一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法技术

技术编号:34093403 阅读:25 留言:0更新日期:2022-07-11 21:44
本发明专利技术涉及磁体制备技术领域,为解决现有技术下难以调控稀土永磁钕铁硼的氧含量,补氧效果波动大,产品的一致性差的问题,公开了一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,包括如下步骤:将钕铁硼磁体原料进行真空熔炼和甩带得到钕铁硼甩带片;将钕铁硼甩带片氢破处理得到氢破后粗粉;将氢破后粗粉在气流磨中由惰性气体研磨得到钕铁硼细粉;向钕铁硼细粉中加入MgO粉末和添加剂,混合后得到混后细粉;将混后细粉取向压制和等静压处理得到钕铁硼压坯;将钕铁硼压坯真空烧结、回火后,得到钕铁硼磁体。本发明专利技术可以灵活调控稀土永磁钕铁硼的氧含量,优化了磁体的性能,并且制得的磁体的一致性好。好。好。

【技术实现步骤摘要】
一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法


[0001]本专利技术涉及磁体制备
,尤其涉及一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法。

技术介绍

[0002]稀土永磁钕铁硼是目前为止磁力最强的永久磁体,被广泛应用在空调、汽车、电机等领域。烧结钕铁硼磁体的制备过程涉及粉末冶金过程,并且稀土元素容易氧化,因此,最初时烧结钕铁硼磁体成品中较高的氧含量限制了磁体性能。随着工艺技术和设备的进步,稀土永磁烧结钕铁硼的生产管控水平越来越高,烧结钕铁硼磁体成品的氧含量也从最初的5000ppm降低到了500ppm左右,这促进了烧结钕铁硼磁能积的不断提高。然而,现有研究表明,当烧结钕铁硼磁体的晶界相中存在适量的氧时,能够促进双六方密堆(dhcp)结构的富Nd相转变为FCC或BCC的立方晶体结构的Nd

O相,该Nd

O相与主相晶粒的润湿性好,可以在不提升配方成本的情况下,提高烧结钕铁硼磁体的矫顽力。目前,业内主要采用的补氧工艺为气流磨补氧,即在气流磨制粉的过程中补入一定量的氧气,对粉末进行微钝化的同时,也适量增加了磁体氧含量。然而,气流磨批次间和批次内粗粉的破碎效率不同,气体补氧会随着气流磨效率变化而导致补氧效果不同。在相同的供氧量下,气流磨破碎效率高时,平均氧含量低,破碎效率低时,平均氧含量高。特别是对于气流磨过程中,需分批出料,这导致先分装的粉料氧含量低,后分装的粉料氧含量高,影响了产品批量生产的性能一致性。
[0003]例如,在中国专利文献上公开的“一种高性能烧结Nd

Fe<br/>‑
B材料及其制备方法”,其公告号为CN110739113A,按质量百分比计,该Nd

Fe

B材料由以下化学成分组成:PrNd:29.5

31%、Ti:0.05

1%、Zr:0.05

0.15%、Al:0.15

0.7%、Ga:0.1

1%、Co:0.05

2%、Cu:0.08

1.5%、B:0.8

1%,余量为Fe。该d

Fe

B材料的制备方法包括:原料准备、速凝熔炼、氢破碎、气流磨制粉、取向成型、烧结、热处理,在气流磨制粉阶段,惰性气体中添加一定浓度的氧气。该方法在气流磨制粉阶段补氧,补氧效果波动较大,导致产品的一致性较差。

技术实现思路

[0004]本专利技术为了克服现有技术下难以调控稀土永磁钕铁硼的氧含量,补氧效果波动大,产品的一致性差的问题,提供一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,可以灵活调控稀土永磁钕铁硼的氧含量,优化了磁体的性能,并且制得的磁体的一致性好。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术采用以下技术方案:一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,包括如下步骤:a.将钕铁硼磁体原料进行真空熔炼和甩带得到钕铁硼甩带片;b.将钕铁硼甩带片氢破处理得到氢破后粗粉;c.将氢破后粗粉在气流磨中由惰性气体研磨得到钕铁硼细粉;d.向钕铁硼细粉中加入MgO粉末和添加剂,混合后得到混后细粉;e.将混后细粉取向压制和等静压处理得到钕铁硼压坯;
f.将钕铁硼压坯真空烧结、回火后,得到钕铁硼磁体。
[0006]本专利技术采用MgO作为氧含量调控剂,在O元素熔入的富Nd相的过程中,Mg元素通过空隙和晶界扩散到磁体表面,在高温真空环境下挥发被真空系统带走,从而实现在不过量引入其他元素的前提下,对磁体的晶界氧含量进行调控,该方法适用于不同破碎性能的速凝片,以及统一材料不同批次间和批次内的氧含量控制。
[0007]作为优选,所述步骤a中,钕铁硼磁体原料按质量百分比组成包括Pr

Nd:31.5%~32.5%;B:0.92%~0.98%;Al:0.1%~0.2%;Cu:0.25~0.32%;Co:0~0.5%;Ga:0~0.5%;Zr:0~0.15%;余量为Fe。
[0008]作为优选,所述步骤d中,MgO粉末的添加量为钕铁硼细粉质量的0.05~0.25%。
[0009]磁体的补氧量与MgO粉末的添加量成正相关,而磁体最终的氧含量与磁体磁性能有关,并且MgO添加量较多时,MgO易发生团聚进而影响磁体性能,因此当MgO粉末的添加量为钕铁硼细粉质量的0.05~0.25%时,制备得到的磁体磁性能较好。
[0010]作为优选,所述步骤d中,MgO粉末的平均粒径为1~3μm。
[0011]MgO粉末的粒径会影响MgO与钕铁硼细粉的混合均匀性,以及烧结时去除Mg元素的难易程度,当残留Mg较多时,Mg与Nd复合使磁体的磁性能下降。
[0012]作为优选,所述步骤d中,MgO粉末中粒径大于5μm的粉末占比不大于5%。
[0013]对于单个的MgO粉末颗粒来说,当粒径较大时,烧结后MgO颗粒会残留在磁体内,对磁体的磁性能造成负面影响。
[0014]作为优选,所述步骤b中,氢破时氢气压力0.01~0.09MPa。
[0015]作为优选,所述步骤c得到的钕铁硼细粉的粒径为3~5μm。
[0016]作为优选,所述步骤d中,添加剂包括硬脂酸锌、硬脂酸钙和聚乙二醇辛烷中的一种或多种,添加剂的添加量为钕铁硼细粉质量的0.03~0.05%。
[0017]作为优选,所述步骤f中,真空烧结温度不低于1050℃,烧结时间不少于6h,真空度不低于1
×
10
‑3Pa。
[0018]烧结时钕铁硼压坯的致密度提高,同时MgO中Mg元素离开磁体挥发至真空环境中。当烧结温度较低或者烧结时间较短时,导致Mg元素不能充分挥发,磁体中残留的Mg较多。
[0019]作为优选,所述步骤f中,回火过程为将真空烧结得到的钕铁硼磁体在800~900℃进行一级热处理2~8h,然后在400~600℃进行二级热处理2~8h。
[0020]因此,本专利技术具有如下有益效果:(1)可以灵活实现稀土永磁钕铁硼的氧含量在1000

2000ppm范围内的调控;(2)在不过量增加第二杂质元素的前提下,有效提高了烧结钕铁硼磁体的矫顽力,进一步优化了磁体的性能;(3)提高了制备过程的可控性,使得产品的一致性好。
附图说明
[0021]图1是实施例1所得烧结钕铁硼磁体的剖面SEM图。
[0022]图2是对比例3所得烧结钕铁硼磁体的剖面SEM图。
[0023]图3是对比例4所得烧结钕铁硼磁体的剖面SEM图。
具体实施方式
[0024]下面结合附图与具体实施方法对本专利技术做进一步的描述。
[0025]实施例1~7一种钕铁硼磁体,制备步骤如下:a、钕铁硼磁体原料按质量百分比组成包括Pr

Nd:32%;B:0.92%;Al:0.15%;Cu:0.3%;Co:0.5%;Ga:0.5%;Zr:0.15%;余量为Fe;将原材料依照熔点从高本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,包括如下步骤:a.将钕铁硼磁体原料进行真空熔炼和甩带得到钕铁硼甩带片;b.将钕铁硼甩带片氢破处理得到氢破后粗粉;c.将氢破后粗粉在气流磨中由惰性气体研磨得到钕铁硼细粉;d.向钕铁硼细粉中加入MgO粉末和添加剂,混合后得到混后细粉;e.将混后细粉取向压制和等静压处理得到钕铁硼压坯;f.将钕铁硼压坯真空烧结、回火后,得到钕铁硼磁体。2.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤a中,钕铁硼磁体原料按质量百分比组成包括Pr

Nd:31.5%~32.5%;B:0.92%~0.98%;Al:0.1%~0.2%;Cu:0.25~0.32%;Co:0~0.5%;Ga:0~0.5%;Zr:0~0.15%;余量为Fe。3.根据权利要求1所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,MgO粉末的添加量为钕铁硼细粉质量的0.05~0.25%。4.根据权利要求1或3所述的一种烧结钕铁硼氧含量的调控制备方法,其特征是,所述步骤d中,MgO粉末的平均粒径为1~3μm。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:付松张雪峰刘孝莲纪一见赵利忠严密
申请(专利权)人:杭州电子科技大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1