一种单晶硅片退火冷却车制造技术

技术编号:33923513 阅读:31 留言:0更新日期:2022-06-25 21:23
一种单晶硅片退火冷却车,包括车体(1),所述的车体(1)上设置有若干硅片放置层(2),所述的硅片放置层(2)高度与单晶硅片炉体的炉管高度一致,所述的硅片放置层(2)上设置有与炉管对应的凹槽(3);所述的车体(1)顶部安装有风扇(4),所述的车体(1)底部安装有脚轮(5)。方便出炉硅片拖拽,降温迅速,且待单晶硅片冷却后可随时运走物料;操作方便、简单,保证人员的安全和退火质量。和退火质量。和退火质量。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片退火冷却车


[0001]本技术涉及一种退火冷却装置,更具体的说涉及一种单晶硅片退火冷却车,属于单晶炉所用配件


技术介绍

[0002]目前,单晶硅片高温退货的目的是显示真实的电阻,这就要求硅片在高温状态下迅速降温冷却,直拉单晶硅中的导带电子和价带空穴从高能态向低能态跃迁,同时释放出一定能量,使漂移的载流子进行复合;同时直拉单晶硅中的氧会转化为氧施主,这个迅速降温的过程可以使氧施主返回到间隙氧的状态,消除氧施主对电阻率测试的不良影响,对电阻率测量的正确性有着极其重要的作用,快速降温是直拉单晶硅退火最重要的步骤之一。在高温退货状态,硅片表面热量难以在较短时间内冷却,需要对硅片进行降温。传统设备中,多由人工取出载有硅片的载具并将之送风冷却,由效率低下、操作较难、降温慢、安全性差。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于针对现有技术中存在的上述问题,提供一种单晶硅片退火冷却车。
[0004]为实现上述目的,本技术的技术解决方案是:一种单晶硅片退火冷却车,包括车体,所述的车体上设置有若干硅片放置层,所述的硅片放置层高度与单晶硅片炉体的炉管高度一致,所述的硅片放置层上设置有与炉管对应的凹槽。
[0005]所述的车体顶部安装有风扇。
[0006]所述的车体底部安装有脚轮。
[0007]与现有技术相比较,本技术的有益效果是:
[0008]本技术方便出炉硅片拖拽至凹槽中,降温迅速,且待单晶硅片冷却后可随时运走物料;操作方便、简单,保证人员的安全和退火质量。
附图说明
[0009]图1是本技术结构示意图。
[0010]图2是本技术中硅片放置层结构示意图。
[0011]图中:车体1,硅片放置层2,凹槽3,风扇4,脚轮5。
具体实施方式
[0012]以下结合附图说明和具体实施方式对本技术作进一步的详细描述。
[0013]参见图1至图2,一种单晶硅片退火冷却车,包括车体1,所述的车体1上设置有若干硅片放置层2。所述的硅片放置层2高度与单晶硅片炉体的炉管高度一致,便于出炉硅片拖拽;所述的硅片放置层2上设置有与炉管对应的凹槽3,单晶硅片拖出后很容易入凹槽3内,
非常稳固。
[0014]参见图1至图2,所述的车体1顶部安装有风扇4,可直接迅速实现对单晶硅片的降温。
[0015]参见图1至图2,所述的车体1底部安装有脚轮5,可及时推到合适的位置冷却。
[0016]参见图1至图2,本单晶硅片退火冷却车方便出炉硅片拖拽,降温迅速,且待单晶硅片冷却后可随时运走物料。操作方便、简单,保证人员的安全和退火质量。
[0017]以上内容是结合具体的优选实施方式对本技术所作的进一步详细说明,不能认定本技术的具体实施只局限于这些说明。对于本技术所属
的普通技术人员来说,在不脱离本技术构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,上述结构都应当视为属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片退火冷却车,其特征在于:包括车体(1),所述的车体(1)上设置有若干硅片放置层(2),所述的硅片放置层(2)高度与单晶硅片炉体的炉管高度一致,所述的硅片放置层(2)上设置有与炉管对应的凹槽(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛佳伟王海军薛佳勇
申请(专利权)人:天津众晶半导体材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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