聚集诱导发光材料及其制备方法与应用技术

本申请涉及材料合成技术领域，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，本申请提供的聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，所述代谢基团包括含有第一不饱和键的D

Aggregation induced luminescent materials and their preparation methods and Applications

【技术实现步骤摘要】
聚集诱导发光材料及其制备方法与应用


[0001]本申请属于材料合成
，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]青霉素被发现以前，因感染致病菌致死的人群不计其数。1928年，英国科学家Fleming在实验研究中最早发现青霉素，1943年青霉素实现量产，为感染性疾病的治疗带来了曙光。随着链霉素、万古霉素等更多种类抗生素被发现和量产，抗生素滥用现象日益严重，临床长期、广泛和超量的抗生素滥用导致了耐药细菌株及多重耐药细菌株(“超级细菌”)的出现。据统计，多重耐药菌株的医院院内感染率高达8％。发生院内耐药菌感染的多为抵抗力较弱人群，而重症加强护理病房(ICU)多重耐药菌株感染是患者的最大死亡威胁。此类人群一旦感染耐药细菌，治疗预后不容乐观。多重耐药菌株的出现对传统抗生素治疗方法带来了巨大挑战，亟需开发一种不易诱发细菌多药耐药的光广谱抗菌药物或制剂，用于临床致病菌(尤其是多重耐药菌)的杀伤与细菌感染治疗。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于提供一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，旨在解决现有技术中材料无法对细菌进行快速标记并迅速杀菌的问题。
[0004]为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：
[0005]第一方面，本申请提供一种聚集诱导发光材料，聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，代谢基团包括含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物，聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4
‑
>(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物。
[0006]第二方面，本申请提供一种聚集诱导发光材料的制备方法，包括如下步骤：
[0007]提供含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物和含有第二不饱和键的4
‑
(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物；
[0008]将所述含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物和所述含有第二不饱和键的4
‑
(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物进行混合处理并进行点击化学反应，得到聚集诱导发光材料。
[0009]第三方面，本申请提供聚集诱导发光材料应用于标记和杀灭的细菌，其中，所述细菌包括细胞壁含有肽聚糖成分的革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌中的至少一种。
[0010]第四方面，本申请提供一种杀菌方法，采用聚集诱导发光材料进行杀菌，杀菌方法包括以下步骤：
[0011]提供待杀菌样品，
[0012]将待杀菌样品与聚集诱导发光材料混合进行孵育，得到共混液；
[0013]将共混液进行激光照射处理，得到杀菌后的样品。
[0014]本申请第一方面提供的聚集诱导发光材料，聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，提供的代谢基团包括含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物，其能够特异性结合并大量聚集在细菌细胞壁，实现对细菌进行准定定位、高效标记；提供的聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4
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(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物，通过代谢基团进行定位标记后，再进行激光照射处理，使聚集诱导发光基团通过激光照射处理产生活性氧基团，实现在定位的细菌进行光动力杀伤，并且，代谢基团和聚集诱导发光基团通过含有的不饱和键进行加成反应以化学键连接，二者连接紧密，可实现对细菌进行快速标记和原位清除，具有检测快速、广谱抗菌、降低耐药等特点，在细菌尤其耐药菌临床治疗中应用前景广阔。
[0015]本申请第二方面提供的是聚集诱导发光材料的制备方法，该制备方法简单易操作，将提供的含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物和含有第二不饱和键的4
‑
(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物进行混合后进行点击化学反应，即可得到聚集诱导发光材料，制备过程不需要提供大型仪器设备，同时不许需要提供复杂的反应条件，反应简单，适用于广泛应用。
[0016]本申请第三方面提供的聚集诱导发光材料应用于标记和杀灭的细菌，由于提供的聚集诱导发光材料包括的代谢基团能够对细胞壁含有肽聚糖成分的革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌中的至少一种进行标记，可实现对细菌进行原位清除，检测速度快，应用效果好。
[0017]本申请第四方面提供的是一种利用聚集诱导发光材料进行杀菌的杀菌方法，该杀菌方法采用聚集诱导发光材料与细菌进行共孵育，使代谢基团通过合成细胞壁肽聚糖以参与细菌的合成过程，进行特异性标记细菌；再利用激光照射处理引发聚集诱导发光基团形成活性氧基团对细菌进行杀菌作用，实现快速、高效、定点杀菌处理。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本申请实施例提供的聚集诱导发光材料的AIE效果图。
[0020]图2是本申请实施例提供的聚集诱导发光材料对细菌的标记效果图。
[0021]图3是本申请实施例提供的聚集诱导发光代谢材料活性氧生成效率结果图。
[0022]图4是本申请实施例提供的聚集诱导发光代谢材料对细菌的光动力杀伤效果图。
具体实施方式
[0023]为了使本申请要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0024]本申请中，术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B的情况。其中A，B可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0025]本申请中，“至少一个”是指一个或者多个，“多个”是指两个或两个以上。“以下至少一项(个)”或其类似表达，是指的这些项中的任意组合，包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如，“a,b,或c中的至少一项(个)”，或，“a,b,和c中的至少一项(个)”，均可以表示：a,b,c,a
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b(即a和b),a
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c,b
‑
c,或a
‑
b
‑
c，其中a,b,c分别可以是单个，也可以是多个。
[0026]应理解，在本申请的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，部分或全部步骤可以并行执行或先后执行，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，所述代谢基团包括含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物，所述聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4
‑
(2
‑
(4
‑
二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物。2.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述第一不饱和键包括含氮原子的不饱和键；和/或，所述第二不饱和键包括含碳原子的不饱和键。3.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述含有第一不饱和键的D
‑
丙氨酸衍生物包括叠氮、四嗪、巯基、炔烃、反式环辛烯或烯烃修饰的D
‑
丙氨酸中的任意一种；和/或，所述含有第二不饱和键的4
‑
(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物包括炔烃、反式环辛烯、烯烃、叠氮、四嗪或巯基修饰的4
‑
(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐中的任意一种。4.根据权利要求1所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料中，所述代谢基团为3
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四嗪
‑
D
‑
丙氨酸，所述聚集诱导发光基团为1
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反式环辛烯
‑4‑
(2
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(4
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二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐。5.根据权利要求4所述的聚集诱导发光材料，其特征在于，所述聚集诱导发光材料的激发光波长为250～500nm；特征性荧光发射光谱为500～900nm。6.一种权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖明凤，戴桂琴，赵鹏飞，张政，郑明彬，刘东京，
申请(专利权)人：深圳国家感染性疾病临床医学研究中心，
类型：发明
国别省市：