一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法技术

本发明专利技术提供一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法，本申请提供的碘鎓硼酸盐引发剂应用于阴图平印版前体，热成像数字速度更快，有着优异的耐印力，同时改善了版材存放结晶问题，曝光成像后图文可视性也有提高。阴图平印版为免处理平印版，在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷，即该平印版为阴图在机显影型免处理版。为阴图在机显影型免处理版。

【技术实现步骤摘要】
一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法


[0001]本专利技术涉及阴图平印版，尤其涉及一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法。

技术介绍

[0002]本专利技术涉及可在机（on
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press）显影的阴图印版前体，该前体可通过光辐射进行曝光。具体地讲，本专利技术涉及具有辐射敏感层的可在机显影的印版前体。
[0003]平版印刷版前体一般包含涂覆在基材的亲水表面上的辐射敏感涂层。辐射敏感涂层通常包括一种或多种分散于有机聚合物粘合剂中的对辐射敏感的组分。在将一部分涂层曝光于辐射后（通常称为曝光成像），涂层中的已曝光部分变得比未曝光部分更易或更难在特定的液体（显影剂）中显影。当已曝光部分或区域在显影剂中变得难以显影，并且未曝光部分在显影过程中被除去时，一般认为这种印版前体为负性平印版前体。在合适的液体中显影后，已成像区域（图文区域）印刷时接受油墨，而基材亲水表面所暴露出的表面排斥油墨。
[0004]在阴图制版平版印刷版前体中使用的辐射敏感的可光致聚合组合物通常包含可自由基聚合的组分，辐射吸收剂，引发剂组合物和可选的一种或更多种聚合物粘合剂。
[0005]近年来，从全球环境保护和适应数字化两个方面来说，工业中强调简化平版印刷版制造工艺，包括省略预显影加热步骤(预热)和使用平版印刷油墨、润版液或两者进行在机显影(develop on press，简称DOP)以去除平版印刷版前体上不需要的涂层材料。它是一种使用能够在普通印刷过程中除去平版印刷版原版的非图像部分的图像记录层，并且除去印刷机上曝光后的非图像部分以获得平版印刷版的方法。作为在机显影的具体实例，例如使用润湿液、油墨或者润湿液和油墨去除平版印刷版原版的可溶的图像记录层的方法；通过与印刷机辊和橡皮布接触机械除去图像记录层的方法;以及在通过润湿液和油墨的渗透降低图像记录层的内聚强度或者图像记录层与载体的粘附强度后与辊和橡皮布接触机械除去图像记录层的方法。
[0006]因为这种在机显影的平印版技术是预涂平印版材在通过CTP制版机扫描制版后，其非图文区域的涂层是在印刷机上通过润版水和油墨的作用下去除的，脱落的涂层大部分被过版纸带走、少部分可能溶解在润版水中，露出亲水性的铝版基，这种方式实现了印前过程无污物排放的环保目的，却存在印刷机污染的潜在风险。由此设计用于DOP应用的平版印版前体通常没有氧阻隔(防护)层(其在其它前体中是常见的)或者如果存在此类氧阻隔层，则该层处于低覆盖率。另外，通常曝光成像后要对已成像的平版印刷版前体进行视觉检查以确保获得了所需图像。对于针对在合适的显影剂中进行脱机(off
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press)冲洗而设计的前体，这种检查可在将平版印刷版安装于印刷机上之前容易地发生。通常将着色剂添加至可成像层组合物以促进这种检查。
[0007]针对DOP设计的平版印刷版前体，为了保证较快的数字成像速度和良好的图像可
识别性，通常需要特殊的自由基引发剂，或增大引发剂的用量。而高用量使用此类引发剂的一个问题是由自由基引发剂形成的晶体，以致它们不再与可成像层中的可光聚合的组合物的其它组分进行分子接触，这在红外辐射曝光期间导致较低的交联密度。为此需要在可光聚合的组合物中使用更高效的引发剂化合物，更有效的提高数字成像速度，有着优异的耐印力，同时避免或大大降低晶体形成的阴图制版平版印版前体。

技术实现思路

[0008]为解决上述问题，本专利技术提供一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法，本申请提供的碘鎓硼酸盐引发剂应用于阴图平印版前体，热成像数字速度更快，有着优异的耐印力，同时改善了版材存放结晶问题，曝光成像后图文可视性也有提高。
[0009]本专利技术的目的是以下述方式实现的：一种碘鎓硼酸盐引发剂，该引发剂为二芳基碘鎓硼酸盐化合物，该化合物含有如下结构：R3、R4可在苯环上除R1、R2之外的任何位置；其中R1和R2独立为各自具有2
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9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基，R1和R2可以相同或不同；R3和R4独立地是卤素、羟基、羧基、氨基 、烷基、烷氧基、酯基、硝基等不同于R1和R2的有机基团，R3和R4可以相同或不同；是有机阴离子。
[0010]R1和R2独立地是烷基基团。
[0011]R1、R2独立地各自具有3
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6个碳原子。这里独立地即为分别的意思。
[0012]是四苯基硼酸阴离子。
[0013]一种阴图平印版前体，包含可成像层，可成像层包含聚合物粘合剂、可聚合/交联的组分、红外辐射吸收剂和引发剂，所述引发剂包括权利要求1
‑
4任一权利要求所述的碘鎓硼酸盐引发剂。
[0014]聚合物粘合剂占可成像层重量的20%
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40%，可聚合/交联的组分占可成像层重量的10%
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70%，红外辐射吸收剂占可成像层重量的0.5 %
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30%，所述的碘鎓硼酸盐引发剂占可成像层重量的1 %
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20%。
[0015]聚合物粘合剂占可成像层重量的10 %
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60%，可聚合/交联的组分占可成像层重量的20%
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50%，红外辐射吸收剂占可成像层重量的1 %
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15%，所述的碘鎓硼酸盐引发剂占可成像层重量的3 %
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15%。
[0016]红外辐射吸收剂为750~1200nm的近红外辐射或红外辐射敏的花青染料，该花青染料含有可变色基团和可聚合/交联的不饱和双键。
[0017]可聚合/交联的组分为烯键式不饱和可自由基聚合单体或低聚物或可自由基交联聚合物中的至少一种组成；红外辐射吸收剂为包含四芳基硼酸根阴离子的菁染料；聚合物粘合剂包含具有侧链的重复单元，所述侧链包含聚环氧烷链段；聚合物粘合剂为离散颗粒，粒径为l0nm
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1500nm。
[0018]可成像层还包括颜料、有机或无机颗粒、敏化的染料、润湿剂、增塑剂、粘结剂、表面活性剂、抗氧化剂、助涂剂、抗稳定剂和增亮剂中的至少一种。
[0019]所述的阴图平印版前体的制备方法，把可成像层各原料混合得到感光液配制物，然后经过亲水化处理的版基上使用棒状涂布机或其他设备、方法涂布所述的感光液配制物，然后经过干燥，得到阴图制版平印版前体。
[0020]相对于现有技术，本专利技术提供一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法，本申请提供的碘鎓硼酸盐引发剂应用于阴图平印版前体，热成像数字速度更快，有着优异的耐印力，同时改善了版材存放结晶问题，曝光成像后图文可视性也有提高。阴图平印版为免处理平印版，在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷，即该平印版为阴图在机显影型免处理版。
具体实施方式
[0021]下面结合具体实施例对本专利技术进行具体描述，有必要在此指出的是本实施例只用于对本专利技术进行进一步说明，不能理解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：该引发剂为二芳基碘鎓硼酸盐化合物，该化合物含有如下结构：R3、R4可在苯环上除R1、R2之外的任何位置；其中R1和R2独立为各自具有2
‑
9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基，R1和R2可以相同或不同；R3和R4独立地是卤素、羟基、羧基、氨基 、烷基、烷氧基、酯基、硝基等不同于R1和R2的有机基团，R3和R4可以相同或不同；是有机阴离子。2. 根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于： R1和R2独立地是烷基基团。3.根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：R1、R2独立地各自具有3
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6个碳原子。4.根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：是四苯基硼酸阴离子。5.一种阴图平印版前体，其特征在于：包含可成像层，可成像层包含聚合物粘合剂、可聚合/交联的组分、红外辐射吸收剂和引发剂，所述引发剂包括权利要求1
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4任一权利要求所述的碘鎓硼酸盐引发剂。6. 根据权利要求5所述的阴图平印版前体，其特征在于：聚合物粘合剂占可成像层重量的20%
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40%，可聚合/交联的组分占可成像层重量的10%
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70%，红外辐射吸收剂占可成像层重量的0.5 %
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30%，所述的碘鎓硼酸盐引发剂占可成像层重量的1 %
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20%。7. 根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴兆阳，杨青海，高英新，吴俊君，杨婧，刘延安，靳立坤，王澄艳，马涛，
申请(专利权)人：乐凯华光印刷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：