热阻式蒸镀装置及蒸镀设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体技术领域，尤其涉及一种热阻式蒸镀装置及蒸镀设备，热阻式蒸镀装置包括蒸镀容器；支撑腔，密封包覆于蒸镀容器外部；喷嘴组件，包括多个喷嘴，设置于支撑腔的顶壁，并与支撑腔连通；栅格板，固定于支撑腔内，且位于蒸镀容器与喷嘴组件之间，栅格板与支撑腔的内侧壁密封连接；以及镀锅，位于喷嘴组件上方，并能够绕自身轴线旋转。蒸镀设备包括蒸镀腔室以及热阻式蒸镀装置。通过本实用新型专利技术在基片表面形成的膜层质量佳，致密性更优，同时能保证成膜后膜层厚度的均一性。同时能保证成膜后膜层厚度的均一性。同时能保证成膜后膜层厚度的均一性。

【技术实现步骤摘要】
热阻式蒸镀装置及蒸镀设备


[0001]本技术涉及半导体
，尤其涉及热阻式蒸镀装置及蒸镀设备。

技术介绍

[0002]蒸镀技术，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式，蒸发镀膜材料使之气化，气化粒子沉积至基片或器件表面凝聚成膜的工艺方法。主要采用蒸镀设备向待镀膜基片或器件上以蒸汽形式喷射成膜材料，以在该基片或器件表面上形成膜层。其中，热阻式蒸镀设备是半导体、LED(发光二极管)、OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode；简称：OLED，有机发光二极管)面板行业的成膜设备，通过对钨舟加热，将置于钨舟内的固态或液态的成膜材料进行融化蒸发，使其蒸汽无序的飘至上方的基片表面，形成薄膜。
[0003]然而，由于蒸发出的膜料无外力约束，并且其运动具有无序性，导致制程得出的膜层粗糙，质量较差，且片内或片间膜厚均一性较差。因此，如何改善膜层质量以及膜厚均一性是亟需解决的问题。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种热阻式蒸镀装置及蒸镀设备，旨在解决现有技术中膜层粗糙且均一性差的问题。
[0005]一种热阻式蒸镀装置，包括：
[0006]蒸镀容器；
[0007]支撑腔，密封包覆于所述蒸镀容器外部；
[0008]喷嘴组件，包括多个喷嘴，设置于所述支撑腔的顶壁，并与所述支撑腔连通；
[0009]栅格板，固定于所述支撑腔内，且位于所述蒸镀容器与喷嘴组件之间，所述栅格板与支撑腔的内侧壁密封连接；以及
[0010]镀锅，位于所述喷嘴组件上方，并能够绕自身轴线旋转。
[0011]上述热阻式蒸镀装置，通过栅格板及喷嘴组件能够均匀的喷射出气态成膜材料，以使得被喷射出的均匀的气态成膜材料在基片表面能够形成质量佳的膜层，使得致密性更优，同时镀锅做自转运动能保证其上的基片均匀的被气态成膜材料覆盖到，进一步保证成膜后膜层厚度的均一性。
[0012]可选地，所述栅格板上设置有多个镂空结构，且各个所述镂空结构均匀布置，各个所述镂空结构的尺寸相同。通过设置镂空结构，可使气态成膜材料从镂空结构中通过并到达喷嘴组件；并且，各个镂空结构均布且尺寸相同，能够保证气态成膜材料均匀地飘出，保证成膜时的膜层质量。
[0013]可选地，所述栅格板沿平行于所述喷嘴组件的方向设置，且所述栅格板在平行于所述喷嘴组件所在平面内的形状与所述支撑腔的截面形状一致。如此，能够保证栅格板与支撑腔的内侧壁密封连接，以使栅格板下方的气态成膜材料从镂空结构中通过，保证栅格板对气态成膜材料的约束作用。
[0014]可选地，所述支撑腔的形状包括圆柱形，所述栅格板的形状包括圆盘形。圆柱形支撑腔结构简单，便于制造，栅格板与支撑腔结构匹配，圆盘形栅格板同样便于制造加工；同时，也利于喷嘴组件在支撑腔体上的均布设置，利于镂空结构在栅格板上的均布设置。
[0015]可选地，多个所述喷嘴在所述支撑腔的顶壁上均匀布置，且多个所述喷嘴等高。如此，通过喷嘴的均布设计，保证气态成膜材料在从栅格板的镂空结构中飘出后，经由各个喷嘴均匀地喷射向待蒸镀的基片表面，从而保证成膜质量及致密性。
[0016]可选地，所述栅格板及喷嘴采用耐高温材料。如此，能够保证栅格板及喷嘴在高温环境下不会发生形变、腐蚀等，保证其各自形状及特性，延长使用寿命，保证成膜效果。
[0017]可选地，所述喷嘴组件的总体喷射范围覆盖所述镀锅的外缘。如此，保证喷嘴组件喷射时能够覆盖镀锅的内表面，满足对基片蒸镀成膜的喷射要求。
[0018]可选地，所述镀锅的自身轴线垂直于所述支撑腔顶壁所在平面，且所述镀锅的自身轴线对应于所述蒸镀容器的中部。如此，保证镀锅相对于支撑腔居中设置，蒸镀容器也与镀锅居中对应，保证从蒸镀容器中蒸发出的气态成膜材料能够依次经栅格板、喷嘴组件后，借助镀锅自转，均匀地喷射在镀锅上。
[0019]可选地，所述镀锅的内壁上设置有多个用于承载基片的承载位。如此，各个承载位用于安装待成膜的基片。
[0020]基于同样的技术构思，本申请还提供一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室以及如上所述的热阻式蒸镀装置，所述热阻式蒸镀装置设置于所述蒸镀腔室中。
[0021]上述蒸镀设备，能够使通过该蒸镀设备制成的成膜后膜层致密性佳，膜层质量好，且保证膜厚的均一性。
附图说明
[0022]图1为本技术实施例的整体结构示意图；
[0023]图2为本技术实施例的部分结构放大示意图。
[0024]附图标记说明：
[0025]100
‑
固定板；
[0026]200
‑
蒸镀容器；
[0027]300
‑
支撑腔；301
‑
第一腔室；302
‑
第二腔室；
[0028]310
‑
栅格板；311
‑
镂空结构；320
‑
喷嘴；
[0029]400
‑
镀锅；410
‑
承载位。
具体实施方式
[0030]为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施方式。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本申请的公开内容理解的更加透彻全面。
[0031]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。
[0032]现有方案中，往往将成膜材料置于钨舟内，通过对钨舟加热将置于钨舟内的的膜料进行融化蒸发，使其无序的飘至上方的基片表面成膜，由于蒸发出的膜料未受外力约束，且其运动的无序性会向各个方向溢散，且向各个方向飘出的蒸汽也不均匀，导致制程得出的膜层粗糙，质量较差且片内片间膜厚均一性较差。
[0033]基于此，本申请希望提供一种能够解决上述技术问题的方案，其详细内容将在后续实施例中得以阐述。
[0034]参阅图1和图2，本申请的实施例提供一种热阻式蒸镀装置，包括：蒸镀容器200、支撑腔300、喷嘴组件、栅格板310以及镀锅400，其中，蒸镀容器200设置在一固定板100上，蒸镀容器200用于盛放并加热成膜材料。固态或液态成膜材料加热后蒸发气化，转变为气态成膜材料。支撑腔300密封包覆于所述蒸镀容器200外部，支撑腔300与所述固定板100密封连接。如此，保证支撑腔300与蒸镀容器200形成密封状态，保证蒸镀容器200中蒸发出的气态成膜材料不会从支撑腔300底部漏出。喷嘴组件包括多个喷嘴320，设置于所述支撑腔300的顶壁，并与所述支撑腔300连通。如此，能够通过设置喷嘴320，使支撑腔300内的气态成膜材料从喷嘴320中喷射出来，以便喷射至基片上成膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种热阻式蒸镀装置，其特征在于，包括：蒸镀容器；支撑腔，密封包覆于所述蒸镀容器外部；喷嘴组件，包括多个喷嘴，设置于所述支撑腔的顶壁，并与所述支撑腔连通；栅格板，固定于所述支撑腔内，且位于所述蒸镀容器与喷嘴组件之间，所述栅格板与支撑腔的内侧壁密封连接；以及镀锅，位于所述喷嘴组件上方，并能够绕自身轴线旋转。2.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述栅格板上设置有多个镂空结构，且各个所述镂空结构均匀布置，各个所述镂空结构的尺寸相同。3.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述栅格板沿平行于所述喷嘴组件的方向设置，且所述栅格板在平行于所述喷嘴组件所在平面内的形状与所述支撑腔的截面形状一致。4.如权利要求3所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述支撑腔的形状为圆柱形，所述栅格板的形状为圆盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄琪兵，杨然翔，王怀超，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：