辐射源测试制造技术

一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内。另外，参数被确定为：使得一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。时间。时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射源测试
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年10月30日提交的题为“RADIATION SOURCE TESTING”的美国申请No.62/928,254的优先权，该美国申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本专利技术涉及一种用于生成用于辐射源的测试的方法和系统、以及相关的计算机程序，计算机可读介质和数据处理设备。辐射源可以是用于光刻设备的辐射源。

技术介绍

[0004]光刻设备是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案化装置(例如，掩模)处的图案投射到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了在衬底上投射图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。例如，与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4至20nm范围内(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。
[0006]电磁辐射可以由辐射源提供，该辐射源例如可以是EUV或深紫外(DUV)辐射源。通常在整个光刻工艺中控制这种辐射源以提供具有所需特性的辐射，从而确保在衬底处提供正确且及时的辐射剂量。准确和可靠的辐射源对于光刻工艺是关键的。
[0007]为了确保辐射源的准确性和/或可靠性和/或稳定性，希望以一定间隔测试辐射源。然而，在生产环境中，在不显著地中断生产过程的情况下测试辐射源的机会有限。
[0008]此外，期望测试具有尽可能与在生产环境中使用的使用简档类似的使用简档的辐射源。然而，在生产环境中使用的使用简档可以包括私有信息，并且因此与使用简档相关的信息对于测试辐射源来说可能是不容易获得或不可访问的。
[0009]该背景用于设置场景以允许本领域读者更好地理解以下描述。因此，上述讨论中无一必须被认为是对该讨论是现有技术的部分或是公知常识的承认。本专利技术的一个或多个方面/实施例可以解决或不解决背景问题中的一个或多个。
[0010]本专利技术的至少一个方面的至少一个实施例的目的是消除或至少减轻现有技术中的至少一个问题。
[0011]此外，本专利技术的至少一个方面的至少一个实施例的目的是提供一种用于测试辐射源的技术上和商业上有效的方法。

技术实现思路

[0012]根据本专利技术的第一方面，提供了一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，一个或多个另外的发射图案用于
测试辐射源；其中参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。
[0013]有利地，这种方法实现了对具有使用简档的辐射源的测试，该使用简档对辐射源具有与在衬底生产期间使用的使用简档基本相同的效果。即，辐射源利用使用简档来测试，该使用简档对例如辐射源的稳定性具有与衬底生产期间使用的使用简档基本相同的效果。通过根据这种方法测试辐射源，并且由此以与辐射源将在衬底生产期间受压的方式大致相同的方式使辐射源受压，可以提高辐射源的准确性和/或可靠性和/或稳定性的置信度。
[0014]辐射源的稳定性可以是固有稳定性。
[0015]辐射源的稳定性可以是主动受控稳定性。
[0016]辐射源的稳定性可以是以下项中的至少一项：波长稳定性；带宽稳定性；能量稳定性；温度稳定性。
[0017]预定界限可以与相对于辐射源的目标温度、和/或来自辐射源的辐射的目标波长和/或带宽和/或能量中的至少一者的限定偏差对应。
[0018]参数可以包括以下项中的至少一项：图案数量；独有图案的数量；独有图案的特性；图案的频率；每个图案的突发数量；每个突发的脉冲数量；占空比信息；频率和/或幅度和/或相位调制信息；时间戳；辐射源标识信息；每个图案的射束能量轮廓；每个图案的射束波长轮廓；每个图案的射束带宽轮廓。
[0019]参数可以基于以下项中的至少一项来确定：反复出现的相同发射图案的数量；具有在预定阈值内的特性的发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案或序列的重复频率；辐射的波长、带宽和/或能量的诱导变化；辐射源的温度的诱导变化。
[0020]该方法还可以包括以下步骤：配置用于计算机的程序，以利用参数来控制辐射源。
[0021]该方法可以还包括以下步骤：控制辐射源以执行一个或多个另外的发射图案。
[0022]辐射源可以在光刻设备处于离线配置时被测试。
[0023]当辐射源在光刻设备的控制下时，与辐射源的多个发射图案相对应的数据可以被生成。
[0024]根据第一方面的方法的所有步骤可以在半导体制造设备内被原位执行。
[0025]根据本专利技术的第二方面，提供了一种计算机程序，该计算机程序包括指令，当该程序由计算机执行时，该指令使该计算机执行根据第一方面的方法。
[0026]计算机程序可以包括以下指令，当该程序由计算机执行时，该指令使计算机控制辐射源以执行一个或多个另外的发射图案。
[0027]计算机程序可以包括以下指令，当该程序由计算机执行时，该指令使计算机向另一程序提供与参数相对应的数据。
[0028]计算机程序可以包括以下指令，当该程序由计算机执行时，该指令使计算机生成与由另一计算机执行的参数相对应的脚本。
[0029]计算机程序可以包括以下指令，当该程序由计算机执行时，该指令使计算机生成与用于另一计算机上的脚本或程序的参数相对应的数据。
[0030]根据本专利技术的第三方面，提供了一种其上存储有根据第二方面的计算机程序的计算机可读介质。
[0031]根据本专利技术的第四方面，提供了一种数据处理设备，包括存储器和处理器，该处理器被适配为执行根据第一方面的方法。
[0032]根据本专利技术的第五方面，提供了一种用于生成用于辐射源的测试的系统，该辐射源用于光刻设备，该系统包括：数据存储装置，被配置为存储与辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及处理器，能够被通信地耦合到数据存储装置，并且被配置为：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源；其中参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。
[0033]系统可以包括辐射源。辐射源可以是DUV或EUV辐射源。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种生成用于辐射源的测试的方法，所述辐射源用于光刻设备，所述方法包括以下步骤：接收与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源；其中所述参数被确定为：使得所述辐射源当执行使用所述参数所配置的所述一个或多个另外的发射图案时的稳定性与所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且所述一个或多个另外的发射图案当由所述辐射源执行时的总持续时间将小于所述多个发射图案当由所述辐射源执行时的持续时间。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是固有稳定性。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是主动受控稳定性。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述辐射源的稳定性是以下项中的至少一项：波长稳定性；带宽稳定性；能量稳定性；温度稳定性。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定界限与相对于所述辐射源的目标温度、和/或来自所述辐射源的辐射的目标波长和/或带宽和/或能量中的至少一者的限定偏差对应。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述参数包括以下项中的至少一项：图案数量；独有图案的数量；独有图案的特性；图案的频率；每个图案的突发数量；每个突发的脉冲数量；占空比信息；频率和/或幅度和/或相位调制信息；时间戳；辐射源标识信息；每个图案的射束能量轮廓；每个图案的射束波长轮廓；每个图案的射束带宽轮廓。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述参数是基于以下项中的至少一项来确定的：反复出现的相同发射图案的数量；具有在预定阈值内的特性的发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案的数量；重复的相同或相似发射图案或序列的重复频率；所述辐射的波长、带宽和/或能量的诱导变化；所述辐射源的温度的诱导变化。8.根据权利要求1所述的方法，还包括以下步骤：配置用于计算机的程序以利用所述参数来控制所述辐射源。9.根据权利要求1所述的方法，还包括以下步骤：控制所述辐射源以执行所述一个或多个另外的发射图案。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述辐射源在所述光刻设备处于离线配置时被测试。11.根据权利要求1所述的方法，其中当所述辐射源在光刻设备的控制下时，与所述辐射源的所述多个发射图案相对应的所述数据被生成。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法的所有步骤在半导体制造设备内被原位执行。13.一种计算机可读非瞬态介质，所述计算机可读非瞬态介质具有被存储在所述计算机可读非瞬态介质上的指令，所述指令在由计算机执行时使所述计算机执行生成用于辐射源的测试的方法，所述辐射源用于光刻设备，所述方法包括以下步骤：接收与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及
分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源；其中所述参数被确定为：使得所述辐射源当执行使用所述参数所配置的所述一个或多个另外的发射图案时的稳定性，与所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性的预定界限内，并且所述一个或多个另外的发射图案当由所述辐射源执行时的总持续时间将小于所述多个发射图案当由所述辐射源执行时的持续时间。14.一种数据处理设备，包括存储器和处理器，所述处理器被适配为执行根据权利要求1所述的方法的步骤。15.一种用于生成用于辐射源的测试的系统，所述辐射源用于光刻设备，所述系统包括：数据存储装置，被配置为存储与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及处理器，能够被通信地耦合到所述数据存储装置，并且被配置为：分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源；其中所述参数被确定为...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：