间隙配置部件制造技术

本发明专利技术涉及由层叠结构构成的间隙配置部件，提供不易因加热而发生层间剥离的新型的间隙配置部件。本发明专利技术的间隙配置部件的特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于上述靶部件与基材之间的间隙配置部件，其中，上述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成上述中间层的材料的线膨胀系数在构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。间的范围内。间的范围内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】间隙配置部件


[0001]本专利技术涉及间隙配置部件，其是在将多个靶部件以在相邻的靶部件之间设置间隙的方式配置于溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧的分割靶中，沿着相邻的靶部件的间隙配置，并且介于该靶部件与基材之间，从而在前述间隙中能够不让该基材露出到表面侧。

技术介绍

[0002]所谓溅射，是薄膜形成技术的一种方法。作为其一个例子，可以列举出下述方法：将Ar等惰性气体导入真空中，对靶部件施加负电压而使之发生辉光放电，通过辉光放电使惰性气体等离子体化从而离子化而形成气体离子，使该气体离子高速地碰撞靶的表面，从而使构成该靶的成膜材料的粒子弹出，并使该粒子附着/堆积在形成薄膜的基材表面，在基材表面形成致密且强的薄膜。
[0003]根据上述的溅射法，高熔点金属、合金、陶瓷等用真空蒸镀法等难以成膜的材料也能够成膜，此外，还能够高精度地形成具有大面积的薄膜。因此，溅射法多用于制造例如信息设备、AV设备、家电产品等各种电子部件。由溅射法形成的ITO、IZO、IGZO等薄膜被广泛用作以液晶显示器、触摸面板、EL显示器等为中心的显示设备的电极。
[0004]近年来，随着显示面板的大型化，要求形成具有大面积的薄膜，靶部件也需要大型化。然而，难以用大面积构成的一片靶部件来形成溅射中使用的靶部件。因此，采用了通过将靶部件分割为多个靶部件、并在基材上接合多个靶部件来形成大面积的溅射靶的方法(例如参照专利文献1)。
[0005]如上所述，考虑到基材与靶部件的热膨胀差，被分割成多个靶部件的靶(也称为“分割靶”)按照在相邻的靶部件间能够形成间隙的方式配置于该基材上，该基材与各靶部件通常用In系、Sn系金属等热传导良好的低熔点焊料接合。
[0006]在上述的将多个氧化物半导体靶部件接合而成的分割溅射靶中，如上上述，由于各靶部件彼此间设置间隙地配置，所以如果基材在该间隙处露出，则在溅射时基材也会被溅射，有可能出现混入到所形成的氧化物半导体的薄膜中的问题。因此，提出了在相邻的靶部件彼此的间隙中设置保护部件(相当于本专利技术的间隙配置部件)以使基材不露出的方法(例如参照专利文献2)。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开2005
‑
232580号公报
[0010]专利文献2：国际公开第2012/063524号小册子

技术实现思路

[0011]专利技术所要解决的问题
[0012]在专利文献2中，公开了一种双层结构的保护部件(相当于本专利技术的间隙配置部件)，其能够不让基材在相邻的靶部件间的间隙中露出，从而保护基材表面不被溅射。即，公
开了一种由第二保护部件和第一保护部件构成的双层结构的保护部件，上述第二保护部件配置于基材侧、并由Cu等金属或合金构成的金属箔形成，上述第一保护部件配置于其上侧即靶部件侧、并由含有靶部件所含元素中的一种以上的金属或合金或陶瓷材料形成。
[0013]但是，上述的双层结构的保护部件(相当于本专利技术的间隙配置部件)如果因溅射等而被加热，则有可能会由于构成第二保护部件和第一保护部件的材料的线膨胀系数差而产生层间剥离。
[0014]因此本专利技术中，对于由层叠结构构成的间隙配置部件，试图改良专利文献2中公开的保护部件(相当于本专利技术的间隙配置部件)，提供即使通过溅射等的加热也不易发生层间剥离的新型的间隙配置部件。
[0015]用于解决问题的手段
[0016]本专利技术提出了一种间隙配置部件，其特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于上述靶部件与基材之间的间隙配置部件，
[0017]上述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成上述中间层的材料的线膨胀系数在构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。
[0018]专利技术效果
[0019]本专利技术提出的间隙配置部件形成层叠三层以上而成的多层结构，构成上述中间层的材料的线膨胀系数调整至构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内，因此能够使各层间的线膨胀系数差变小，即使通过溅射等的加热也不易发生层间剥离。
附图说明
[0020]图1是表示了分割靶的一个例子的概况的俯视立体图。
[0021]图2是表示了通过配置本专利技术的一个例子的间隙配置部件而形成的溅射靶的一个例子的局部的纵截面图。
[0022]图3是表示了本专利技术的一个例子的间隙配置部件的概况的截面图。
具体实施方式
[0023]下面，基于实施的形态例对本专利技术进行说明。不过，本专利技术不受下面说明的实施方式的限定。
[0024]＜主间隙配置部件＞
[0025]如图1、2所示，本专利技术的实施方式的一个例子的间隙配置部件(称为“主间隙配置部件”)1是下述的间隙配置部件：在具备在基材2的表面侧按照在相邻的靶部件3,3之间设置间隙4的方式配置多个靶部件3的构成的分割靶上，沿着相邻的靶部件3,3之间的间隙4，介于该靶部件3与基材2之间，换言之，沿着相邻的靶部件3,3之间的间隙4配置，并且介于该靶部件3与基材2之间的间隙配置部件。
[0026]主间隙配置部件1由于能够沿着相邻的靶部件3,3之间的间隙4覆盖基材2的表面，
因此在溅射时，能够有效地防止在该间隙4中基材2的表面被溅射，该基材2的构成材料混入到成膜的薄膜中。
[0027]如图3所示，主间隙配置部件1只要具备在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构即可。即，可以在靶部件侧的层即表面层1A与基材2侧的层即背面层1C之间设置一层或两层以上的中间层1B。
[0028](线膨胀系数)
[0029]构成中间层1B的材料的线膨胀系数优选在构成表面层1A的材料的线膨胀系数与构成背面层1C的材料的线膨胀系数之间的范围内。此时，范围内包括构成中间层1B的材料的线膨胀系数与构成表面层1A的材料的线膨胀系数相同的情况、或者构成中间层1B的材料的线膨胀系数与构成背面层1C的材料的线膨胀系数相同的情况。
[0030]例如，在主间隙配置部件1是从表面侧按照第一保护层(表面层1A)、第二保护层(中间层1B)和第三保护层(背面层1C)的顺序层叠而成的三层结构的情况下，构成各层的材料的线膨胀系数优选为第一保护层≤第二保护层≤第三保护层，其中更优选为第一保护层＜第二保护层＜第三保护层。
[0031]另外，在主间隙配置部件1是按照第一保护层(表面层1A)、第二保护层(中间层1B)、第三保护层(中间层1B)和第四保护层(背面层1C)的顺序层叠而成的四层结构的情况下，构成各层的材料的线膨胀系数优选为第一保护层≤第二保护层≤第三保护层≤第四保护层，其中更优选为第一保护层＜第二保护层＜第三保护层＜第四保护层。
[0032]构成中间层1B与表面层1A的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种间隙配置部件，其特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于所述靶部件与基材之间的间隙配置部件，所述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成所述中间层的材料的线膨胀系数在构成所述表面层的材料的线膨胀系数与构成所述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。2.根据权利要求1所述的间隙配置部件，其从靶部件向基材侧依次层叠第一保护层(表面层)、第二保护层(中间层)和第三保护层(背面层)而成，构成各层的材料的线膨胀系数是第一保护层≤第二保护层≤第三保护层。3.根据权利要求1所述的间隙配置部件，其从靶部件向基材侧依次层叠第一保护层(表面层)、第二保护层(中间层)和第三保护层(背面层)而成，构成各层的材料的线膨胀系数是第一保护层＜第二保护层＜第三保护层。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢野智泰，打田龙彦，寺村享祐，广藤贤太郎，
申请(专利权)人：三井金属矿业株式会社，
类型：发明
国别省市：