感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法技术

提供感光性树脂组合物，其包含：(A)包含由下述式(A1)表示的重复单元、和选自由下述式(A2)表示的重复单元及由下述式(A3)表示的重复单元中的至少1种的聚合物、(B)在1分子中平均包含4个以上的环氧基的环氧化合物、(C)光致产酸剂、(D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物、和(E)有机溶剂。和(E)有机溶剂。和(E)有机溶剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法


[0001]本专利技术涉及感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法。

技术介绍

[0002]目前为止，作为具有感光性的半导体元件保护膜、多层印刷基板用绝缘膜，利用了感光性聚酰亚胺组合物、感光性环氧树脂组合物、感光性有机硅组合物等。作为用于这样的基板、电路保护的感光性材料，提出了以这些中可挠性特别优异的含有硅亚苯基骨架的有机硅型聚合物为主成分的感光性有机硅组合物(专利文献1)。但是，上述的组合物虽然对于膜物理性质优异，但析像清晰性低，为了以高集成化的三维安装封装件使用，希望析像清晰性的提高及与基板的密合性的改善。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2008
‑
184571号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]本专利技术鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供膜特性优异、能够容易地进行厚膜且微细的图案形成的感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法。
[0008]用于解决课题的手段
[0009]本专利技术人为了实现上述目的而反复深入研究，结果发现：包含在分子中具有交联基或发生交联反应的反应点、包含硅亚苯基骨架及芴骨架的聚合物、在1分子中平均包含4个以上的环氧基的环氧化合物、光致产酸剂、苯并三唑化合物和/或咪唑化合物、和有机溶剂的感光性树脂组合物显示高的析像清晰性和与基板的良好的密合性，作为镀敷用抗蚀剂材料优异，完成了本专利技术。
[0010]因此，本专利技术提供下述感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法。
[0011]1.感光性树脂组合物，其包含：
[0012](A)包含由下述式(A1)表示的重复单元、和选自由下述式(A2)表示的重复单元和由下述式(A3)表示的重复单元中的至少1种的聚合物，
[0013](B)在1分子中平均包含4个以上的环氧基的环氧化合物，
[0014](C)光致产酸剂，
[0015](D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物，和
[0016](E)有机溶剂。
[0017][化1][0018][0019][式中，X1及X2各自独立地为氢原子或缩水甘油基。
[0020]Y1为碳数1～5的亚烷基。
[0021]Z1为可包含羟基的碳数1～10的直链状亚烷基、碳数2～10的分支状亚烷基、或由下述式(A4)表示的2价的基团。
[0022][化2][0023][0024](式中，Z
11
及Z
13
各自独立地为碳数1～5的亚烷基。Z
12
为碳数1～30的亚烃基。a4及a5各自独立地为1～50的整数。)
[0025]Z2及Z3各自独立地为单键或碳数1～10的亚烷基。
[0026]R1、R2、R3及R4各自独立地为氢原子或碳数1～10的烃基。
[0027]a1、a2及a3为满足0＜a1＜1、0≤a2＜1、0≤a3＜1及a1+a2+a3＝1的数。
[0028]x及y各自独立地为1～50的整数。][0029]2.感光性树脂被膜，其由根据1所述的感光性树脂组合物得到。
[0030]3.感光性干膜，其包括支持膜和该支持膜上的根据2所述的感光性树脂被膜。
[0031]4.图案形成方法，其包含：
[0032](a)使用根据1所述的感光性树脂组合物以在基板上形成感光性树脂被膜的工序，
[0033](b)将所述感光性树脂被膜曝光的工序，和
[0034](c)使用有机溶剂对所述曝光的感光性树脂被膜进行显影的工序。
[0035]5.图案形成方法，其包含：
[0036](a')使用根据3所述的感光性干膜以在基板上形成感光性树脂被膜的工序，
[0037](b)将所述感光性树脂被膜曝光的工序，和
[0038](c)使用有机溶剂对所述曝光的感光性树脂被膜进行显影的工序。
[0039]专利技术的效果
[0040]本专利技术的感光性树脂组合物、感光性干膜显示出作为感光性材料充分的特性，通过使用它们，从而能够在宽膜厚范围形成被膜，即使是厚膜，也能形成微细且垂直性优异的
图案。
具体实施方式
[0041][感光性树脂组合物][0042]本专利技术的感光性树脂组合物包含：(A)在分子中包含具有交联基或发生交联反应的反应点的硅亚苯基骨架及芴骨架的聚合物、(B)在1分子中包含平均4个以上的环氧基的环氧化合物、(C)光致产酸剂、(D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物、以及(E)有机溶剂。
[0043][(A)成分][0044](A)成分的聚合物为包含选自由下述式(A1)表示的重复单元、由下述式(A2)表示的重复单元及由下述式(A3)表示的重复单元中的至少1种的聚合物。
[0045][化3][0046][0047]式(A1)中，X1及X2各自独立地为氢原子或缩水甘油基。
[0048]式(A2)中，Y1为碳数1～5的亚烷基。作为上述亚烷基，可列举出亚甲基、乙烷
‑
1,1
‑
二基、乙烷
‑
1,2
‑
二基、丙烷
‑
1,1
‑
二基、丙烷
‑
1,2
‑
二基、丙烷
‑
1,3
‑
二基、丙烷
‑
2,2
‑
二基、丁烷
‑
1,2
‑
二基、丁烷
‑
1,3
‑
二基、丁烷
‑
1,4
‑
二基、戊烷
‑
1,5
‑
二基等。这些中，作为Y1，优选乙烷
‑
1,1
‑
二基、乙烷
‑
1,2
‑
二基、丙烷
‑
1,1
‑
二基、丙烷
‑
1,2
‑
二基、丙烷
‑
1,3
‑
二基等。
[0049]式(A3)中，Z1为可包含羟基的碳数1～10的直链状亚烷基、碳数2～10的分支状亚烷基、或由下述式(A4)表示的2价的基团。
[0050][化4][0051][0052](式中，Z
11
及Z
13
各自独立地为碳数1～5的亚烷基。Z
12
为碳数1～30的亚烃基。a4及a5各自独立地为1～50的整数。)
[0053]作为由Z1表示的直链状亚烷基，可列举出亚甲基、乙烷
‑
1,2
‑
二基、丙烷
‑
1,3
‑
二基、丁烷
‑
1,4
‑
二基、戊烷
‑
1,5
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.感光性树脂组合物，其包含：(A)包含选自由下述式(A1)表示的重复单元、由下述式(A2)表示的重复单元和由下述式(A3)表示的重复单元中的至少1种的聚合物，(B)在1分子中包含平均4个以上的环氧基的环氧化合物，(C)光致产酸剂，(D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物，和(E)有机溶剂，[化1]式中，X1及X2各自独立地为氢原子或缩水甘油基，Y1为碳数1～5的亚烷基，Z1为可包含羟基的碳数1～10的直链状亚烷基、碳数2～10的分支状亚烷基、或由下述式(A4)表示的2价的基团，[化2]式中，Z
11
及Z
13
各自独立地为碳数1～5的亚烷基，Z
12
为碳数1～30的亚烃基，a4及a5各自独立地为1～50的整数，Z2及Z3各自独立地为单键或碳数1～10的亚烷基，R1、R2、R...

【专利技术属性】
技术研发人员：平野祯典，浅井聪，五井孝浩，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：