用于侦测线性滑轨状态的装置和方法制造方法及图纸

一种用于侦测线性滑轨状态的装置和方法，所述线性滑轨包含滑块和滑轨，所述装置包含：传感器，位于对应所述滑轨的所述侧表面的位置，用以侦测所述滑轨的振动，以产生侦测信号；以及分析处理器，通讯连接所述传感器，用以根据所述侦测信号的位准和至少一阀值，判定异常发生。由此，可提升侦测敏感度。可提升侦测敏感度。可提升侦测敏感度。

【技术实现步骤摘要】
用于侦测线性滑轨状态的装置和方法


[0001]本专利技术涉及一种侦测装置，特别是指一种用于侦测线性滑轨状态的装置和方法。

技术介绍

[0002]现有应用于侦测线性滑轨状态的侦测机制，如日本专利JP2018138817A，是将传感器安装于滑轨末端的上表面，然后通过传感器的信号判断异常是否发生。然而，所述前案单纯以时域信号判断是否异常，易受周围环境影响其异常判断机制(例如阀值)，失去应有的感测精度。
[0003]因此，目前习用的侦测线性滑轨的状态的装置和方法仍有其缺失，而有待改进。

技术实现思路

[0004]为此，本专利技术的主要目的是提供一种用于侦测线性滑轨状态的装置和方法，可克服先前技术易受环境影响异常判断的问题，并提升侦测的敏感度。
[0005]本专利技术根据一实施例所提供的一种用于侦测线性滑轨状态的装置，所述线性滑轨包含滑块和滑轨，所述滑块包含用以容纳所述滑轨的容置凹槽，所述滑块于所述容置凹槽内更包含相对的二侧表面，所述滑轨包含相对的二侧表面，所述滑块的所述二侧表面分别对应所述滑轨的所述二侧表面，所述装置包含：至少一传感器，位于对应所述滑轨的所述侧表面的位置(也就是，面向所述滑轨的所述侧表面，并可附着于所述滑轨的所述侧表面或与所述滑轨的所述侧表面相隔一距离)，且用以侦测所述滑轨的振动，以产生侦测信号；以及分析处理器，与所述至少一传感器通讯连接，用以根据所述侦测信号的位准和至少一阀值，判定异常发生。
[0006]本专利技术根据一实施例所提供的一种用于侦测线性滑轨状态的方法，所述线性滑轨包含滑块和滑轨，所述滑块包含用以容纳所述滑轨的容置凹槽，所述滑块于所述容置凹槽内更包含相对的二侧表面，所述滑轨包含相对的二侧表面，所述滑块的所述二侧表面分别对应所述滑轨的所述二侧表面，所述方法包含以下步骤：(A)经由至少一传感器，侦测所述滑轨的振动，以产生侦测信号，所述传感器位于所述滑轨的端部且位于或邻近所述滑轨的所述侧表面；以及(B)经由分析处理器，根据所述侦测信号的位准和至少一阀值，判定异常发生。
[0007]由此，本专利技术所提供的用于侦测线性滑轨状态的装置和方法系利用比较所述第一侦测信号和所述第二侦测信号的方式来判断是否异常，受环境干扰的程度较低，进而使侦测的敏感度大幅提升。
附图说明
[0008]图1为根据本专利技术一实施例的用于侦测线性滑轨状态的装置的功能方块图；
[0009]图2为根据本专利技术一实施例将二传感器安装于线性滑轨的示意图；
[0010]图3为图2的分解图；
[0011]图4为图2的局部放大图，用以呈现二传感器配置于滑轨末端的相对两侧；
[0012]图5为根据本专利技术一实施例的用于侦测线性滑轨状态的方法的流程图；以及
[0013]图6为验证设备的示意图，用以呈现三个传感器的设置位置；
[0014]图7A为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0015]图7B为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0016]图8A为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0017]图8B为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0018]图9A为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0019]图9B为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Z轴线方向振动的结果；
[0020]图10A为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0021]图10B为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0022]图11A为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0023]图11B为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0024]图12A为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0025]图12B为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿X轴线方向振动的结果；
[0026]图13A为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0027]图13B为试验程序中的信号图，用以呈现左侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0028]图14A为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0029]图14B为试验程序中的信号图，用以呈现上方的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0030]图15A为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在初始状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0031]图15B为试验程序中的信号图，用以呈现右侧的传感器在异常状态下，侦测滑轨沿Y轴线方向振动的结果；
[0032]图16为根据本专利技术一实施例的频域的侦测信号的波形图；
[0033]图17为根据本专利技术一实施例利用夹具将二传感器定位于线性滑轨的示意图；
[0034]图18为根据本专利技术一实施例将二传感器安装于线性滑轨的示意图；
[0035]图19为根据本专利技术一实施例将二传感器安装于线性滑轨的示意图；
[0036]图20为根据本专利技术一实施例将二传感器安装于线性滑轨的示意图；以及
[0037]图21为根据本专利技术一实施例的用于侦测线性滑轨状态的方法的流程图。
[0038]附图中符号标记说明：
[0039]11:传感器
[0040]12:分析处理器
[0041]121:信号处理电路
[0042]122:特征分析部
[0043]123:阀值供应部
[0044]124:状态分析部
[0045]13:显示器
[0046]20:线性滑轨
[0047]21:滑块
[0048]211:侧表面
[0049]212:底面
[0050]22:滑轨
[0051]221:侧表面
[0052]222:上表面
[0053]223:端部
[0054]224:端面
[0055]225:锁孔
[0056]226:表面
[0057]30:夹具
[0058]32:连接部
[0059]34:夹持部
[0060]F:特征频率
[0061]P1,P2,P3,P4,P5,P6:特征数
[0062]Q1,Z1,Q2,Z2,Z3,Q3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于侦测线性滑轨状态的装置，其特征在于，所述线性滑轨包含滑块和滑轨，所述滑块包含用以容纳所述滑轨的容置凹槽，所述滑块于所述容置凹槽内更包含相对的二侧表面，所述滑轨包含相对的二侧表面，所述滑块的所述二侧表面分别对应所述滑轨的所述二侧表面，所述装置包含：至少一传感器，位于对应所述滑轨的所述侧表面的位置，且用以侦测所述滑轨的振动，以产生侦测信号；以及分析处理器，与所述至少一传感器通讯连接，用以根据所述侦测信号的位准和至少一阀值，判定异常发生。2.根据权利要求1所述的用于侦测线性滑轨状态的装置，其特征在于，所述至少一传感器的数量为二个，所述二传感器分别位于或邻近所述滑轨的所述二侧表面，所述二传感器侦测所述滑轨振动所产生的所述些侦测信号定义为第一侦测信号和第二侦测信号；当所述第一侦测信号的位准与所述第二侦测信号的位准的差异大于或等于第一阀值时，所述分析处理器判定异常发生；当所述第一侦测信号的所述位准与所述第二侦测信号的所述位准的差异小于所述第一阀值时，所述分析处理器更将所述第一侦测信号的第一特征数与第二阀值比较，以及将所述第二侦测信号的第二特征数与所述第二阀值比较；以及，当所述第一特征数和所述第二特征数皆大于或等于所述第二阀值时，所述分析处理器分别将所述第一侦测信号的位准和所述第二侦测信号的位准与第三阀值比较，当所述第一侦测信号和所述第二侦测信号的所述位准大于或等于所述第三阀值时，所述分析处理器判定异常发生。3.根据权利要求2所述的用于侦测线性滑轨状态的装置，其特征在于，当所述第一特征数或所述第二特征数小于所述第二阀值时，所述分析处理器分别对所述第一侦测信号和所述第二侦测信号进行滤波，以产生第三侦测信号和第四侦测信号，并且所述分析处理器将所述第三侦测信号的第三特征数与所述第二阀值比较，以及将所述第四侦测信号的第四特征数与所述第二阀值比较，当所述第三特征数和所述第四特征数皆大于或等于所述第二阀值时，所述分析处理器判定异常发生。4.根据权利要求1所述的用于侦测线性滑轨状态的装置，其特征在于，所述至少一传感器的数量为单数，当所述侦测信号的所述位准大于或等于第一阀值时，所述分析处理器判定异常发生；当所述侦测信号的所述位准小于所述第一阀值时，所述分析处理器更将所述侦测信号的第一特征数与第二阀值比较，当所述第一特征数大于或等于所述第二阀值时，所述分析处理器将所述侦测信号的所述位准与第三阀值比较，以及当所述侦测信号的所述位准大于或等于所述第三阀值时，所述分析处理器判定异常发生。5.根据权利要求4所述的用于侦测线性滑轨状态的装置，其特征在于，当所述第一特征数小于所述第二阀值时，所述分析处理器对所述侦测信号进行滤波，以产生另一侦测信号，所述分析处理器将所述另一侦测信号的第二特征数与所述第二阀值比较，当所述第二特征数大于或等于所述第二阀值时，所述分析处理器判定异常发生。6.一种用于侦测线性滑轨状态的方法，其特征在于，所述线性滑轨包含滑块和滑轨，所述滑块包含用以容纳所述滑轨的容置凹槽，所述滑块于所述容置凹槽内更包含相对的二侧表面，所述滑轨包含相对的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李柏霖，陈贤佑，杨纯明，
申请(专利权)人：上银科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：