一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置，包括基座和盖体，基座凹设有清洁腔室以容置所述气体喷头，盖体中空形成为暂存腔，暂存腔连接有清洗液管路和干燥气体管路，清洗液管路、干燥气体管路分别将清洗液、干燥气体输送至暂存腔；暂存腔的底面朝向基座，暂存腔的底面设置为网孔面，清洗液、干燥气体自暂存腔的底面输出。本实用新型专利技术通过提供一种清洗装置，实现了清洗液清洗与干燥在同一设备内完成，节省了人力，简化了清洗步骤；同时，通过对清洗液压力的控制，实现了针对不同型号的气体喷头适用不同清洗压力，提高了清洁效果。效果。效果。

A cleaning device of gas nozzle for chemical vapor deposition equipment

【技术实现步骤摘要】
一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置


[0001]本技术涉及半导体领域，特别涉及一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置。

技术介绍

[0002]半导体的制程中，晶圆表面往往需要进行薄膜沉积，目前，薄膜沉积的方式有多种，其中，CVD(化学气相沉积)是较为常用的一种。化学气相沉积是在一定的条件下，气相反应物之间发生反应生成固相产物，并沉积在晶圆上，形成薄膜层。但固相产物还会沉积在除晶圆之外的其他部件上，比如反应腔室的内表面和气体喷头，尤其是，当其沉积在气体喷头时，对产品质量产生较大影响：气体喷头的网孔被堵塞，将直接影响颗粒数、成膜速率、膜的均匀性以及刻蚀率等；气体喷头内的固相沉积物达到一定程度时，还可能发生掉落，若掉落至晶圆表面，将会产生不良，影响晶圆质量。因此，需要对气体喷头进行彻底清洗，以保证网孔彻底通畅。
[0003]目前，对气体喷头的清洗一般首先是超声清洗，之后是清洗液冲洗，最后进行烘干处理。对于超声清洗，一般在超声清洗仪中进行，清洗液的冲洗则一般由操作人员手动使用高压水枪进行，烘干则在烘干炉中进行；现有技术中的清洁操作步骤较多，操作时间较长，且耗费人力；另外，现有技术中的清洗效果也往往不理想，因为气体喷头型号不同，其网孔的形状也不同，高压水枪进行冲洗的压力也应当不同，但现有技术中，并没有严格区分；同时，每个冲洗人员的冲洗手法也有所差别，导致往往不能对气体喷头的所有网孔进行充分冲洗，影响冲洗效果。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题是提供一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置，能实现节省清洗步骤，节省人力成本，节省清洗时间，且提高清洗效果。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供的一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置，包括
[0006]基座，所述基座凹设有清洁腔室以容置所述气体喷头；
[0007]盖体，所述盖体安装于所述基座，将所述气体喷头固定于所述清洁腔室内；
[0008]所述盖体中空形成为暂存腔，所述暂存腔连接有清洗液管路和干燥气体管路，所述清洗液管路、所述干燥气体管路分别将清洗液、干燥气体输送至所述暂存腔；
[0009]所述暂存腔的底面朝向所述基座，所述暂存腔的底面设置为网孔面，所述清洗液、所述干燥气体自所述暂存腔的底面输出。
[0010]较佳地，所述清洁腔室的底面设置为夹层结构，所述底面包括上夹层和下夹层，所述上夹层设置为网孔面，所述下夹层开设有排污口，所述清洗液、所述干燥气体自所述上夹层进入夹层之间，再通过所述排污口排出。
[0011]较佳地，所述排污口设置有密封盖。
[0012]较佳地，所述清洗液管路与所述干燥气体管路通过控制器控制打开或关闭。
[0013]较佳地，所述清洗液管路安装有第一压力阀和第一过滤器，所述干燥气体管路安装有第二压力阀和第二过滤器。
[0014]较佳地，所述清洗液为超纯水，所述干燥气体为氮气。
[0015]较佳地，所述基座和所述盖体通过紧固件连接。
[0016]较佳地，所述基座与所述盖体之间安装有密封件。
[0017]较佳地，所述盖体设置有把手。
[0018]本技术通过提供一种清洗装置，实现了清洗液清洗与干燥在同一设备内完成，节省了人力，简化了清洗步骤；同时，通过对清洗液压力的控制，实现了针对不同型号的气体喷头适用不同清洗压力，提高了清洁效果。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面对本技术所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本技术的清洁装置一实施例的示意图；
[0021]图2是本技术的清洁装置一实施例的剖视图，其中，箭头示出了清洗液及干燥气体流向；
[0022]图中，1
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基座；2
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盖体；3
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控制器；4
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紧固件；5
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密封件；6
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把手；7
‑
气体喷头；11
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清洁腔室；12
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上夹层；13
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下夹层；14
‑
排污口；15
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密封盖；21
‑
暂存腔；22
‑
清洗液管路；23
‑
干燥气体管路；24
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第一压力阀；25
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第一过滤器；26
‑
第二压力阀；27
‑
第二过滤器；
具体实施方式
[0023]下面将结合附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]参考图1和图2，示出了本技术的一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置，包括:
[0025]基座，所述基座凹设有清洁腔室以容置所述气体喷头；
[0026]盖体，所述盖体安装于所述基座，将所述气体喷头固定于所述清洁腔室内；
[0027]所述盖体中空形成为暂存腔，所述暂存腔连接有清洗液管路和干燥气体管路，所述清洗液管路、所述干燥气体管路分别将清洗液、干燥气体输送至所述暂存腔；
[0028]所述暂存腔的底面朝向所述基座，所述暂存腔的底面设置为网孔面，所述清洗液、所述干燥气体自所述暂存腔的底面输出。
[0029]本技术实施例中，经过超声清洗的气体喷头直接放置于基座内，将盖体连接于基座时，气体喷头被固定于基座的清洁腔室内，清洗液通过清洗液管路进入盖体的暂存腔内，并通过暂存腔底面的网孔面喷出，喷出过程中完成对气体喷头的清洗液冲洗，冲洗完
成后，清洗液管路关闭，干燥气体管路打开，对气体喷头进行吹干处理，图2中箭头示出了清洗液和干燥气体的流经途径。本技术实施例中，将清洗液清洗步骤与干燥步骤统一在清洗装置中进行，节省了人工，简化了清洗步骤；同时，由于清洗液管路中的清洗液压力可被调控，因此，能够实现针对不同型号气体喷头使用不同的清洗压力，保证了各型号的气体喷头均在适合的压力下清洗，达到最佳的清洁效果；另外，暂存腔的底面为网孔面，喷出的清洗液能覆盖气体喷头的所有网孔，因此，能实现气体喷头的无差异化清洗，也不存在由于操作手法的问题而导致气体喷头的部分网孔无法得到有效清洗的情况。
[0030]在一种具体的实施方式中，所述清洁腔室的底面设置为夹层结构，所述底面包括上夹层和下夹层，所述上夹层设置为网孔面，所述下夹层开设有排污口，所述清洗液、所述干燥气体自所述上夹层进入夹层之间，再通过所述排污口排出。优选地，所述排污口设置有密封盖。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备用气体喷头的清洁装置，其特征在于，包括:基座，所述基座凹设有清洁腔室以容置所述气体喷头；盖体，所述盖体安装于所述基座，将所述气体喷头固定于所述清洁腔室内；所述盖体中空形成为暂存腔，所述暂存腔连接有清洗液管路和干燥气体管路，所述清洗液管路、所述干燥气体管路分别将清洗液、干燥气体输送至所述暂存腔；所述暂存腔的底面朝向所述基座，所述暂存腔的底面设置为网孔面，所述清洗液、所述干燥气体自所述暂存腔的底面输出。2.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁腔室的底面设置为夹层结构，所述底面包括上夹层和下夹层，所述上夹层设置为网孔面，所述下夹层开设有排污口，所述清洗液、所述干燥气体自所述上夹层进入夹层之间，再通过所...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵军，胡广严，高峰，
申请(专利权)人：华虹半导体无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：