回旋加速器靶室及回旋加速器制造技术

本发明专利技术涉及加速器的靶结构技术领域，提供一种回旋加速器靶室及回旋加速器。该回旋加速器靶室，包括：主体结构，主体结构内部构造有凹槽和通道，且通道与凹槽连通；头部结构，头部结构固定于主体结构的一端，且头部结构构造有通孔，通孔通过通道与凹槽连通；尾部结构，尾部结构固定于主体结构的另一端；靶片组件，靶片组件为圆形结构，且固定于凹槽中。该回旋加速器包括上述的回旋加速器靶室。本发明专利技术提供的一种回旋加速器靶室及回旋加速器，提高了辐照效率、靶片面积小，制作成本降低，且便于传送和冷却；靶片后处理量变小，可降低辐照后靶片的溶解、分离的处理量，降低后处理的成本，减少放射性废物和化学处理废物产生量。性废物和化学处理废物产生量。性废物和化学处理废物产生量。

Cyclotron target chamber and cyclotron

【技术实现步骤摘要】
回旋加速器靶室及回旋加速器


[0001]本专利技术涉及加速器的靶结构
，尤其涉及一种回旋加速器靶室及回旋加速器。

技术介绍

[0002]加速器是利用带电粒子引起核反应来生产放射性核素的一种装置，所生产的放射性核素是放射性药物用核素的主要来源。加速器靶室则是发生特定核反应的位置，靶室的结构和性能直接关系到放射性核素产品的质量。Cyclone
‑
30质子回旋加速器是一种常用的加速器，其靶室中现用的靶片为宽10mm，长96mm的长条状金属靶，靶托为铜材，辐照时束流入射方向与靶面的夹角为6
°
。辐照完成后，靶室通过气动系统驱动转移至热室，进行后续的溶靶和分离处理。待辐照的靶件从热室中同样通过气动系统驱动转移至辐照位。
[0003]但是在Cyclone
‑
30的实际使用中，由于束流辐照在靶片上一般呈枣核形，其束流辐照面积一般集中在靶片中部，靶片两端不容易被束流覆盖，这样造成了加速器束流辐照的能量浪费，也加大了辐照后靶片处理的难度和分离成本。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种回旋加速器靶室及回旋加速器，用以解决现有技术中加速器束流辐照的能量浪费，以及靶片处理难度高，分离成本高的缺陷，利用圆形的靶片组件，能够提高加速器的辐照效率、降低靶片制作和后处理的成本，从而降低加速器生产放射性核素的成本。
[0005]本专利技术提供一种回旋加速器靶室，包括：
[0006]主体结构，所述主体结构内部构造有凹槽和通道，且所述通道与所述凹槽连通；
[0007]头部结构，所述头部结构固定于所述主体结构的一端，且所述头部结构构造有通孔，所述通孔通过所述通道与所述凹槽连通；
[0008]尾部结构，所述尾部结构固定于所述主体结构的另一端；
[0009]靶片组件，所述靶片组件为圆形结构，且固定于所述凹槽中。
[0010]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，还包括第一压片和第二压片，所述头部结构通过所述第一压片与所述主体结构连接，所述尾部结构通过所述第二压片与所述主体结构连接。
[0011]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，还包括第一密封片和第二密封片，所述第一压片通过所述第一密封片与所述主体结构连接，所述第二压片通过所述第二密封片与所述主体结构连接。
[0012]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述靶片组件包括圆形底盘、圆形靶片和卡环，所述卡环固定于所述圆形底盘的周侧，所述圆形靶片固定于所述卡环和所述圆形底盘的围设空间内。
[0013]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述圆形靶片的直径取值范围为10mm至
50mm，所述圆形靶片的厚度为0.1mm至1.5mm。
[0014]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述圆形靶片的制作方法包括：通过电镀法将靶材料在所述圆形底盘表面上形成镀层，或是由靶材料裁剪制成的薄片，或是将粉末密封封装形成的胶囊靶。
[0015]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，还包括冷却头，所述主体结构内部构造有冷却管路，所述冷却头设于所述主体结构的外端面上，并与所述冷却管路的一端连通，所述冷却管路的另一端与所述凹槽连通。
[0016]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述冷却头包括第一水接头和第二水接头，所述第一水接头和所述第二水接头分别位于所述主体结构的两侧，分别通过对应的冷却管路与所述凹槽连通。
[0017]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述主体结构包括底座和盖板，所述凹槽设于所述底座上，所述盖板与所述底座对应扣合设置。
[0018]根据本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，所述凹槽与水平方向的夹角取值范围在20
°
至40
°
之间。
[0019]本专利技术还提供一种回旋加速器，包括：本专利技术实施例的回旋加速器靶室。
[0020]本专利技术提供的一种回旋加速器靶室，通过头部结构和尾部结构组合安装于主体结构的两端，形成靶室结构，并在主体结构内部沟槽有用于安装靶片组件的凹槽，靶片组件为圆形结构，加速器束流能有效覆盖整个靶片面积，提高了辐照效率；靶片面积小，制作成本降低，靶片形式更加多样化，且便于传送和冷却；靶片后处理量变小，可降低辐照后靶片的溶解、分离的处理量，降低后处理的成本，减少放射性废物和化学处理废物产生量。
[0021]进一步地，本专利技术提供的一种回旋加速器，使用上述的回旋加速器靶室，能够提高加速器的辐照效率、降低靶片制作和后处理的成本，从而降低加速器生产放射性核素的成本。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1是本专利技术提供的回旋加速器靶室的第一视角外观图；
[0024]图2是本专利技术提供的底座的内部结构示意图；
[0025]图3是本专利技术提供的在底座内安装靶片组件的结构示意图；
[0026]图4是本专利技术提供的盖板的结构示意图；
[0027]图5是本专利技术提供的回旋加速器靶室的纵截面示意图；
[0028]图6是本专利技术提供的靶片组件的结构示意图；
[0029]附图标记：
[0030]10：头部结构；20：主体结构；30：尾部结构；40：靶片组件；
[0031]11：第一压片；12：第一密封片；13：通孔；
[0032]21：凹槽；22：通道；23：底座；24：盖板；25：冷却头；26：冷却管路；
[0033]31：第二压片；32：第二密封片；
[0034]41：圆形底盘；42：圆形靶片；43：卡环。
具体实施方式
[0035]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0036]下面结合图1
‑
图6描述本专利技术的一种回旋加速器靶室。该回旋加速器靶室包括：主体结构20、头部结构10、尾部结构30和靶片组件40。
[0037]其中，主体结构20内部构造有凹槽21和通道22，且通道22与凹槽21连通；头部结构10固定于主体结构20的一端，且头部结构10构造有通孔13，通孔13通过通道22与凹槽21连通；尾部结构30固定于主体结构20的另一端；靶片组件40为圆形结构，且固定于凹槽21中。
[0038]具体来说，头部结构10为加速器粒子束流导入部分，头部结构10和尾部结构30由耐冲击和抗辐射材料制成，优选为尼龙材质。尾部结构30为密封结构，通过尾部结构30推动靶室在回旋加速器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种回旋加速器靶室，其特征在于，包括：主体结构，所述主体结构内部构造有凹槽和通道，且所述通道与所述凹槽连通；头部结构，所述头部结构固定于所述主体结构的一端，且所述头部结构构造有通孔，所述通孔通过所述通道与所述凹槽连通；尾部结构，所述尾部结构固定于所述主体结构的另一端；靶片组件，所述靶片组件为圆形结构，且固定于所述凹槽中。2.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，还包括第一压片和第二压片，所述头部结构通过所述第一压片与所述主体结构连接，所述尾部结构通过所述第二压片与所述主体结构连接。3.根据权利要求2所述的回旋加速器靶室，其特征在于，还包括第一密封片和第二密封片，所述第一压片通过所述第一密封片与所述主体结构连接，所述第二压片通过所述第二密封片与所述主体结构连接。4.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述靶片组件包括圆形底盘、圆形靶片和卡环，所述卡环固定于所述圆形底盘的周侧，所述圆形靶片固定于所述卡环和所述圆形底盘的围设空间内。5.根据权利要求4所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述圆形靶片的直...

【专利技术属性】
技术研发人员：李光，温凯，段菲，马承伟，赵紫宇，张宝琦，褚浩淼，张文辉，李超，王成志，
申请(专利权)人：原子高科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：