的第二导电柱,所述第二导电柱与其正下方的所述第一导电柱电连接;所述Micro
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LED显示芯片制备方法还包括:在所述第二LED层上设置第三LED层;其中,所述第三LED层包括多个第三LED单元和位于所述第三LED单元之间的第三填充结构;所述第三LED单元通过其正下方的所述第一导电柱和所述第二导电柱实现与所述触点电连接;所述第三LED单元、所述第二LED单元及所述第一LED单元的发光颜色各不相同。8...
【专利技术属性】
技术研发人员:庄永漳,
申请(专利权)人:镭昱光电科技苏州有限公司,
类型:发明
国别省市:
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