本申请涉及半导体加工的技术领域，尤其涉及一种自动清洗治具及清洗装置，该自动清洗治具包括支撑架和支撑定位组件，支撑架包括中心板以及四个等角度均匀设置于中心板外周侧的支撑臂，支撑臂远离中心板的一端设置有阶梯台面；支撑定位组件设置于支撑架的阶梯台面上，用于支撑光刻版或者定位光刻版的端角，该自动清洗治具可以适用于对不同型号的光刻版进行定位，操作简便。操作简便。操作简便。
【技术实现步骤摘要】
一种自动清洗治具及清洗装置
[0001]本申请涉及半导体加工的
，尤其涉及一种自动清洗治具及清洗装置。
技术介绍
[0002]光刻版是用于半导体芯片生产的重要组件，大批量生产时每天都会用到大量不同型号的光刻版，手动清洗已不能满足生产要求。光刻版在进行清洗时，需要将光刻版固定在夹具上，目前的光刻版夹具仅适用于对同一型号的光刻版进行定位，清洗不同型号的光刻版时需要更换不同型号的夹具，操作比较繁琐。
技术实现思路
[0003]本申请的目的在于提供一种自动清洗治具及清洗装置，该自动清洗治具可以适用于对不同型号的光刻版进行定位，操作简便。
[0004]为此，第一方面，本申请实施例提供了一种自动清洗治具，包括：支撑架，所述支撑架包括中心板以及四个等角度均匀设置于所述中心板外周侧的支撑臂，所述支撑臂远离所述中心板的一端设置有阶梯台面；支撑定位组件，设置于所述支撑架的阶梯台面上，用于支撑光刻版或者定位所述光刻版的端角。
[0005]在一种可能的实现方式中，所述阶梯台面包括依次升高的第一支撑面、第二支撑面、第三支撑面和第四支撑面；所述支撑定位组件包括：第一支撑定位组件，设置于所述第一支撑面上，用于支撑放置于所述第一支撑定位组件上的光刻版；第二支撑定位组件，设置于所述第二支撑面上，用于支撑放置于所述第二支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第一支撑定位组件上光刻版的端角；第三支撑定位组件，设置于所述第三支撑面上，用于支撑放置于所述第三支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第二支撑定位组件上光刻版的端角；第四支撑定位组件，设置于所述第四支撑面上，用于定位放置于所述第三支撑定位组件上光刻版的端角。
[0006]在一种可能的实现方式中，所述第一支撑定位组件的高度高于所述第二支撑面的高度。
[0007]在一种可能的实现方式中，所述第二支撑定位组件的高度高于所述第三支撑面的高度。
[0008]在一种可能的实现方式中，所述第三支撑定位组件的高度高于所述第四支撑面的高度。
[0009]在一种可能的实现方式中，所述支撑定位组件为两个特氟龙材质的定位柱。
[0010]第二方面，本申请实施例提供了一种清洗装置，包括：如前所述自动清洗治具；驱动组件，所述驱动组件的动力输出端与所述中心板连接，以使所述支撑架围绕所述中心板的轴向转动；清洗组件，设置于所述支撑架的上方，用于向光刻版上喷洒清洗液；以及吹干组件，设置于所述支撑架的上方，用于吹干所述光刻版上的清洗液。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述清洗组件包括有机溶剂喷头和清水喷头，用于分
别向光刻版上喷洒有机溶剂和清水。
[0012]在一种可能的实现方式中，所述吹干组件包括氮气喷嘴，所述氮气喷嘴的输入端连通外部高压氮气源。
[0013]在一种可能的实现方式中，还包括设置于所述支撑架上方的防护罩，所述清洗组件和吹干组件均位于防护罩内，且所述防护罩上连通设置有抽气管。
[0014]根据本申请实施例提供的自动清洗治具，该自动清洗治具通过阶梯台面上同一高度上的四个支撑定位组件对光刻版的底部进行支撑，通过阶梯台面另一高度上的四个支撑定位组件对光刻版的四个端角进行定位，可以适用于对不同型号的光刻版进行定位，操作简便。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。另外，在附图中，相同的部件使用相同的附图标记，且附图并未按照实际的比例绘制。
[0016]图1示出本申请实施例提供的一种自动清洗治具的结构示意图；
[0017]图2示出本申请实施例提供的一种自动清洗治具和光刻版的结构示意图；
[0018]图3示出本申请实施例提供的阶梯台面和支撑定位组件的结构示意图；
[0019]图4示出本申请实施例提供的一种清洗装置的结构示意图。
[0020]附图标记说明：
[0021]a、光刻版；
[0022]1、支撑架；11、中心板；12、支撑臂；13、阶梯台面；131、第一支撑面；132、第二支撑面；133、第三支撑面；134、第四支撑面；
[0023]2、支撑定位组件；21、第一支撑定位组件；22、第二支撑定位组件；23、第三支撑定位组件；24、第四支撑定位组件；25、定位柱；
[0024]3、驱动组件；
[0025]4、清洗组件；41、有机溶剂喷头；42、清水喷头；
[0026]5、吹干组件；
[0027]6、防护罩；61、抽气管。
具体实施方式
[0028]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0029]图1示出本申请实施例提供的一种自动清洗治具的结构示意图；图2示出本申请实施例提供的一种自动清洗治具和光刻版的结构示意图；图3示出本申请实施例提供的阶梯台面和支撑定位组件的结构示意图。
[0030]如图1至图3所示，本申请实施例提供一种自动清洗治具，包括：
[0031]支撑架1，支撑架1包括中心板11以及四个等角度均匀设置于中心板11外周侧的支撑臂12，支撑臂12远离中心板11的一端设置有阶梯台面13；以及
[0032]支撑定位组件2，设置于支撑架1的阶梯台面上，用于支撑光刻版a或者定位光刻版a的端角。
[0033]本申请中，通过阶梯台面13上同一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的底部进行支撑，通过阶梯台面13另一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的四个端角进行定位，可以适用于对不同型号的光刻版a进行定位，操作简便。
[0034]本申请实施例中，阶梯台面13包括依次升高的第一支撑面131、第二支撑面132、第三支撑面133和第四支撑面134；
[0035]支撑定位组件2包括：
[0036]第一支撑定位组件21，设置于第一支撑面131上，用于支撑放置于第一支撑定位组件21上的光刻版a；
[0037]第二支撑定位组件22，设置于第二支撑面132上，用于支撑放置于第二支撑定位组件22上的光刻版a，或者定位放置于第一支撑定位组件21上光刻版a的端角；
[0038]第三支撑定位组件23，设置于第三支撑面133上，用于支撑放置于第三支撑定位组件23上的光刻版a，或者定位放置于第二支撑定位组件22上光刻版a的端角；
[0039]第四支撑定位组件24，设置于第四支撑面134上，用于定位放置于第三支撑定位组件23上光刻版a的端角。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动清洗治具，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架包括中心板以及四个等角度均匀设置于所述中心板外周侧的支撑臂，所述支撑臂远离所述中心板的一端设置有阶梯台面；以及支撑定位组件，设置于所述支撑架的阶梯台面上，用于支撑光刻版或者定位所述光刻版的端角。2.根据权利要求1所述的一种自动清洗治具，其特征在于，所述阶梯台面包括依次升高的第一支撑面、第二支撑面、第三支撑面和第四支撑面；所述支撑定位组件包括：第一支撑定位组件，设置于所述第一支撑面上，用于支撑放置于所述第一支撑定位组件上的光刻版；第二支撑定位组件，设置于所述第二支撑面上，用于支撑放置于所述第二支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第一支撑定位组件上光刻版的端角；第三支撑定位组件，设置于所述第三支撑面上，用于支撑放置于所述第三支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第二支撑定位组件上光刻版的端角；第四支撑定位组件，设置于所述第四支撑面上，用于定位放置于所述第三支撑定位组件上光刻版的端角。3.根据权利要求2所述的一种自动清洗治具，其特征在于，所述第一支撑定位组件的高度高于所述第二支撑面的高度。4.根据权利要求2所述的一种自动清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：张续朋，杨彦伟，
申请(专利权)人：深圳市芯思杰联邦国际科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
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