承载装置及光刻设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供的一种承载装置及光刻设备，其通过在承载装置中设置至少一个与承载台连接的支撑件，如此使得运动台沿着水平向进行二自由度运动时，支撑件在运动台的带动下在水平向内发生形变，当支撑件在水平向发生形变时，形变产生的力能够减弱运动台在运动时对承载台的冲击。的冲击。的冲击。

【技术实现步骤摘要】
承载装置及光刻设备


[0001]本专利技术涉及光刻
，尤其是涉及一种承载装置及光刻设备。

技术介绍

[0002]随着半导体工艺的发展，光刻技术应用越来越广泛，而光刻设备为光刻技术中比较中要的设备。光刻设备中，用于承载硅片的工件台位于承载台上，在进行光刻时，通过调整工件台的位置以调整承载在工件台上的硅片的位置。
[0003]但在工件台水平移动时通常会产生一与移动方向相反的反作用力，该反作用力会传递给承载台，对承载台产生作用而使承载台振动或移动。现有技术中为解决上述问题，在工件台和承载台之间还设有平衡质量块，该反作用力会传递给平衡质量块，使该平衡质量块在该反作用力下向与工件台移动方向相反的方向移动，如此以避免该反作用力传递给承载台，而导致的工件台在移动时导致的承载台振动或移动的问题。
[0004]而平衡质量块虽可承受该反作用力，以避免该反作用力传递给承载台。但平衡质量块在该反作用力作用下的运动会与承载台产生摩擦，导致平衡质量块仍然会对承载台产生冲击力，进而使承载台振动或移动。可通过在平衡质量块和承载台之间设置气浮轴承以解决该问题，但由于光刻机内部需真空环境，气浮轴承无法在真空环境中使用，因此，急需设计一款新的承载装置以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种承载装置及光刻设备，以解决现有技术的光刻设备中工件台在移动时，产生的反作用力经平衡质量块抵消后仍对承载台产生冲击力，导致承载台振动或移动的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种承载装置，包括：
[0007]承载台；
[0008]至少一个与所述承载台连接的支撑件，所述支撑件用于承载运动台，并在所述运动台沿着水平向进行二自由度运动时，使所述支撑件在所述运动台的带动下在水平向内发生形变。
[0009]可选的，所述承载台具有一容纳腔，所述容纳腔用于容纳所述运动台和所述支撑件，所述支撑件位于所述承载台的内壁和所述运动台之间，并且所述支撑件的一端与所述承载台的内壁连接，所述支撑件的另一端与所述运动台连接。
[0010]可选的，所述支撑件弯折设置。
[0011]可选的，所述支撑件包括两个支撑臂，两个所述支撑臂相互连接以构成弯折设置的所述支撑件，且两个所述支撑臂具有一夹角。
[0012]可选的，所述夹角的角度为30
°
～90
°
。
[0013]可选的，所述所述支撑臂上设有缺口。
[0014]可选的，弯折设置的所述支撑件一体成型。
[0015]可选的，所述支撑件弹性设置。
[0016]可选的，所述承载装置还包括第一连接件和第二连接件，所述第一连接件位于所述支撑件和所述承载台之间以连接所述承载台和所述支撑件，所述第二连接件位于所述运动台和所述支撑件之间以连接所述运动台和所述支撑件。
[0017]可选的，所述支撑件还包括加强板，所述加强板设置在所述支撑件远离所述夹角的至少一端部，用于在所述支撑件支撑所述运动台时贴合于所述运动台。
[0018]可选的，所述支撑件位于所述承载台的顶表面上，所述支撑件包括回字形的第一支撑框和第二支撑框；所述第一支撑框具有与所述承载台连接的固定框臂；所述第二支撑框位于所述第一支撑框的第一容置腔内，所述第二支撑框的其中一个框臂与所述第一支撑框中与所述固定框臂相对的可动框臂连接，所述第二支撑框中与所述其中一个框臂相对设置的框臂与所述运动台连接。
[0019]可选的，所述第一支撑框包括两个相对设置第一子臂和两个相对设置第二子臂，两个所述第一子臂的其中之一与所述承载台连接以构成所述固定框臂，另一第一子臂可移动设置在所述承载台上方，以及两个所述第二子臂为弹性臂；所述第二支撑框包括两个相对设置第三子臂和两个相对设置第四子臂，两个所述第四子臂的其中之一与可移动设置在所述承载台上方的所述第一子臂连接，以及两个所述第三子臂为弹性臂。
[0020]可选的，所述第二支撑框还包括连接板，所述连接板位于所述第二支撑框的第二容置腔内，并连接所述第二支撑框中与所述第一子臂连接的第三子臂，并且所述连接板还具有连接面以用于与所述运动台连接。
[0021]可选的，所述承载台上还设有减震装置，所述减震装置用于产生减震力。
[0022]可选的，所述支撑件与所述承载台和所述运动台可拆卸连接。
[0023]为解决上述问题，本专利技术还提供一种光刻设备，所述光刻设备包括如上述任意一项所述的承载装置、运动台和工件台，至少一个与承载台连接的支撑件与所述运动台连接，以支持所述运动台，所述工件台位于所述运动台上；所述工件台在水平向进行二自由度运动时，带动所述运动台在水平向内进行二自由度运动，所述支撑件在所述运动台的带动下在水平向发生形变。
[0024]本专利技术提供的一种承载装置，通过在承载装置中设置至少一个与承载台连接的支撑件，如此使得运动台沿着水平向进行二自由度运动时，支撑件在运动台的带动下在水平向内发生形变，当支撑件在水平向发生形变时，形变产生的力能够减弱运动台在运动时对承载台的冲击。
附图说明
[0025]图1是本专利技术实施例一的承载装置的结构示意图。
[0026]图2是本专利技术实施例一的承载装置中的支撑件的结构示意图。
[0027]图3是本专利技术实施例一的承载装置中的支撑件的另一结构示意图。
[0028]图4是本专利技术实施例二的承载装置的结构示意图。
[0029]图5是本专利技术实施例二的承载装置中的支撑件的结构示意图。
[0030]附图标记
[0031]1‑
承载台；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
11
‑
侧壁；
[0032]1B
‑
顶表面；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
1A
‑
容纳腔；
[0033]2‑
支撑件；
[0034]21
‑
支撑臂；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
22
‑
加强板；
[0035]2A
‑
缺口；
[0036]210
‑
第一支撑框；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
211
‑
第一子臂；
[0037]212
‑
第二子臂；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
211A
‑
第一螺孔；
[0038]210A
‑
第一容置腔；
[0039]220
‑
第二支撑框；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
221
‑
第三子臂；
[0040]222
‑
第四子臂；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
223
‑
连接板；
[0041]223A
‑
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种承载装置，其特征在于，包括：承载台；至少一个与所述承载台连接的支撑件，所述支撑件用于承载运动台，并在所述运动台沿着水平向进行二自由度运动时，使所述支撑件在所述运动台的带动下在水平向内发生形变。2.如权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述承载台具有一容纳腔，所述容纳腔用于容纳所述运动台和所述支撑件，所述支撑件位于所述承载台的内壁和所述运动台之间，并且所述支撑件的一端与所述承载台的内壁连接，所述支撑件的另一端与所述运动台连接。3.如权利要求2所述的承载装置，其特征在于，所述支撑件弯折设置。4.如权利要求3所述的承载装置，其特征在于，所述支撑件包括两个支撑臂，两个所述支撑臂相互连接以构成弯折设置的所述支撑件，且两个所述支撑臂具有一夹角。5.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述夹角的角度为30
°
～90
°
。6.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述支撑臂上设有缺口。7.如权利要求3所述的承载装置，其特征在于，弯折设置的所述支撑件一体成型。8.如权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述支撑件弹性设置。9.如权利要求2所述的承载装置，其特征在于，所述承载装置还包括第一连接件和第二连接件，所述第一连接件位于所述支撑件和所述承载台之间以连接所述承载台和所述支撑件，所述第二连接件位于所述运动台和所述支撑件之间以连接所述运动台和所述支撑件。10.如权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述支撑件还包括加强板，所述加强板设置在所述支撑件远离所述夹角的至少一端部，用于在所述支撑件支撑所述运动台时贴合于所述运动台。11.如权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述支撑件位于所述承载台的顶表面上，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏柳元，丛国栋，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：