本发明专利技术提供的一种防撞装置和光刻设备，其中防撞装置包括防撞组件和控制组件，当外力撞击防撞组件中的缓冲组件时，缓冲组件推动防撞组件中的活塞组件朝向位于防撞组件的壳体内的压力腔运动以压缩压力腔，压力腔产生一反作用力，进而对该外力进行缓冲。同时，缓冲组件推动活塞朝向压力腔运动时，安装在缓冲组件上的感触器和安装在壳体上的传感器相互脱离或相互靠近至预定距离时，控制组件发出指令。如此一来，防撞装置用于对运动台进行防撞时，不仅可以对外力撞击时产生的力进行缓冲，同时可以通过控制组件发出指令来控制运动台的运动，进而避免出现运动台继续运动带来的二次或多次撞击而导致的运动台损坏的问题。撞击而导致的运动台损坏的问题。撞击而导致的运动台损坏的问题。
【技术实现步骤摘要】
防撞装置及光刻设备
[0001]本专利技术涉及光刻
，尤其是涉及一种防撞装置及光刻设备。
技术介绍
[0002]光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的图形通过曝光依次转移到基板相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻设备来完成。
[0003]光刻设备包含多个运动台，例如工件台、掩模台等，在具体光刻时需要调整各个运动台的位置。不可避免的，光刻设备的运动台在运行时可能发生多种情况的意外碰撞，为了保护光刻设备内尤其是粗微动运动台的各精密部件不在碰撞中被损毁，设计可靠有效的防撞装置是必不可少的。目前，通常是在工运动台上设置防撞装置以防止撞击，但在撞击发生时或者撞击发生后，撞击不能被技术人员知晓，且运动台继续运动，如此通常会发生二次甚至于多次撞击而导致电机损毁和由此导致的衍生事故，例如电机烧毁对光刻机环境洁净度的影响等。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种防撞装置及光刻设备，以解决现有技术的光刻设备中工件台运动发生撞击经防撞装置缓冲后，仍会发生二次甚至多次撞击而导致工件台损坏的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种防撞装置，包括：
[0006]防撞组件，所述防撞组件包括液压缓冲器和缓冲组件，所述液压缓冲器包括壳体和活塞组件，所述壳体内具有第一空腔，所述活塞组件的一端伸入所述第一空腔以将所述第一空腔分割为压力腔和具有液体的液压腔，所述活塞组件的另一端与所述缓冲组件连接，用于在外力撞击所述缓冲组件时，所述缓冲组件推动所述活塞朝向所述压力腔的方向运动以挤压所述压力腔；
[0007]控制组件，所述控制组件包括安装在所述缓冲组件上的感触器和安装在所述壳体上的传感器，所述传感器和所述感触器用于在所述缓冲组件推动所述活塞朝向所述压力腔运动时相互脱离至预定距离，以发出指令。
[0008]可选的，所述控制组件还包括第一固定杆和横杆，所述第一固定杆固定在所述缓冲组件上，所述横杆一端固定在所述第一固定杆上，另一端朝向所述壳体方向延伸并固定有所述感触器。
[0009]可选的，所述控制组件还包括第二固定杆，所述第二固定杆一端固定在所述壳体上，所述第二固定杆另一端固定有所述传感器。
[0010]可选的，所述缓冲组件包括支架和缓冲头，所述支架固定在所述活塞组件远离所述壳体的一端上，所述支架上安装有所述感触器，所述缓冲头安装在所述支架远离所述壳体的一侧上。
[0011]可选的，所述支架具有安装槽，所述缓冲头安装在所述安装槽内并凸出所述支架，所述缓冲头凸出所述支架的部分用于被外力撞击。
[0012]可选的，所述缓冲组件还包括连接销，所述连接销贯穿所述安装槽和所述缓冲头以将所述缓冲头安装在所述安装槽内。
[0013]可选的，所述缓冲组件还包括扣环，所述扣环套设在所述连接销凸出所述支架的部分上，并与所述支架抵接。
[0014]可选的，所述缓冲头具有第二空腔，所述缓冲头的内壁上设有至少一个环绕所述第二空腔的增强环，所述增强环用以增强所述缓冲头的抗力性。
[0015]可选的，所述增强环间断设置。
[0016]可选的，所述增强环为多个，多个所述增强环间隔设置，且相邻所述增强环之间的间隔距离相等。
[0017]可选的，所述支架包括相互连接的第一支架和第二支架，所述第一支架上安装有所述感触器，所述第二支架固定在所述活塞组件远离所述壳体的一端的上，所述缓冲头安装在所述第二支架上。
[0018]可选的，所述第一支架和所述第二支架间具有间隙，所述支架还包括调节件，所述调节件跨过所述间隙与所述第一支架和所述第二支架连接，用以调整所述间隙的宽度。
[0019]可选的，所述活塞组件包括活塞和活塞杆，所述液压缓冲器还包括位于所述第一空腔内的限位挡块，所述限位挡块至少环绕所述活塞杆设置，以对所述活塞组件进行限位；且所述活塞组件和所述限位挡块将所述第一空腔分割为液压腔和压力腔。
[0020]可选的，所述限位挡块环绕所述壳体内壁设置，位于所述液压腔和所述压力腔之间的所述限位挡块上设有出液孔。
[0021]可选的，所述液压缓冲器还包括弹性件，所述弹性件设置在所述壳体和所述缓冲组件之间的所述活塞组件上；和/或，所述液压缓冲器还包括位于所述壳体内的缓冲腔，所述缓冲腔设置在所述压力腔远离所述活塞组件的一侧，所述弹性件设置在所述缓冲腔内。
[0022]可选的，所述弹性件包括弹簧。
[0023]可选的，所述液压缓冲器还包括至少一个密封件，所述密封件至少设置在所述活塞组件与所述壳体交接处，以密封所述第一空腔。
[0024]为解决上述问题，本专利技术还提供一种光刻设备，所述光刻设备包括具有腔室的机架、位于所述腔室内的运动台以及上述任意一项所述的防撞装置，所述防装装置安装在所述运动台上或安装在所述机架的内壁上，用于缓冲所述运动台受到外力撞击。
[0025]可选的，所述防撞装置的数量为四个，四个所述防撞装置安装在所述工件台四角，或者四个所述防撞装置两两一组，两组所述防撞装置安装在所述机架相对的两个内壁上。
[0026]本专利技术提供的一种防撞装置，防撞装置包括防撞组件和控制组件，当外力撞击防撞组件中的缓冲组件时，缓冲组件推动防撞组件中的活塞组件朝向位于防撞组件的壳体内的压力腔运动以压缩压力腔，压力腔产生一反作用力，进而对该外力进行缓冲。同时，缓冲组件推动活塞朝向压力腔运动时，安装在缓冲组件上的感触器和安装在壳体上的传感器相互脱离或相互靠近至预定距离时，控制组件发出指令。如此一来，防撞装置用于对运动台进行防撞时，不仅可以对外力撞击时产生的力进行缓冲，进而避免出现运动台继续运动带来的的二次或多次撞击而导致的运动台损坏的问题。
附图说明
[0027]图1是本专利技术一实施例的防撞装置的结构示意图。
[0028]图2是本专利技术一实施例的防撞装置中的液压缓冲器的结构示意图。
[0029]图3是本专利技术一实施例的防撞装置中的缓冲组件中的缓冲头的结构示意图。
[0030]图4是本专利技术一实施例的防撞装置中的缓冲组件的另一结构示意图。
[0031]图5是本专利技术一实施例的光刻设备的侧视结构示意图。
[0032]图6是本专利技术一实施例的光刻设备的俯视结构示意图。
[0033]图7是本专利技术一实施例的光刻设备的另一侧视结构示意图。
[0034]图8是本专利技术一实施例的光刻设备的另一俯视结构示意图。
[0035]附图标记
[0036]1‑
防撞组件；
[0037]11
‑
液压缓冲器；
[0038]111
‑
壳体；
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112
‑
活塞组件；
[0039]1121
‑
活塞；
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种防撞装置，其特征在于，包括：防撞组件，所述防撞组件包括液压缓冲器和缓冲组件，所述液压缓冲器包括壳体和活塞组件，所述壳体内具有第一空腔，所述活塞组件的一端伸入所述第一空腔以将所述第一空腔分割为压力腔和具有液体的液压腔，所述活塞组件的另一端与所述缓冲组件连接，用于在外力撞击所述缓冲组件时，所述缓冲组件推动所述活塞朝向所述压力腔的方向运动以挤压所述压力腔；控制组件，所述控制组件包括安装在所述缓冲组件上的感触器和安装在所述壳体上的传感器，所述传感器和所述感触器用于在所述缓冲组件推动所述活塞朝向所述压力腔运动时相互脱离或相互靠近至预定距离，以发出指令。2.如权利要求1所述的防撞装置，其特征在于，所述控制组件还包括第一固定杆和横杆，所述第一固定杆固定在所述缓冲组件上，所述横杆一端固定在所述第一固定杆上，另一端朝向所述壳体方向延伸并固定有所述感触器。3.如权利要求1所述的防撞装置，其特征在于，所述控制组件还包括第二固定杆，所述第二固定杆一端固定在所述壳体上，所述第二固定杆另一端固定有所述传感器。4.如权利要求1所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲组件包括支架和缓冲头，所述支架固定在所述活塞组件远离所述壳体的一端上，所述支架上安装有所述感触器，所述缓冲头安装在所述支架远离所述壳体的一侧上。5.如权利要求4所述的防撞装置，其特征在于，所述支架具有安装槽，所述缓冲头安装在所述安装槽内并凸出所述支架，所述缓冲头凸出所述支架的部分用于被外力撞击。6.如权利要求5所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲组件还包括连接销，所述连接销贯穿所述支架和所述缓冲头以将所述缓冲头安装在所述安装槽内。7.如权利要求6所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲组件还包括扣环，所述扣环套设在所述连接销凸出所述支架的部分上，并与所述支架抵接。8.如权利要求4所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲头具有第二空腔，所述缓冲头的内壁上设有至少一个环绕所述第二空腔的增强环，所述增强环用以增强所述缓冲头的抗力性。9.如权利要求8所述的防撞装置，其特征在于，所述增强环间断设置。10.如权利要求8所述的防撞装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵康梅，郑清泉，丛国栋，杨存攀，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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