显示设备和显示装置制造方法及图纸

提供了一种显示设备，其通过黑色PDL和光学膜的组合来降低表面反射率，从而抑制OLED输出的减小。一种显示设备，其中每个有机发光二极管(OLED)具有在基板上制造的阳极、有机发光层和阴极，所述显示设备包括由围绕所述有机发光二极管的黑色材料制成的分隔壁(PDL)；以及覆盖所述有机发光二极管和所述分隔壁的光学膜。膜。膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示设备和显示装置


[0001]本公开涉及显示设备，更具体地，涉及每个都具有有机发光层并且以矩阵形式布置以构成显示装置的显示设备。

技术介绍

[0002]在包括多个像素的显示装置中，这些像素是具有有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)的显示设备，并且为了获得高对比度而安装偏振片。由于偏振片减小了约60％的OLED输出，因此，为了获得给定的光量，显示设备的功耗变得很高。功耗的增加缩短了OLED的寿命。
[0003]在顶部发射型OLED中使用的聚酰亚胺基板的表面反射率约为10％或更高，当使用由银(或银合金)制成的阳极电极来提高外部量子效率(external quantum efficiency，EQE)时，OLED的表面反射率约为90％或更高。因此，不具有偏振片的OLED显示设备具有高反射率，并且尤其在阳光下遭受明显降低的可见度的困扰。
[0004]为了应对这样的问题，提供与阳极电极接触的遮光膜，或者将遮光膜用于限定OLED的分隔壁(PDL：像素限定层(pixel defining layer))(例如，参考专利文献1到3)。当各个RGB颜色的OLED的开口率是40％，聚酰亚胺基板的表面反射率是10％，阳极电极的反射率是90％时，计算出的平均表面反射率约为45％。尽管遮光膜的设置将聚酰亚胺基板的表面反射率降低了约5％以上，并且平均表面反射率降低至约35％，但可以看出，平均表面反射率改善了约10％。然而，对于实际的显示设备，反射率仍然很高，实际需要偏振片。/>[0005]现在，可弯曲或可折叠的显示设备正变得越来越流行。但仍然需要偏振片来降低反射率。由于偏振片通常是刚性的，并且容易弯曲，液晶分子的取向将受到影响，因此偏振片不能应用于可弯曲的显示装置。
[0006]引文列表
[0007]专利文献
[0008]PTL 1：日本专利公开号2002
‑
033185
[0009]PTL 2：日本专利公开号2011
‑
034884
[0010]PTL 3：日本专利公开号2015
‑
008036

技术实现思路

[0011]本专利技术的目的是提供一种显示设备，其通过黑色PDL和光学膜的组合来降低表面反射率，从而抑制OLED输出的光的衰减。
[0012]为了实现本公开的目的，本公开的一个实施例的特征在于一种显示设备，其中，每个有机发光二极管(OLED)具有在基板上制造的阳极、有机发光层和阴极，包括：围绕有机发光二极管的由黑色材料制成的分隔壁；以及覆盖有机发光二极管和分隔壁的光学膜。
[0013]根据本实施例，将黑色分隔壁和具有在预定范围内的偏振效率的光学膜组合可以减小OLED显示设备的平均表面反射率，并且可以带来改善EQE的预期效果，从而能够抑制
OLED输出的光的衰减。
[0014]分隔壁的表面电阻率最好为10
14
Ω/cm2或更高，体积电阻率最好为10
14
Ω/cm2或更高。
[0015]本实施例可以抑制泄漏电流，从而降低具有高光密度的表面反射。
[0016]分隔壁最好具有1.0或更高的光密度。
[0017]本实施例可减少对相邻OLED的漏光。
[0018]光学膜可以是偏振效率为60％到90％的偏振膜。
[0019]本实施例可满足应用于OLED显示设备的要求，即表面反射率为12.5％或更低，EQE改善期望率为10％或更高。
[0020]光学膜可以是光学密度为0.15到0.26的ND滤光片。
[0021]本实施例可满足应用于OLED显示设备的要求，即表面反射率为12.5％或更低，EQE改善期望率为10％或更高。
[0022]基板上除围绕有机发光二极管的分隔壁以外的另一部分被黑色材料覆盖，并且，在被覆盖的另一部分的一部分中形成开口。
[0023]本实施例可以提供通过黑色PDL提高了高透射率和对比度的OLED。
附图说明
[0024]图1是示出根据本公开的实施例的OLED的配置的示意图；
[0025]图2是示出使用本实施例的OLED的显示设备的像素结构的示意图；
[0026]图3是示出传统聚酰亚胺PDL的结构的示意图；
[0027]图4是示出本实施例的黑色PDL的结构的示意图；
[0028]图5是示出PDL的光密度和表面反射率之间的关系的示例的示意图；
[0029]图6是示出应用于本实施例的OLED的光学膜的结构的示意图；
[0030]图7是示出本实施例的LPE膜的特性的示例的示意图；
[0031]图8是示出使用本实施例的OLED的显示设备的输出光谱的示意图；
[0032]图9是示出相对于传统偏振片，由本实施例的LPE膜证明的OLED输出改善效果的示意图；以及
[0033]图10是示出本实施例的ND滤波片的特性的示例的示意图。
具体实施方式
[0034]下面参考附图详细描述本公开的实施例。
[0035]图1是示出根据本公开的一个实施例的OLED的配置的图。图1是OLED 100的截面图，图中以OLED 100(OLED显示设备的显示表面)的发射方向为顶侧，并且示意性地示出了层结构。OLED 100具有按顺序堆叠的背侧屏障(barrier)110、基板121、背板122、前面板130和薄膜封装(Thin Film Encapsulation，TFE)140。
[0036]背侧屏障110具有依次堆叠的，氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiNxOy)或氧化硅(SiOx)等的第一无机屏障层111，有机树脂的有机屏障层112，以及SiNx或SiOx的第二无机屏障层113，并防止O2和H2O从发射方向的相反侧，即背面侵入。
[0037]基板121上的背板122具有直接埋藏在各个像素下面的薄膜晶体管(TFT)的驱动电
路，以向所选的像素施加电压或电流以单独地操作像素。基板121上的TFT和布线被树脂埋藏，以平坦化背板122。
[0038]前面板130具有依次堆叠的，阳极131，包括空穴注入层(hole injection layer，HIL)132、空穴传输层(hole transport layer，HTL)133、有机发光层(1ight emitting layer，EML)134、空穴阻挡层(hole block layer，HBL)135、电子传输层(electron transport layer，ETL)136的发光层，以及阴极137。
[0039]TFE 140具有依次堆叠的，厚度为约0.5至1μm的SiNx/SiOx的第一无机屏障层141，厚度约为7.5至15μm的有机屏障层142和厚度约为0.5至1μm的SiNx/SiO
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的第二无机屏障层143。注意，构成TFE 140的各个层的厚度可以根据光学设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示设备，其中每个有机发光二极管OLED具有在基板上制造的阳极、有机发光层和阴极，所述显示设备包括：围绕所述有机发光二极管的由黑色材料制成的分隔壁；以及覆盖所述有机发光二极管和所述分隔壁的光学膜。2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述分隔壁的表面电阻率为10
14
Ω/cm2或以上，且体积电阻率为10
14
Ω/cm2或以上。3.根据权利要求1或2所述的显示设备，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：鬼岛靖典，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：