投影物镜系统技术方案

本申请涉及集成电路制造技术领域，尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，第一透镜组至第六透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正、正。根据本发明专利技术的投影物镜系统，能够实现更好的像差控制，进而实现更加完美的图形曝光。进而实现更加完美的图形曝光。进而实现更加完美的图形曝光。

【技术实现步骤摘要】
投影物镜系统


[0001]本申请涉及集成电路制造
，尤其是涉及一种投影物镜系统。

技术介绍

[0002]随着集成电路行业的发展，各行各业对芯片提出了越来越多的需求，在芯片制造的投影曝光过程中，投影物镜的成像质量很大程度上制约了曝光线条的质量，因此，近年来投影物镜不断发展并探索如何通过更好的像差控制来实现更加完美的图形曝光。
[0003]在该
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于增强本公开的背景的理解，因此上述信息可包含既没有形成现有技术的任何部分且也没有形成可能教示给本领域普通技术人员的现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]提供本
技术实现思路
以通过简化形式介绍将在下面的具体实施方式中进一步描述的选择的构思。本
技术实现思路
既不意在确定所要求保护主题的关键特征或必要特征，也不意在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。
[0005]为了实现较好的投影曝光成像效果，本专利技术提供一种投影物镜系统，其能够通过更好的像差控制来实现更加完美的图形曝光。
[0006]本专利技术提供了一种投影物镜系统，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组；所述第一透镜组、所述第三透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组具有正光焦度；所述第二透镜组和所述第四透镜组具有负光焦度。
[0007]进一步地，所述第一透镜组满足：f1/L<0.5；其中，f1为所述第一透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。r/>[0008]进一步地，所述第一透镜组包括至少一片双凹透镜、至少一片弯月透镜和至少一片双凸透镜。
[0009]进一步地，所述第一透镜组包括第二透镜至第六透镜；所述第二透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜；所述第三透镜为物方表面是凹入的且像方表面是凸出的弯月透镜；所述第四透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第五透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第六透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜。
[0010]进一步地，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜为一组接近对称的正透镜组，且所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜的光焦度接近。
[0011]进一步地，所述第二透镜组满足：f2/L<
‑
0.05；其中，f2为所述第二透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。
[0012]进一步地，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。
[0013]进一步地，所述第二透镜组包括第七透镜和第八透镜；所述第七透镜为物方表面
是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第八透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜。
[0014]进一步地，所述第三透镜组满足：0.01<f3/L<0.5；其中，f3为所述第三透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。
[0015]进一步地，所述第三透镜组包括至少一片弯月透镜和至少一片双凸透镜。
[0016]进一步地，所述第三透镜组包括第九透镜至第十二透镜；所述第九透镜为物方表面是凹入的且像方表面是凸出的弯月透镜；所述第十透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第十一透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第十二透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜。
[0017]进一步地，所述第四透镜组满足：f4/L<
‑
0.05；其中，f4为所述第四透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。
[0018]进一步地，所述第四透镜组包括至少一片双凹透镜。
[0019]进一步地，所述第四透镜组包括第十三透镜和第十四透镜；所述第十三透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜；所述第十四透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜。
[0020]进一步地，所述第五透镜组满足：0.01<f5/L<0.8；其中，f5为所述第五透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。
[0021]进一步地，所述第五透镜组包括至少一片双凸透镜。
[0022]进一步地，所述第五透镜组包括第十五透镜和第十六透镜；所述第十五透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第十六透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜。
[0023]进一步地，所述第六透镜组满足：0.1<f6/L<1.5；其中，f6为所述第六透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。
[0024]进一步地，所述第六透镜组包括至少一片双凹透镜、至少一片弯月透镜和至少一片双凸透镜。
[0025]进一步地，所述第六透镜组包括第十七透镜至第二十四透镜；所述第十七透镜、所述第十九透镜和所述第二十透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第十八透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜；所述第二十一透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述二十二至所述第二十四透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜。
[0026]进一步地，所述第一透镜组的第六透镜和所述第三透镜组的第九透镜满足：0.05<∣(R6A
‑
R6B)/(R6A+R6B)∣<5；0.05<∣(R9A
‑
R9B)/(R9A+R9B)∣<5；其中，R6A为所述第六透镜的物方表面的曲率半径，R6B为所述第六透镜的像方表面的曲率半径；R9A为所述第九透镜的物方表面的曲率半径，R9B为所述第九透镜的像方表面的曲率半径。
[0027]进一步地，所述第三透镜组的第十一透镜和所述第四透镜组的第十四透镜满足：0.05<∣(R11A
‑
R11B)/(R11A+R11B)∣<5；0.05<∣(R14A
‑
R14B)/(R14A+R149B)∣<5；其中：R11A为所述第十一透镜的物方表面的曲率半径，R11B为所述第十一透镜的像方表面的曲率半径；R14A为所述第十四透镜的物方表面的曲率半径，R14B为所述第十四透镜的像方表面的曲率半径。
[0028]进一步地，所述投影物镜系统还包括孔径光阑；所述孔径光阑设置于所述第五透镜组的像方表面和所述第六透镜组的物方表面之间。
[0029]进一步地，所述投影物镜系统还包括第一透镜和第二十五透镜；所述第一透镜设置于所述第一透镜组的像方侧，所述第二十五透镜设置于所述第六透镜组的物方侧；所述第一透镜和所述第二十五透镜为平板透镜。
[0030]进一步地，所述第一透镜组至所述第六透镜组中的透镜的物方表面和像方表面包括四个非球面，且最高非球面度矢高差小于0.5mm。
[0031]进一步地，所述第一透镜组包括第二透镜至第六透镜，所述第二透镜组包括第七透镜和第八本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影物镜系统，其特征在于，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组；所述第一透镜组、所述第三透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组具有正光焦度；所述第二透镜组和所述第四透镜组具有负光焦度。2.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组满足：f1/L<0.5；其中，f1为所述第一透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。3.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括至少一片双凹透镜、至少一片弯月透镜和至少一片双凸透镜。4.根据权利要求3所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括第二透镜至第六透镜；所述第二透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜；所述第三透镜为物方表面是凹入的且像方表面是凸出的弯月透镜；所述第四透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第五透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第六透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜。5.根据权利要求4所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜为一组接近对称的正透镜组，且所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜的光焦度接近。6.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组满足：f2/L<
‑
0.05；其中，f2为所述第二透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。7.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。8.根据权利要求7所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括第七透镜和第八透镜；所述第七透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第八透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜。9.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组满足：0.01<f3/L<0.5；其中，f3为所述第三透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。10.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括至少一片弯月透镜和至少一片双凸透镜。11.根据权利要求10所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括第九透镜至第十二透镜；所述第九透镜为物方表面是凹入的且像方表面是凸出的弯月透镜；所述第十透镜为物方表面和像方表面均是凸出的双凸透镜；所述第十一透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜；所述第十二透镜为物方表面是凸出的且像方表面是凹入的弯月透镜。12.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第四透镜组满足：f4/L<
‑
0.05；其中，f4为所述第四透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。13.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第四透镜组包括至少一片双凹透镜。14.根据权利要求13所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第四透镜组包括第十三透镜和第十四透镜；所述第十三透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜；所述第十四透镜为物方表面和像方表面均是凹入的双凹透镜。15.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第五透镜组满足：0.01<f5/L<0.8；其中，f5为所述第五透镜组的焦距，L为所述投影物镜系统的物像距。16.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第五透镜组包括至少一片双凸透镜。17.根据权利要求16所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第五透镜组包括第十五透镜和第十六透镜；所述第十五透镜为物方表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭胜旺，吴爽，申淙，高爱梅，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：