保持设计文档内的分层结构信息制造技术

一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，包括存储器及控制器。存储器包括设计文档。控制器被配置为访问设计文档，及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定设计文档的合规性。合规性规则包括以下项目中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。控制器更被配置为响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。来验证设计文档。来验证设计文档。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】保持设计文档内的分层结构信息


[0001]本公开内容的实施方式大致与验证数字光刻系统的设计文档相关。

技术介绍

[0002]光刻方法用于制造半导体元件。常规的光刻方法包括将设计图案转移到一组光掩模上，这些光掩模被转移到光刻胶上。在数字光刻处理中，使用成像处理来将设计图案直接数字化到光刻胶上。然而，被传输以数字化光刻胶的数据量很大，从而限制了数字光刻处理的速度。进一步地，当前的验证方法从设计文档移除了结构信息。
[0003]因此，本领域中所需要的是一种减少数据量同时仍维持设计文档的分层结构信息的方法。

技术实现思路

[0004]在一个示例实施方式中，一种方法包括以下步骤：访问用于数字光刻设备的设计文档；及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定合规性。应用一个或多个合规性规则包括以下步骤：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。该方法更包括以下步骤：响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。
[0005]在一个示例实施方式中，一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，包括存储器及控制器。存储器包括设计文档。控制器被配置为访问该设计文档，及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定设计文档的合规性。这些合规性规则包括以下项目中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。该控制器更被配置为：响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。
[0006]在一个示例实施方式中，一种验证用于数字光刻的设计文档的计算机程序产品包括计算机可读取储存介质，该计算机可读取储存介质具有与该计算机可读取储存介质一起体现的计算机可读取程序代码。该计算机可读取程序代码能够由一个或多个计算机处理器执行以：访问设计文档；向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定该设计文档的合规性；及响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证该设计文档。向设计文档应用一个或多个合规性规则包括以下步骤中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。
附图说明
[0007]作为可详细理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参照实施方式来获得上
文所简要概述的本公开内容的更详细说明，附图中绘示了实施方式中的一些。然而，要注意，附图仅绘示了示例性实施方式且因此不被视为其范围的限制，且可以容许其他等效的实施方式。
[0008]图1是根据一个或多个实施方式的数字光刻系统的示意图。
[0009]图2是根据一个或多个实施方式的验证设备的示意图。
[0010]图3是根据一个或多个实施方式的用于验证设计文档的方法的流程图。
[0011]图4是根据一个或多个实施方式用于确定合规(compliant)设计文档的设计文档的流程图。
[0012]图5、6、7、8、及9是根据一个或多个实施方式的单元结构的示意说明。
[0013]为了促进了解，已尽可能使用相同的附图标记来指示附图中共有的相同元素。可以预期，可以有益地将一个实施方式的构件及特征并入其他实施方式而不需另外详述。
具体实施方式
[0014]本文中所描述的实施方式提供了一种方法，该方法用于验证被最佳化以经历数字图案转换的设计文档，同时维持原始设计文档内的分层结构信息的至少一部分以减少数据量及避免数据拥塞。该方法包括以下步骤：针对组合规性规则评估设计文档以检测设计文档的不合规单元。可以向使用者呈现不合规单元和/或位置标记的列表以供进行更正动作。当基于不合规单元和/或位置标记的比例确定设计文档满足阈值时，设计文档可被验证。可以将验证的设计文档传递到数字光刻系统的控制器以供处理。
[0015]图1是根据一个或多个实施方式的数字光刻系统100的透视图。数字光刻系统100包括数字光刻设备101及验证设备130。数字光刻设备101包括平台114及处理装置104。平台114由设置在平板102上的一对轨道116所支撑。基板120由平台114所支撑。平台114由设置在平板102上的一对轨道116所支撑。平台114在如由图1中所示的坐标系统所指示的X方向上沿着该对轨道116移动。在一个实施方式中，该对轨道116是一对平行的磁性通道。如所示，该对轨道116中的每个轨道均在直线路径上延伸。编码器118耦接到平台114以向控制器122提供平台114的位置的信息。
[0016]控制器122一般被设计为促进对本文中所述的处理技术的控制及自动化。控制器122可以与处理装置104、平台114、及编码器118耦接或通信。处理装置104及编码器118可以向控制器122提供关于基板处理及基板对准的信息。例如，处理装置104可以向控制器122提供信息以提醒控制器122基板处理已经完成。控制器122促进基于由验证设备130所提供的设计文档对数字光刻处理进行的控制及自动化。可以称为成像设计文档且可由控制器122读取的设计文档(或计算机指令)确定哪些任务可在基板上执行。设计文档(例如图2的设计文档220)包括掩模图案数据和用来监测及控制处理时间及基板位置的代码。掩模图案数据与要使用电磁辐射写入到光刻胶中的图案对应。
[0017]基板120包括任何合适的材料，例如玻璃，其用作平板显示器的一部分。在其他的实施方式中，基板120由能够用作平板显示器的一部分的其他材料制成。基板120具有在其上形成的要被图案化的膜层(例如通过对其进行图案蚀刻来进行)及形成于膜层上的要被图案化的光刻胶层，该光刻胶层对电磁辐射(例如UV或深UV“光”)敏感。正性光刻胶包括光刻胶的如下部分：当暴露于辐射时，该部分分别可溶于在使用电磁辐射将图案写入到光刻
胶中之后向光刻胶施加的光刻胶显影剂。负性光刻胶包括光刻胶的如下部分：当暴露于辐射时，该部分将分别不溶于在使用电磁辐射将图案写入到光刻胶中之后向光刻胶施加的光刻胶显影剂。光刻胶的化学组成决定光刻胶是正性光刻胶还是负性光刻胶。光刻胶的示例包括但不限于以下项目中的至少一者：重氮萘醌(diazonaphthoquinone)、酚醛树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚戊二酰亚胺甲基、及SU
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8。在将光刻胶暴露于电磁辐射之后，对抗蚀剂进行显影以在下层的膜层上留下图案化的光刻胶。然后，使用图案化的光刻胶，通过光刻胶中的开口对下层的薄膜进行图案蚀刻以形成显示面板的电子电路系统的一部分。
[0018]处理装置104包括支撑件108及处理单元106。处理装置104跨立在该对轨道116上且被设置在平板102上，且因此包括开口112以供该对轨道116及平台114在处理单元106下方经过。处理单元106被支撑件108支撑在平板102上方。在一个实施方式中，处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包括以下步骤：从存储器访问用于数字光刻设备的设计文档；通过以下步骤中的至少一者向所述设计档案应用一个或多个合规性规则，以确定所述设计文档的合规性：检测所述设计文档内的非正交边缘；检测所述设计文档内的不合规重叠结构；及检测所述设计文档的参考层与所述设计文档的目标层之间的不合规交互作用；及响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证所述设计文档。2.根据权利要求1所述的方法，其中检测非正交边缘包括以下步骤：检测第一结构与第二结构之间的重叠区域；和确定所述第一结构是否与所述第二结构形成正交边缘。3.根据权利要求2所述的方法，其中检测所述重叠区域包括以下步骤：在所述第一结构及所述第二结构周围产生多个标记；及选定所述多个标记中的、识别所述第一结构及所述第二结构的交互作用区域的第一标记及第二标记，且其中确定所述第一结构是否与所述第二结构形成所述正交边缘包括以下步骤：确定所述第一标记是否与所述第二标记正交。4.根据权利要求1所述的方法，其中检测不合规重叠结构包括以下步骤中的至少一者：将第一结构延伸到第二结构中的量与第一阈值进行比较；识别所述第一结构及所述第二结构中的至少一者的、在所述第一结构与所述第二结构之间的重叠区域中不正交的一个或多个边缘；及将所述重叠区域内的所述第一结构的相邻边缘的数量与边缘阈值进行比较。5.根据权利要求4所述的方法，其中与所述第一结构及所述第二结构对应的位置可响应于以下条件中的一者或多者而被确定是不合规的：所述第一结构延伸到所述第二结构中的所述量超过所述第一阈值；在所述重叠区域中识别出至少一个非正交边缘；及相邻边缘的所述数量超过所述边缘阈值。6.根据权利要求1所述的方法，其中检测所述结构之间的所述不合规重叠包括以下步骤：识别与第二结构重叠的第一结构；确定所述第一结构与所述第二结构之间的重叠量；将所述重叠量与阈值进行比较，其中与所述结构对应的位置可响应于所述重叠量小于所述阈值而被确定是不合规的。7.一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，所述验证设备包括：存储器，包括所述设计文档；及控制器，被配置为：访问所述设计文档；通过以下步骤中的至少一者向所述设计档案应用一个或多个合规性规则，以确定所述设计文档的合规性：
检测所述设计文档内的非正交边缘；检测所述设计文档内的不合规重叠结构；及检测所述设计文档的参考层与所述设计文档的目标层之间的不合规交互作用；及响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证所述设计文档。8.根据权利要求7所述的验证设备，其中检测非正交边缘包括以下步骤：检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：康宗勋，董银锋，洪诚谦，杨耀程，高再传，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：