本实用新型专利技术公开了一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，包括两个垂直设置的固定立柱和共同安装在固定立柱一侧表面的工作台，所述工作台的顶端表面安装有限位座，所述限位座的外两侧表面安装有导出板，所述导出板的底端表面连接至工作台的顶端表面，所述导出板底端一侧的工作台顶端表面安装有导出机构，所述工作台外侧的固定立柱一侧表面安装有防尘机构。本实用新型专利技术通过设置有一系列的结构，将待加工的金刚石单晶片放置在限位座上，然后通过防尘机构将工作台进行密封，通过抛光机构对待加工的金刚石单晶片进行抛光加工，抛光过程中产生的杂质和处理水通过导出板导出至导出机构内部，防止对环境造成污染，同时保障了工作人员的身体健康。的身体健康。的身体健康。
【技术实现步骤摘要】
一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备
[0001]本技术涉及半导体加工
，具体为一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备。
技术介绍
[0002]制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。金刚石单晶片的表面抛光是加工中的关键工序， 金刚石单晶片表面的抛光的目的是去除其表面由前序（切片、研磨等）所残留下的微小缺陷及表面的应力损伤层和去除表面的各种金属离子等杂质污染，其加工精度直接影响IC芯片的性能、合格率等技术指标。
[0003]在具体加工过程中，通常是将金刚石单晶片放置在曲面抛光头上，如金刚石制成的打磨砂轮作为抛光头，通过压力杆将金刚石晶片压紧，开动电机使曲面抛光头旋转，对金刚石单晶片进行研磨和抛光，但是在抛光过程中容易产生碎屑和杂质，会对环境造成污染，操作人员不慎吸入的话，也容易造成身体危害。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，包括两个垂直设置的固定立柱和共同安装在固定立柱一侧表面的工作台，所述工作台的顶端表面安装有限位座，所述限位座的外两侧表面安装有导出板，所述导出板的底端表面连接至工作台的顶端表面，所述导出板底端一侧的工作台顶端表面安装有导出机构，所述工作台外侧的固定立柱一侧表面安装有防尘机构，所述固定立柱的顶端安装有安装平板，所述安装平板的底端表面安装有抛光机构。
[0006]优选的，所述导出机构包括导出槽和收集组件，导出板底端一侧的工作台顶端表面开设有导出槽，导出槽的底端表面安装有收集组件。
[0007]优选的，所述收集组件包括导出管道和收集罐，导出槽的底端表面安装有导出管道，导出管道底端表面连接至收集罐。
[0008]优选的，所述防尘机构包括限位板和防尘挡板，工作台外侧的固定立柱一侧表面安装有限位板，限位板的顶端表面开设有限位槽，限位槽的内部安装有防尘挡板，防尘挡板的外侧表面安装有固定提手，防尘挡板的顶端表面安装有插接轴，安装平板的底端表面开设有插接槽，插接轴与插接槽配合使用。
[0009]优选的，所述抛光机构包括抛光设备和除尘组件，安装平板的底端表面安装有电动伸缩杆，电动伸缩杆的输出端外侧表面安装有水平支架，水平支架的底端表面安装有抛光设备，抛光设备外侧的水平支架底端表面安装有除尘组件。
[0010]优选的，所述除尘组件包括进水管道和雾化喷头，抛光设备外侧的水平支架底端
表面安装有进水管道，进水管道的底端表面安装有雾化喷头。
[0011]优选的，所述收集罐的底端表面连接有排出管道，排出管道的底端表面连接有密封阀。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1、本带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，将待加工的金刚石单晶片放置在限位座上，然后通过防尘机构将工作台进行密封，通过抛光机构对待加工的金刚石单晶片进行抛光加工，抛光过程中产生的杂质和处理水通过导出板导出至导出机构内部，防止对环境造成污染，同时保障了工作人员的身体健康。
[0014]2、本带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，将待加工的金刚石单晶片放置在限位座上，然后握住固定提手将防尘挡板向上提升，直至插接轴插入插接槽内部，将防尘挡板固定在工作台外侧，防止抛光过程中产生的碎屑和处理水飞溅到环境中。
[0015]3、本带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，通过控制电动伸缩杆的长度，从而调整抛光设备的高度，对将待加工的金刚石单晶片进行抛光，抛光过程中通过进水管道将清洁水导入至雾化喷头，经过雾化喷头雾化后将水雾喷出，使得抛光过程中产生的碎屑能够快速沉降。
[0016]4、本带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，抛光过程中产生的杂质和处理水通过导出板导出至导出槽，然后通过导出管道进入收集罐内进行收集，收集管内部的处理水存储一定时间后，打开密封阀，将处理水通过排出管道排出，进行污水处理后再进行排放或者二次利用，防止造成环境污染。
附图说明
[0017]图1为本技术实施例1的内部结构示意图；
[0018]图2为本技术的图1中A处局部结构放大示意图；
[0019]图3为本技术实施例2的内部结构示意图。
[0020]图中：1、固定立柱；2、工作台；3、限位座；4、导出板；5、安装平板；6、导出槽；7、导出管道；8、收集罐；9、限位板；10、限位槽；11、防尘挡板；12、固定提手；13、插接轴；14、插接槽；15、电动伸缩杆；16、水平支架；17、抛光设备；18、进水管道；19、雾化喷头；20、排出管道；21、密封阀。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]实施例1
[0025]如图1和图2所示，本实施例带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，包括两个垂直设置的固定立柱1和共同安装在固定立柱1一侧表面的工作台2，工作台2的顶端表面安装有限位座3，限位座3的外两侧表面安装有导出板4，导出板4的底端表面连接至工作台2的顶端表面，导出板4底端一侧的工作台2顶端表面安装有导出机构，工作台2外侧的固定立柱1一侧表面安装有防尘机构，固定立柱1的顶端安装有安装平板5，安装平板5的底端表面安装有抛光机构，将待加工的金刚石单晶片放置在限位座3上，然后通过防尘机构将工作台2进行密封，通过抛光机构对待加工的金刚石单晶片进行抛光加工，抛光过程中产生的杂质和处理水通过导出板4导出至导出机构内部，防止对环境造成污染，同时保障了工作人员的身体健康。
[0026]具体的，导出机构包括导出槽6和收集组件，导出板4底端一侧本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，包括两个垂直设置的固定立柱（1）和共同安装在固定立柱（1）一侧表面的工作台（2），其特征在于：所述工作台（2）的顶端表面安装有限位座（3），所述限位座（3）的外两侧表面安装有导出板（4），所述导出板（4）的底端表面连接至工作台（2）的顶端表面，所述导出板（4）底端一侧的工作台（2）顶端表面安装有导出机构，所述工作台（2）外侧的固定立柱（1）一侧表面安装有防尘机构，所述固定立柱（1）的顶端安装有安装平板（5），所述安装平板（5）的底端表面安装有抛光机构。2.根据权利要求1所述的一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，其特征在于：所述导出机构包括导出槽（6）和收集组件，导出板（4）底端一侧的工作台（2）顶端表面开设有导出槽（6），导出槽（6）的底端表面安装有收集组件。3.根据权利要求2所述的一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，其特征在于：所述收集组件包括导出管道（7）和收集罐（8），导出槽（6）的底端表面安装有导出管道（7），导出管道（7）底端表面连接至收集罐（8）。4.根据权利要求1所述的一种带除尘机构的金刚石单晶片抛光设备，其特征在于：所述防尘机构包括限位板（9）和防尘挡板（11），工作台（2）外侧的固定立柱（1...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈孝洲，李稳稳，王二社，
申请(专利权)人：焦作万可科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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