电致发光显示装置制造方法及图纸

一种电致发光显示装置，包括：基板；在基板上的第一电极；连接图案，其在基板上并且由与第一电极相同的材料形成；覆盖第一电极和连接图案的边缘的堤；在第一电极上的发光层；在发光层、堤和连接图案上的第二电极；以及在第二电极与连接图案之间的辅助图案，其中，辅助图案的侧表面具有比堤的侧表面更大的倾斜角。案的侧表面具有比堤的侧表面更大的倾斜角。案的侧表面具有比堤的侧表面更大的倾斜角。

【技术实现步骤摘要】
电致发光显示装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年11月30日提交的韩国专利申请第10
‑
2020
‑
0164873号的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用并入本文。


[0003]本公开内容涉及一种电致发光显示装置，更具体地，涉及一种具有大尺寸和高清晰度的电致发光显示装置。

技术介绍

[0004]作为平板显示装置之一，与液晶显示装置相比，电致发光显示装置具有宽的视角，因为电致发光显示装置是自发光的，并且由于不需要背光单元而还具有厚度薄、重量轻和功耗低的优点。
[0005]另外，电致发光显示装置由直流(DC)的低电压驱动并且具有快速的响应时间。此外，电致发光显示装置对外部冲击的抵抗力强，并且因为其部件是固体而在宽的温度范围下使用，并且特别地，可以以低成本制造电致发光显示装置。
[0006]电致发光显示装置包括多个像素，所述多个像素中的每个像素具有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，并且通过允许红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素选择性地发射光来显示各种颜色的图像。
[0007]红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素分别具有红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，并且每个发光层是通过真空热蒸发工艺形成的，在该真空热蒸发工艺中，使用精细金属掩模(FMM)选择性地沉积发光材料。
[0008]然而，蒸发工艺由于掩模的制备而增加了制造成本，并且由于掩模的制造变化、下垂、阴影效应等而在应用于大尺寸和高清晰度的显示装置时存在问题。

技术实现思路

[0009]因此，本公开内容涉及一种电致发光显示装置，其基本上消除了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或更多个问题。
[0010]本公开内容的目的是提供一种具有大尺寸和高清晰度的电致发光显示装置。
[0011]本公开内容的附加特征和优点将在以下的描述中阐述，并且部分将从描述中变得明显，或者可以通过本公开内容的实践获悉。本公开内容的目的和其他优点将通过书面说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
[0012]为了实现这些和其他优点，并且根据本公开内容的目的，如本文中所体现和广泛描述的，提供了一种电致发光显示装置，其包括：基板；在基板上的第一电极；连接图案，其在基板上并且由与第一电极相同的材料形成；覆盖第一电极和连接图案的边缘的堤；在第一电极上的发光层；在发光层、堤和连接图案上的第二电极；以及在第二电极与连接图案之间的辅助图案，其中，辅助图案的侧表面具有比堤的侧表面更大的倾斜角。
[0013]在另一方面中，一种电致发光显示装置包括：基板；在基板上的第一电极；连接图案，其在基板上并且由与第一电极相同的材料形成；覆盖第一电极和连接图案的边缘的堤；在第一电极上的发光层；在发光层、堤和连接图案上的第二电极；以及在第二电极与连接图案之间的辅助图案，其中，发光层包括第一电荷辅助层、发光材料层和第二电荷辅助层，并且第二电荷辅助层设置在辅助图案与第二电极之间，并且其中，在辅助图案的侧表面处的第二电荷辅助层的厚度小于在堤的侧表面处的第二电荷辅助层的厚度。
[0014]应当理解的是，前述一般描述和以下具体实施方式两者都是示例性和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的本公开内容的进一步说明。
附图说明
[0015]所包括的附图提供了对本公开内容的进一步理解，并且被并入本说明书中且构成本说明书的一部分，附图示出了本公开内容的实施方式，并且与说明书一起用于说明本公开内容的原理。
[0016]图1是根据本公开内容的实施方式的电致发光显示装置的一个像素区域的电路图。
[0017]图2是根据本公开内容的实施方式的电致发光显示装置的示意性平面图。
[0018]图3是根据本公开内容的第一实施方式的电致发光显示装置的示意性截面图。
[0019]图4是对根据本公开内容的第一实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
[0020]图5是对应于图4的线II
‑
II
’
的截面图。
[0021]图6A至图6J是示意性地示出了根据本公开内容的第一实施方式的在电致发光显示装置的制造过程的步骤中的电致发光显示装置的截面图。
[0022]图7是对根据本公开内容的第二实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
[0023]图8是对应于图7的线III
‑
III
’
的截面图。
[0024]图9是对根据本公开内容的第三实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
[0025]图10是对应于图9的线IV
‑
IV
’
的截面图。
[0026]图11是对根据本公开内容的第四实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
[0027]图12是对根据本公开内容的第五实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
[0028]图13是对根据本公开内容的第六实施方式的电致发光显示装置的对应于图3的区域A1的辅助图案进行放大的示意性平面图。
具体实施方式
[0029]现在将详细参考本公开内容的示例性实施方式，其示例在附图中示出。
[0030]根据本公开内容的实施方式的电致发光显示装置包括多个像素以显示图像，并且多个像素中的每个像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。对应于每个子像素的
像素区域可以具有图1中所示的配置。
[0031]图1是根据本公开内容的实施方式的电致发光显示装置的一个像素区域的电路图。
[0032]在图1中，根据本公开内容的实施方式的电致发光显示装置包括彼此交叉以限定多个像素区域的多条栅极线和多条数据线。具体地，在图1的示例中，栅极线GL和数据线DL彼此交叉以限定像素区域P。开关薄膜晶体管Ts、驱动薄膜晶体管Td、存储电容器Cst和发光二极管De形成在每个像素区域P中。
[0033]更具体地，开关薄膜晶体管Ts的栅电极连接至栅极线GL，并且开关薄膜晶体管Ts的源电极连接至数据线DL。驱动薄膜晶体管Td的栅电极连接至开关薄膜晶体管Ts的漏电极，并且驱动薄膜晶体管Td的源电极连接至高压电源VDD。发光二极管De的阳极连接至驱动薄膜晶体管Td的漏电极，并且发光二极管De的阴极连接至低压电源VSS。存储电容器Cst连接至驱动薄膜晶体管Td的栅电极和漏电极。
[0034]驱动电致发光显示装置以显示图像。例如，当开关薄膜晶体管Ts被通过栅极线GL施加的栅极信号接通时，来自数据线DL的数据信号通过开关薄膜晶体管Ts被施加至驱动薄膜晶体管Td的栅电极和存储电容器Cst的电极。
[0035]当驱动薄膜晶体管Td被数据信号接通时，流过发光二极管本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电致发光显示装置，包括：基板；在所述基板上的第一电极；连接图案，其在所述基板上并且由与所述第一电极相同的材料形成；覆盖所述第一电极和所述连接图案的边缘的堤；在所述第一电极上的发光层；在所述发光层、所述堤和所述连接图案上的第二电极；以及在所述第二电极与所述连接图案之间的辅助图案，其中，所述辅助图案的侧表面具有比所述堤的侧表面更大的倾斜角。2.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述发光层包括第一电荷辅助层、发光材料层和第二电荷辅助层，所述第一电荷辅助层和所述发光材料层中的每个的至少一个侧表面被所述堤包围，并且所述第二电荷辅助层的一部分被设置在所述堤与所述第二电极之间以及在所述辅助图案与所述第二电极之间，并且其中，在所述辅助图案的侧表面处的第二电荷辅助层的厚度小于在所述堤的侧表面处的第二电荷辅助层的厚度。3.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述辅助图案露出所述连接图案。4.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述堤具有露出所述连接图案的辅助接触孔，并且所述辅助图案完全覆盖通过所述辅助接触孔露出的所述连接图案。5.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述堤具有露出所述连接图案的辅助接触孔，并且所述辅助图案被形成为对应于所述辅助接触孔的至少一侧。6.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述第二电极与所述辅助图案的侧表面接触。7.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，在所述辅助图案的侧表面处的所述第二电极的厚度小于在所述堤的侧表面处的所述第二电极的厚度。8.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，所述辅助图案的侧表面具有75度至105度的倾斜角。9.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，还包括在所述基板与所述第一电极之间的至少一个薄膜晶体管，其中，所述第一电极连接至所述至少一个薄膜晶体管。10.根据权利要求1所述的电致发光显示装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：李学旻，金禧镇，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：