隔膜清洁设备制造技术

一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；受控环境腔室和清洁物质输送机构。输送至所述隔膜的清洁物质的颗粒在受控环境中升华而不留下残留物。受控环境中的掩模、孔和气体阻力的组合允许向所述隔膜提供具有在约1至100m/s(优选地约3至30m/s)的范围内的速度和在约1至100μm(优选地1至10μm)的范围内的大小的清洁物质颗粒，使得两相流清洁但不破坏薄且脆弱的隔膜。不破坏薄且脆弱的隔膜。不破坏薄且脆弱的隔膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】隔膜清洁设备
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年10月22日递交的欧洲申请19204455.0和2019年11月22日递交的欧洲申请19210882.7的优先权，并且这些欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本专利技术涉及一种隔膜清洁设备和一种相关联的方法。所述设备和方法可以具有用于清洁光刻设备中所使用的表膜的特定应用。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。例如，光刻设备可以将被设置在图案形成装置(例如，掩模)上的图案投影至被设置在衬底(例如，硅晶片)上的辐射敏感材料层上。光刻设备可以用于集成电路的制造中。
[0005]为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在所述衬底上的特征的最小大小。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm的范围内(例如6.7nm或13.5nm)的波长的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用以在衬底上形成较小特征。
[0006]存在于图案形成装置上的不想要的颗粒可能促成被赋予至辐射束的图案。在光刻设备中，这可能导致施加至所述衬底的图案出现误差。因此，防止颗粒到达所述图案形成装置且由此污染所述图案形成装置是重要的。已知在光刻设备中的图案形成装置与颗粒源之间设置隔膜以防止颗粒到达所述图案形成装置。用于这样的目的的隔膜在本领域中被称为表膜。
[0007]所述表膜与所述图案形成装置间隔开，使得其不处于场平面中，并且因此被设置在所述表膜上的任何颗粒不应被成像(并且因此不应促成施加至所述衬底的所述图案中的误差)。然而，表膜上的颗粒可能导致在衬底曝光期间对辐射的吸收增加，并且因此导致所述表膜上的局部热斑，所述热斑可能导致所述表膜的失效。另外，所述表膜的面向所述图案形成装置的表面上的颗粒可以被转印至所述图案形成装置，由此所述颗粒可能导致被施加至所述衬底的图案中的误差。
[0008]可能期望提供用于清洁隔膜(例如，表膜)的设备和关联方法。

技术实现思路

[0009]根据本专利技术的第一方面，提供一种用于从隔膜的表面移除颗粒的隔膜清洁设备，所述设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送到与待清洁的表面相反的隔膜表面。
[0010]可能需要从所述隔膜的特定表面移除污染物颗粒。隔膜的这种表面可以被称为临界表面或关键表面，或者替代地，也可以被称为第一表面。所述隔膜通常仅具有两个表面。所述隔膜的与临界/第一表面相反的表面可以被称为非临界或不关键/第二表面。根据本发
明的第一方面的设备提供了一种布置，其中可以通过将清洁物质输送至所述隔膜的与所述第一表面相反的第二表面来从所述隔膜的所述第一表面移除颗粒。
[0011]特别地，根据本专利技术的第一方面的设备利用了所述隔膜通常可以是薄的和/或可变形的事实。在使用中，当所述清洁物质入射到所述隔膜的第二表面上时，所述清洁物质可以将动量传递至所述隔膜。此动量的至少一部分随后可以被转移至被设置于所述隔膜的第一表面上的一个或更多个污染物颗粒。这可能导致所述一个或更多个污染物颗粒从所述隔膜的所述第一表面(背离所述隔膜)喷射出。
[0012]清洁物质可以是可以被输送至所述隔膜的物质(例如，呈一个或更多个颗粒的形式)，并且在传递动量至所述隔膜之后，可能易于经受转变成气体形式的相变。所述清洁物质可以是以气体形式、以液体形式和/或以固体形式而被输送至所述隔膜的物质。所述清洁物质可以是以多相形式而被输送至所述隔膜的物质。使用这种清洁物质来清洁所述隔膜可以有利地在所述隔膜上不留下残留物。
[0013]根据本专利技术的第二方面，提供了一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：腔室；控制系统，所述控制系统用于控制所述腔室内的压力和/或温度；隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于在所述腔室内支撑所述隔膜；以及清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送至所述隔膜；其中，所述控制系统被配置成控制所述腔室内的压力和/或温度，使得所述清洁物质的至少一部分在所述腔室内经历转变成气体的相变。
[0014]所述相变可以包括从固体到气体的转变。
[0015]所述相变可以包括从液体到气体的转变。
[0016]在使用中，隔膜，当由隔膜支撑件支撑时，可以被设置在所述腔室内。这可能允许所述控制系统控制所述隔膜周围的环境(特别地，压力和/或温度)。此环境(可以指代所述腔室内的环境)可以被控制，使得所述清洁物质易于经受转变成气体的相变。特别地，所述控制系统可以控制所述隔膜周围的环境，使得所述清洁物质在被输送到所述隔膜之后经历转变成气体的相变。
[0017]根据本专利技术的第二方面的设备可以通过所述清洁物质的爆炸性升华来从所述隔膜移除污染物颗粒。有利地，这种爆炸升华可以产生气流，所述气流可以从隔膜的输送所述清洁物质的表面移除污染物颗粒。另外地或可选地，根据本专利技术的第二方面的设备可以通过将动量从清洁物质转移到污染物颗粒(如上文参考本专利技术的第一方面所描述的)来从所述隔膜移除污染物颗粒。有利地，所述清洁产品的升华可以导致在所述隔膜上没有由所述清洁产物留下的残留物。
[0018]根据本专利技术的第三方面，提供了一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送至所述隔膜，其中所述清洁物质包括二氧化碳。
[0019]在第一方面、第二方面和第三方面中的任一方面中，所述清洁物质输送机构可以被布置成提供包括气体射流、两相流、或多相流的清洁物质。这种两相流可以包括气体和固体的射流、气体和液体的射流、或液体和固体的射流。这种多相流可以包括气体、液体和固体的射流。
[0020]在根据第一方面、第二方面或第三方面的设备内，所述清洁物质可以包括二氧化碳。
[0021]二氧化碳可以由所述清洁物质输送机构以一个或更多个颗粒的形式输送。有利地，二氧化碳颗粒可以被产生为具有与可以被设置于隔膜的临界表面上的污染物颗粒相当的大小的颗粒。这对于将动量传递给污染物颗粒并且随后从所述隔膜喷射所述颗粒来说可能是特别有用的。
[0022]二氧化碳可能特别适合在隔膜清洁设备内的环境中升华成气体形式。二氧化碳在入射到所述隔膜的非临界表面上之后不久，可以从固体形式升华为气体形式。因此，有利地，二氧化碳可以在所述隔膜的表面上不留下残留物。
[0023]购买二氧化碳可能是相对便宜的。由于在使用所述隔膜清洁设备期间可以消耗所述清洁物质，因此使用二氧化碳用于清洁物质可以有利地导致所述隔膜清洁设备的相对较低的运行成本。
[0024]根据第一方面或第三方面的设备还可以包括：腔室，所述腔室内设置有所述隔膜支撑件；和控制系统，所述控制系统用于控制所述腔室内的压力和/或温度。
[0025]所述控制系统可以被布置成将所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于从隔膜的表面移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送到与待清洁的表面相反的隔膜表面。2.一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：腔室；控制系统，所述控制系统用于控制所述腔室内的压力和/或温度；隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于在所述腔室内支撑所述隔膜；以及清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送至所述隔膜；其中，所述控制系统被配置成控制所述腔室内的压力和/或温度，使得所述清洁物质的至少一部分在所述腔室内经历转变成气体的相变。3.一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和清洁物质输送机构，所述清洁物质输送机构用于将清洁物质输送至所述隔膜，其中所述清洁物质包括二氧化碳。4.根据权利要求1或权利要求2中任一项所述的设备，其中，所述清洁物质包括二氧化碳。5.根据任一前述权利要求所述的设备，其中，所述清洁物质输送机构包括被配置成提供呈雪的形式的所述清洁物质的第一射流的机构，使得所述第一射流的至少一部分入射到隔膜的当由所述隔膜支撑件支撑时的表面上。6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述清洁物质输送机构还包括被配置成提供补充流的机构，其中所述补充流的至少一部分被提供在所述第一射流附近。7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述设备包括外壳，所述外壳将所述补充流的至少一部分约束于所述第一射流附近。8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述设备还包括第一射流膨胀组件，所述第一射流膨胀组件被配置成将所述补充流朝向所述第一射流引导，使得所述补充流的至少一部分与所述第一射流的至少一部分混合以便增大所述第一射流的横向于所述第一射流的主行进方向的横截面。9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述第一射流膨胀组件包括多个同轴地对准的、轴向地间隔开的流整形构件，每个流整形构件具有孔，其中所述流整形构件被布置成：使得所述第一射流传播通过所述流整形构件的孔；和引导所述补充流通过介于相邻的流整形构件之间的一个或更多个间隙，以便将所述补充流与所述第一射流混合。10.根据权利要求8所述的设备，其中，所述第一射流膨胀组件包括一个或更多个流整形构件，每个流整形构件包括多个孔，所述多个孔被布置成使得所述第一射流传播通过所述多个孔。11.根据权利要求6至权利要求10中任一项所述的设备，其中，所述补充流包括呈雪的形式的所述清洁物质的第二射流，其中所述第二射流被布置成在所述第一射流的至少一部分入射到隔膜的当由所述隔膜支撑件支撑时的表面上之前与所述第一射流混合。
12.根据权利要求6所述的设备，其中，所述补充流...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：