用于处理基板的装置和用于处理基板的方法制造方法及图纸

本发明专利技术构思提供了一种基板处理装置。根据本发明专利技术构思，基板处理装置通过在旋转基板上供应处理液来处理所述基板。排出内部空间的气氛的排气单元包括：引入所述内部空间的气氛的第一排气口；设置为在第一方向上排出通过所述第一排气口引入的气氛的第一排气管线以及引入所述内部空间的气氛的第二排气口；以及设置为在第二方向上排出通过所述第二排气口引入的气氛的第二排气管线。控制器控制支撑单元使得所述第一排气管线和所述第二排气管线内部的排气方向成为相对于所述基板的旋转方向的正向方向。向方向。向方向。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置和用于处理基板的方法


[0001]本文中描述的专利技术构思的实施方式涉及用于处理基板的装置和方法，并且更具体地，涉及用于通过将液体供应到旋转基板上来处理基板的装置和方法。

技术介绍

[0002]执行诸如光刻过程、蚀刻过程、灰化过程、薄膜沉积过程和清洁过程的各种过程来制造半导体器件或平板显示器面板。在这些过程中，光刻过程包括将光刻胶供应到半导体基板以在基板的表面上形成光刻胶膜，使用光掩模对光刻胶膜进行曝光，以及然后供应显影液以选择性地移除光刻胶膜的部分。
[0003]图1是示意性地示出用于将光刻胶施加到基板上的基板处理装置的截面图，并且图2是示意性地示出在图1的基板处理装置中联接到处理容器的排气单元的布置的平面图。参考图1和图2，基板处理装置900包括具有内部空间901的处理容器920、将基板W支撑在内部空间901中的支撑单元940，以及将光刻胶供应到置于支撑单元940上的基板W上的喷嘴980。
[0004]排气单元960联接到处理容器920的底壁，并且排气单元960排出处理容器920的内部空间901的气氛。排气单元960具有第一排气管线962、第二排气管线964和公共管道966。第一排气管线962通过第一排气口961排出处理容器920的内部空间901的气氛，并且第二排气管线964通过第二排气口963排出处理容器901的内部空间901的气氛。第一排气管线962和第二排气管线964连接到公共管道966，并且通过第一排气口961和第二排气口963从内部空间901排出的大气流向公共管道966。
[0005]图3示出了当使用图1的基板处理装置900处理基板时处理容器920的内部空间901的气氛的排气状态。参考图3，当基板(或支撑单元)在供应光刻胶以处理基板的同时顺时针旋转时，第一排气管线962被设置成在相对于基板的旋转方向的正向方向上排气，但是第二排气管线964被设置成在相对于基板的旋转方向的相反方向上排气。因此，气氛通过第一排气口961顺利地排出，但是通过第二排气口963的气氛由于在第二排气口962附近产生涡流而不能顺利地排出。因此，通过第二排气口963排出的排气量小于通过第一排气口961排出的排气量。
[0006]在这种情况下，排气量在内部空间901中在其中设置第一排气口961的区域和其中设置第二排气口963的区域之间出现偏差，这影响了基板的区域之间的光刻胶的涂层膜厚度的均匀性。
[0007]另外，随着流过第一排气管线962的排气和流过第二排气管线964的排气在第一排气管线962和第二排气管线964连接到公共管道966的点处彼此碰撞，流动阻力增加，并且气氛不会以预定体积从处理容器920的内部空间901排出，因此发生过程错误。

技术实现思路

[0008]本专利技术构思的实施方式提供了一种用于提高处理基板的效率的基板处理装置。
[0009]本专利技术构思的实施方式提供了一种用于在处理基板时通过将处理液体供应到内部空间中的旋转基板上来顺利地排放内部空间中的空气流的基板处理装置。
[0010]本专利技术构思的实施方式提供了一种用于通过将处理液体供应到旋转基板上来在基板的整个区域上形成具有均匀厚度的液膜的基板处理装置。
[0011]有待由本专利技术构思解决的技术问题不限于上文所提及的问题，并且本专利技术构思所属的本领域的技术人员根据以下描述将清楚地理解本文中未提及的任何其他技术问题。
[0012]本专利技术构思的实施方式提供了一种基板处理装置。所述装置包括：处理容器，其具有内部空间；支撑单元，其在所述内部空间中支撑并旋转所述基板；以及排气单元，其联接到所述处理容器并排出所述内部空间的气氛，其中所述排气单元包括：第一排气管线，其具有引入所述内部空间的气氛的第一排气口，所述第一排气管线设置为排出通过所述第一排气口引入的气氛；以及第二排气管线，其具有引入所述内部空间的气氛的第二排气口，所述第二排气管线设置为排出通过所述第二排气口引入的气氛，并且当从上方观察时，基于穿过所述第一排气口和所述第二排气口的虚拟直线，所述第一排气管线在朝向所述直线的侧面的方向上排出气氛，并且所述第二排气管线在朝向所述直线的另一侧的方向上排出气氛。
[0013]在一个实施方式中，所述装置还包括控制所述支撑单元的控制器，所述控制器控制所述支撑单元使得所述第一排气管线和所述第二排气管线内部的排气方向成为相对于所述基板的旋转方向的正向方向。
[0014]在一个实施方式中，所述第一排气管线和所述第二排气管线分别以圆弧形状设置。
[0015]在一个实施方式中，所述支撑单元包括：支撑板，其支撑所述基板；驱动轴，其联接到所述支撑板；以及驱动器，其旋转所述驱动轴，并且当从上方看时，所述第一排气管线和所述第二排气管线具有相对于所述支撑板的旋转中心对称的点。
[0016]在一个实施方式中，所述第一排气管线和所述第二排气管线联接到所述处理容器的底壁。
[0017]在一个实施方式中，所述装置还包括液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液。
[0018]本专利技术构思的实施方式提供了一种基板处理装置。所述装置包括：用于处理所述基板的第一处理单元，其包括具有第一内部空间的第一处理容器和在所述第一内部空间中支撑并旋转所述基板的第一支撑单元；用于处理所述基板的第二处理单元，其包括具有第二内部空间的第二处理容器和在所述第二内部空间中支撑并旋转所述基板的第二支撑单元；以及排气单元，其使所述第一内部空间和所述第二内部空间排气，其中所述第一处理单元和所述第二处理单元布置成一行，并且所述排气单元包括：第一公共管道，其位于基于所述第一处理单元和所述第二处理单元的单元布置方向的所述单元布置方向的侧面处；第二公共管道，其位于所述单元布置方向的另一侧处；第一排气管线，其具有引入所述第一内部空间的气氛的第一排气口并且通过所述第一公共管道排出引入所述第一排气口的气氛；第二排气管线，其具有引入所述第一内部空间的气氛的第二排气口并且通过所述第二公共管道排出引入所述第二排气口的气氛；第三排气管线，其具有引入所述第二内部空间的气氛的第三排气口并且通过所述第一公共管道排出引入所述第三排气口的气氛；以及第四排气
管线，其具有引入所述第二内部空间的气氛的第四排气口并且通过所述第二公共管道排出进入所述第四排气口的气氛。
[0019]在一个实施方式中，所述装置还包括控制所述第一支撑单元和所述第二支撑单元的控制器，所述控制器控制所述第一支撑单元和所述第二支撑单元，使得所述第一排气管线、所述第二排气管线、所述第三排气管线和所述第四排气管线内部的排气方向成为相对于所述基板的旋转方向的正向方向。
[0020]在一个实施方式中，所述第一排气管线、所述第二排气管线、所述第三排气管线和所述第四排气管线分别以圆弧形状设置。
[0021]在一个实施方式中，所述第一支撑单元包括：第一支撑板，其支撑所述基板；第一驱动轴，其联接到所述第一支撑板；以及第一驱动器，其旋转所述第一驱动轴，其中当从上方看时，所述第一排本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理基板的装置，其包括：处理容器，其具有内部空间；支撑单元，其在所述内部空间中支撑并旋转所述基板；以及排气单元，其联接到所述处理容器并排出所述内部空间的气氛，其中所述排气单元包括：第一排气管线，其具有引入所述内部空间的气氛的第一排气口，所述第一排气管线设置为排出通过所述第一排气口引入的气氛；以及第二排气管线，其具有引入所述内部空间的气氛的第二排气口，所述第二排气管线设置为排出通过所述第二排气口引入的气氛，并且当从上方观察时，基于穿过所述第一排气口和所述第二排气口的虚拟直线，所述第一排气管线在朝向所述虚拟直线的第一侧的方向上排出气氛，并且所述第二排气管线在朝向所述直线的与所述第一侧相对的第二侧的方向上排出气氛。2.根据权利要求1所述的装置，其还包括控制所述支撑单元的控制器，所述控制器控制所述支撑单元使得所述第一排气管线和所述第二排气管线内部的排气方向成为相对于所述基板的旋转方向的正向方向。3.根据权利要求1或权利要求2所述的装置，其中所述第一排气管线和所述第二排气管线分别以圆弧形状设置。4.根据权利要求1或权利要求2所述的装置，其中所述支撑单元包括：支撑板，其支撑所述基板；驱动轴，其联接到所述支撑板；以及驱动器，其旋转所述驱动轴，并且其中当从上方看时，所述第一排气管线和所述第二排气管线具有相对于所述支撑板的旋转中心对称的点。5.根据权利要求1或权利要求2所述的装置，其中所述第一排气管线和所述第二排气管线联接到所述处理容器的底壁。6.根据权利要求1或权利要求2所述的装置，其还包括液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液。7.一种用于处理基板的装置，其包括：用于处理所述基板的第一处理单元，其包括具有第一内部空间的第一处理容器和在所述第一内部空间中支撑并旋转所述基板的第一支撑单元；用于处理所述基板的第二处理单元，其包括具有第二内部空间的第二处理容器和在所述第二内部空间中支撑并旋转所述基板的第二支撑单元；以及排气单元，其使所述第一内部空间和所述第二内部空间排气，其中所述第一处理单元和所述第二处理单元布置成一条线，并且所述排气单元包括：第一公共管道，其位于由所述第一处理单元和所述第二处理单元的布置所限定的单元布置方向的第一侧处；第二公共管道，其位于所述单元布置方向的与所述第一侧相对的第二侧处；第一排气管线，其具有引入所述第一内部空间的气氛的第一排气口并且通过所述第一
公共管道排出引入所述第一排气口的气氛；第二排气管线，其具有引入所述第一内部空间的气氛的第二排气口并且通过所述第二公共管道排出引入所述第二排气口的气氛；第三排气管线，其具有引入所述第二内部空间的气氛的第三排气口并且通过所述第一公共管道排出引入所述第三排气口的气氛；以及第四排气管线，其具有引入所述第二内部空间的气氛的第四排气口并且通过所述第二公共管道排出进入所述第四排气口的气氛。8.根据权利要求7所述的装置，其还包括控制所述第一支撑单元和所述第二支撑单元的控制器，所述控制器控制所述第一支撑单元和所述第二支撑单元，使得所述第一排气管线、所述第二排气管线、所述第三排气管线和所述第四排气管线内部的排气方向成为相对于所述基板的旋转方向的正向方向。9.根据权利要求7或权利要求8所述的装置，其中所述第一排气管线、所述第二排气管线、所述第三排气管线和所述第四排气管...

【专利技术属性】
技术研发人员：金周援，徐准浩，朴崠云，尹相弼，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：