一种透镜阵列的调整方法技术

本发明专利技术公开了一种透镜阵列的调整方法，该透镜阵列包括至少两个横向并排设置的透镜单元，该方法为：将各所述透镜单元磨切掉一部分，进而根据实际需求调整各透镜单元的通光面中心间距和光心间距。本发明专利技术将透镜单元磨切掉一部分，磨切后可改变各透镜单元的通光面中心间距和光心间距，各透镜单元的通光面中心间距改变，各透镜单元所成的像之间的视差(视觉差异)也跟着改变，实现了视差调整，各透镜单元的光心间距改变，各透镜单元的出射光线在光学传感器(CMOS)成的像的相对位置也跟着改变，实现了光学传感器(CMOS)的面积的有效利用，并且透镜单元磨切后尺寸变小了，各透镜单元可以更紧凑地拼在一起，可以减小光学系统的尺寸。可以减小光学系统的尺寸。可以减小光学系统的尺寸。

【技术实现步骤摘要】
一种透镜阵列的调整方法


[0001]本专利技术涉及成像设备
，具体涉及一种透镜阵列的调整方法。

技术介绍

[0002]透镜阵列可用于3D成像(双透镜成像)和光场成像(多透镜成像)，其主要是通过若干个并排设置的透镜单元将光线中分离出若干个视角的视图，以提高成像的立体效果。
[0003]透镜阵列各透镜单元的通光面中心间距会影响成像的视差，具体来说，增大各透镜单元的通光面中心间距，可增大视差，减小各透镜单元的通光面中心间距，会减小视差，并且，透镜阵列各透镜单元的光心间距会影响出射光线在光学传感器(CMOS)成的像的位置，具体来说，增大各透镜单元之间的光心间距，可聚拢成像位置，减小各透镜单元之间的光心间距，会分散成像位置。
[0004]在实际应用中，可根据实际需求调整各透镜单元的通光面中心间距和光心间距，以实现视差调整和光学传感器(CMOS)的面积的有效利用。如图1所示，现有透镜阵列采用完整的透镜单元，通过平移的方式来调整各透镜单元的通光面中心间距和光心间距时，势必会增大光学系统的尺寸。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中的缺陷，本专利技术要解决的技术问题是提供一种透镜阵列的调整方法，以在不增大光学系统的尺寸的前提下，实现视差调整和光学传感器(CMOS)的面积的有效利用。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种透镜阵列的调整方法，该透镜阵列包括至少两个横向并排设置的透镜单元，该方法为：将各所述透镜单元磨切掉一部分，进而根据实际需求调整各透镜单元的通光面中心间距和光心间距。
[0007]进一步地，所述透镜单元包括第一透镜和第二透镜；
[0008]当原成像位置分布合理时，对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切，以在不改变成像分布的情况下增大第一透镜和第二透镜的通光面中心间距，或者对所述第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切，以在不改变成像分布的情况下减小第一透镜和第二透镜的通光面中心间距；
[0009]当原成像位置分散时，对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切或者对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对内侧的方向移动第一透镜和第二透镜，以减小第一透镜和第二透镜的光心间距；
[0010]当原成像位置过近重叠时，对所述第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切或者对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对外侧的方向移动第一透镜和第二透镜，以增大第一透镜和第二透镜的光心间距。
[0011]进一步地，所述透镜阵列还包括安装座和安装框架，所述安装座内设有通孔，所述安装框架安装于所述通孔内，安装框架上设有第一安装孔和第二安装孔，所述第一透镜适
配于所述第一安装孔内，所述第二透镜适配于所述第二安装孔内。
[0012]进一步地，所述通孔为矩形孔，通孔两长边的侧壁上对称设有沿长边延伸的滑槽，两所述滑槽内均滑动安装有与所述第一透镜对应的第一滑动支座、以及与所述第二透镜对应的第二滑动支座，两所述第一滑动支座的相对内端设有与第一透镜的边缘适配的弧形台阶，两所述第二滑动支座的相对内端设有与第二透镜的边缘适配的弧形台阶；
[0013]所述安装框架嵌入所述通孔内并连接在各第一滑动支座和第二滑动支座上，所述第一安装孔和第二安装孔均为台阶孔，所述第一透镜夹在第一安装孔和两第一滑动支座的弧形台阶之间，所述第二透镜夹在第二安装孔和两第二滑动支座的弧形台阶之间。
[0014]进一步地，各所述第一滑动支座和第二滑动支座上均设有定位柱，各所述安装框架上对应各定位柱设有定位孔，各所述定位柱一一对应插入各所述定位孔。
[0015]进一步地，所述安装座上转动安装有两根丝杆，每根所述丝杆上均设有旋向相反的第一螺纹段和第二螺纹段，一丝杆上的第一螺纹段和第二螺纹段分别与一侧的第一滑动支座和第二滑动支座螺纹连接，另一丝杆上的第一螺纹段和第二螺纹段分别与另一侧的第一滑动支座和第二滑动支座螺纹连接。
[0016]进一步地，所述安装框架上对应两侧的所述第一滑动支座和第二滑动支座均设有挡块，所述挡块的高度大于定位柱的高度，当挡块抵在所述第一滑动支座和/或第二滑动支座的侧部时，所述定位柱与定位孔对准。
[0017]本专利技术的有益效果体现在：本申请将透镜单元磨切掉一部分，不会影响剩余部分成完整像，透镜单元磨切后，可改变各透镜单元的通光面中心间距和光心间距，各透镜单元的通光面中心间距改变，各透镜单元所成的像之间的视差(视觉差异)也跟着改变，实现了视差调整，各透镜单元的光心间距改变，各透镜单元的出射光线在光学传感器(CMOS)成的像的相对位置也跟着改变，实现了光学传感器(CMOS)的面积的有效利用，并且透镜单元磨切后尺寸变小了，各透镜单元可以更紧凑地拼在一起，可以减小光学系统的尺寸。因此，本申请可在不增大光学系统的尺寸的前提下，实现视差调整和光学传感器(CMOS)的面积的有效利用。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0019]图1为现有技术中透镜阵列采用完整的透镜单元的示意图；
[0020]图2为本专利技术实施例在不改变成像分布的情况下对第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切的示意图；
[0021]图3为本专利技术实施例在不改变成像分布的情况下对第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切的示意图；
[0022]图4为本专利技术实施例对第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切并向相对内侧的方向移动第一透镜和第二透镜的示意图；
[0023]图5为本专利技术实施例对第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对内侧的方向移动第一透镜和第二透镜的示意图；
[0024]图6为本专利技术实施例对第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切并向相对外侧的方向移动第一透镜和第二透镜的示意图；
[0025]图7为本专利技术实施例对第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对外侧的方向移动第一透镜和第二透镜的示意图；
[0026]图8为本专利技术实施例的透镜阵列的结构示意图；
[0027]图9为图8的A
‑
A剖视图；
[0028]图10为图8的B
‑
B剖视图。
[0029]附图说明：100
‑
第一透镜；200
‑
第二透镜；300
‑
安装座；310
‑
通孔；320
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滑槽；330
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第一滑动支座；340
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第二滑动支座；350
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弧形台阶；360
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定位柱；370
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丝杆；371
‑
第一螺纹段；372
‑
第二螺纹本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透镜阵列的调整方法，该透镜阵列包括至少两个横向并排设置的透镜单元，其特征在于，该方法为：将各所述透镜单元磨切掉一部分，进而根据实际需求调整各透镜单元的通光面中心间距和光心间距。2.根据权利要求1所述的透镜阵列的调整方法，其特征在于，所述透镜单元包括第一透镜和第二透镜；当原成像位置分布合理时，对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切，以在不改变成像分布的情况下增大第一透镜和第二透镜的通光面中心间距，或者对所述第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切，以在不改变成像分布的情况下减小第一透镜和第二透镜的通光面中心间距；当原成像位置分散时，对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧进行磨切或者对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对内侧的方向移动第一透镜和第二透镜，以减小第一透镜和第二透镜的光心间距；当原成像位置过近重叠时，对所述第一透镜和第二透镜的相对外侧进行磨切或者对所述第一透镜和第二透镜的相对内侧和相对外侧同时进行磨切，并向相对外侧的方向移动第一透镜和第二透镜，以增大第一透镜和第二透镜的光心间距。3.根据权利要求2所述的透镜阵列的调整方法，其特征在于，所述透镜阵列还包括安装座和安装框架，所述安装座内设有通孔，所述安装框架安装于所述通孔内，安装框架上设有第一安装孔和第二安装孔，所述第一透镜适配于所述第一安装孔内，所述第二透镜适配于所述第二安装孔内。4.根据权利要求3所述的透镜阵列的调整方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：樊宸，
类型：发明
国别省市：