一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉制造技术

本发明专利技术涉及氧化硅制备技术领域，具体为一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，包括熔炼罐和生产罐，熔炼罐与生产罐之间设置有导流管；本发明专利技术是通过在熔炼罐的内部设置吹气机构，硅粉和二氧化硅粉末在熔炼斗的内部升华后生成氧化硅气体，在横向吹动的氩气带动下，氧化硅气体通过导流管和分流管进入吹气板的内部，利用两个吹气板向析出基体表面的两侧进行吹气，同时向温控盘管的内部通入高温油液，调控析出基体的温度，氧化硅粉末在析出基体的表面析出，相较于现有技术方案，析出基体在转动的过程中，两个吹气板同时将氧化硅气体吹向析出基体的表面，在析出基体的表面能够更加高效地完成氧化硅的析出，进而有效提高氧化硅的生产制备效率。产制备效率。产制备效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉


[0001]本专利技术涉及氧化硅制备
，具体为一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉。

技术介绍

[0002]氧化硅纳米材料具备较高的理论比容量(1400Ahg
‑1以上)，具有纳米粒径的特性减少充放电过程中的剧烈体积变化，使其在锂离子电池、半导体等领域存在着广泛的应用前景；在现有的中国专利技术专利公开号CN103896283A中提出了一种SiO粉末的制造方法和制造装置，在该方案中通过设置回转式析出基体使氧化硅气体能够均匀析出，进而得到氧化硅粉末，但是在应用过程中，气流导向部件将惰性气体吹向回转式析出基体，同时回转式析出基体在进行转动，回转式析出基体只有转动到气流导向部件方向的侧面才能析出氧化硅粉末，导致氧化硅粉末在回转式析出基体的析出速率降低，另外该方案需要对整个析出室进行降温后，再对回转式析出基体表面沉积的氧化硅粉末进行剥离，才能得到氧化硅产品，导致氧化硅的制备装置无法实现连续生产，降低了氧化硅的生产制备效率；为解决上述问题，本专利技术提出了一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉。

技术实现思路

[0003]（一）解决的技术问题针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，解决了现有技术方案中对于氧化硅粉末的在析出基体表面的析出速率低，对于氧化硅的生产装置无法实现连续性生产，降低了氧化硅生产制备效率的问题。
[0004]（二）技术方案为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，包括熔炼罐和生产罐，所述熔炼罐与生产罐之间设置有导流管，所述熔炼罐与生产罐的顶端均设置有真空管，且两个真空管的底端分别与熔炼罐和生产罐的内部连通，所述熔炼罐的内部设置有吹气机构；所述吹气机构包括导气板，所述导气板的一侧与熔炼罐内壁的右侧固定连接，且导气板的左侧设置有若干个气嘴，所述熔炼罐顶部的一侧设置有进气管，所述进气管的一端贯穿熔炼罐并延伸至熔炼罐的内部，且进气管延伸至熔炼罐内部的一端与导气板的内部连通，所述生产罐的内部对称设置有两个吹气板，且两个吹气板相对的一侧均开设有若干个吹气孔，位于右侧所述吹气板的内部与导流管的内部连通；所述析出基体的表面设置有刮料机构，所述刮料机构包括刮料架，且刮料架的底端与析出基体的表面接触，所述刮料架的左侧设置有连接块，且连接块的内部开设有螺纹孔，所述安装架的底部设置有连接架，且连接块位于连接架的内部滑动，所述连接架的内部转动连接有螺杆，且螺杆的表面与连接块内部的螺纹孔螺纹连接，所述安装架的顶部设置
有刮料电机，且刮料电机输出轴的一端与螺杆的顶端通过联轴器固定连接。
[0005]优选的，所述导流管的内部连通有分流管，且分流管的一端与位于左侧吹气板的内部连通。
[0006]优选的，所述生产罐的底部开设有若干个落料孔，且若干个落料孔内部的下方均设置有电磁阀。
[0007]优选的，所述熔炼罐的内部设置有熔炼机构，所述熔炼机构包括保温斗，所述保温斗的内部设置有熔炼斗，且保温斗内部的下方设置有电加热元件，所述电加热元件的顶部与熔炼斗的底部接触，所述熔炼罐的顶部设置有进料管，且进料管的底端贯穿熔炼罐并延伸至熔炼罐的内部。
[0008]优选的，所述生产罐的内部设置有析出机构，所述析出机构包括析出基体，且析出基体的底部与生产罐内壁的底部转动连接，所述生产罐内部的上方设置有限位架，且限位架的内部转动连接有转动杆，所述生产罐的顶部设置有转动电机，且转动电机输出轴的一端与转动杆的顶端通过联轴器固定连接，所述转动杆的底部与析出基体的底部固定连接，且转动杆的底端与生产罐内壁的底部转动连接。
[0009]优选的，所述生产罐的内部设置有安装架，且安装架的底部与析出基体的顶部转动连接。
[0010]优选的，所述生产罐的内部设置有处理机构，所述处理机构包括温控盘管，且温控盘管位于析出基体的内部，所述生产罐的两侧分别连通有进水管和出水管，所述进水管与出水管的一端均贯穿生产罐并延伸至生产罐的内部，且进水管与出水管延伸至生产罐内部的一端分别与温控盘管的两端连通。
[0011]优选的，所述生产罐的底部设置有出料机构，所述出料机构包括出料框，所述出料框的内部设置有筛料架，且筛料架的内部设置有筛网，所述出料框的内部转动连接有连接杆，且连接杆的顶端与转动杆的底端固定连接，所述连接杆的底端位于筛网的上方，且连接杆的底端设置有横杆，所述横杆的表面转动设置有压料辊。
[0012]优选的，所述出料框的内部滑动设置有接料框，且接料框位于出料框的内部抽屉式设置。
[0013]优选的，用于氧化硅制备的立式连续性反应炉的工作原理具体包括以下步骤：第一步、通过进料管向熔炼斗的内部投入经过前端处理的硅粉以及二氧化硅粉末，通过两个真空管分别对生产罐和熔炼罐的内部进行抽真空处理，直至生产罐和熔炼罐内部的真空度达到氧化硅生产制备的工艺要求；第二步、通过进气管向导气板的内部鼓入氩气，接着氩气通过气嘴喷出，直至熔炼罐和生产罐的内部处于氩气氛围下，接着通过电加热元件对熔炼斗的内部加热至1250℃
‑
1350℃，熔炼斗内部的混合料升华后生成氧化硅气体，氧化硅气体从熔炼斗的内部溢出，在横向吹动的氩气带动下，氧化硅气体通过导流管和分流管进入吹气板的内部；第三步、通过转动电机配合转动杆带动析出基体在生产罐的内部进行转动，生产罐内部两侧的吹气板向析出基体表面的两侧进行吹气，向温控盘管的内部通入300℃
‑
450℃的油液，调控析出基体的温度，氧化硅粉末在析出基体的表面析出；第四步、通过刮料电机输出轴带动螺杆转动，带动刮料架在析出基体的表面向下滑移，将析出基体表面析出的氧化硅粉末刮落，落料孔将析出基体表面刮落的氧化硅导入
出料框的内部；第五步、通过连接杆带动转动杆转动，压料辊对落在筛网上的氧化硅进行碾压，使成块的氧化硅破碎后穿过筛网，利用接料框氧化硅进行收集，最后得到氧化硅产品。
[0014]（三）有益效果本专利技术提供了一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉。与现有技术相比具备以下有益效果：（1）通过在熔炼罐的内部设置吹气机构，利用进气管向导气板的内部鼓入氩气，接着氩气通过气嘴喷出，直至熔炼罐和生产罐的内部处于氩气氛围下，硅粉和二氧化硅粉末在熔炼斗的内部升华后生成氧化硅气体，氧化硅气体从熔炼斗的内部溢出，在横向吹动的氩气带动下，氧化硅气体通过导流管和分流管进入吹气板的内部，利用两个吹气板向析出基体表面的两侧进行吹气，同时向温控盘管的内部通入高温油液，调控析出基体的温度，氧化硅粉末在析出基体的表面析出，相较于现有技术方案，析出基体在转动的过程中，两个吹气板同时将氧化硅气体吹向析出基体的表面，在析出基体的表面能够更加高效地完成氧化硅的析出，进而有效提高氧化硅的生产制备效率；（2）通过在析出基体的表面设置刮料机构，在析出基体的表面集聚氧化硅后，利用刮料电机输出轴带动螺杆转动，带动刮料架在析出基体的表面向下滑移，将析出基体表面析出的氧化硅粉末刮落，落料孔将析出基体表面刮落的氧化硅导入出料框的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，包括熔炼罐（10）和生产罐（20），所述熔炼罐（10）与生产罐（20）之间设置有导流管（30），其特征在于：所述熔炼罐（10）与生产罐（20）的顶端均设置有真空管（40），且两个真空管（40）的底端分别与熔炼罐（10）和生产罐（20）的内部连通，所述熔炼罐（10）的内部设置有吹气机构；所述吹气机构包括导气板（201），所述导气板（201）的一侧与熔炼罐（10）内壁的右侧固定连接，且导气板（201）的左侧设置有若干个气嘴（202），所述熔炼罐（10）顶部的一侧设置有进气管（203），所述进气管（203）的一端贯穿熔炼罐（10）并延伸至熔炼罐（10）的内部，且进气管（203）延伸至熔炼罐（10）内部的一端与导气板（201）的内部连通，所述生产罐（20）的内部对称设置有两个吹气板（204），且两个吹气板（204）相对的一侧均开设有若干个吹气孔，位于右侧所述吹气板（204）的内部与导流管（30）的内部连通；所述生产罐（20）的内部设置有析出机构，所述析出机构包括析出基体（301），所述析出基体（301）的上方设置有安装架（305），且析出基体（301）的表面设置有刮料机构，所述刮料机构包括刮料架（501），且刮料架（501）的底端与析出基体（301）的表面接触，所述刮料架（501）的左侧设置有连接块（502），且连接块（502）的内部开设有螺纹孔，所述生产罐（20）的内部设置有连接架（503），且连接块（502）位于连接架（503）的内部滑动，所述连接架（503）的内部转动连接有螺杆（505），且螺杆（505）的表面与连接块（502）内部的螺纹孔螺纹连接，所述安装架（305）的顶部设置有刮料电机（504），且刮料电机（504）输出轴的一端与螺杆（505）的顶端通过联轴器固定连接。2.根据权利要求1所述的一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，其特征在于：所述导流管（30）的内部连通有分流管（205），且分流管（205）的一端与位于左侧吹气板（204）的内部连通。3.根据权利要求1所述的一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，其特征在于：所述生产罐（20）的底部开设有若干个落料孔（506），且若干个落料孔（506）内部的下方均设置有电磁阀。4.根据权利要求1所述的一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，其特征在于：所述熔炼罐（10）的内部设置有熔炼机构，所述熔炼机构包括保温斗（101），所述保温斗（101）的内部设置有熔炼斗（102），且保温斗（101）内部的下方设置有电加热元件（103），所述电加热元件（103）的顶部与熔炼斗（102）的底部接触，所述熔炼罐（10）的顶部设置有进料管（104），且进料管（104）的底端贯穿熔炼罐（10）并延伸至熔炼罐（10）的内部。5.根据权利要求1所述的一种用于氧化硅制备的立式连续性反应炉，其特征在于：所述析出基体（301）的底部与生产罐（20）内壁的底部转动连接，所述生产罐（20）内部的上方设置有限位架（303），且限位架（303）的内部转动连接有转动杆（304），所述生产罐（20）的顶部设置有转动电机（302），且转动电机（302）输出轴的一端与转动杆（304）的顶端通过联轴器固定连接。...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永平，徐仲高，
申请(专利权)人：常州顺钿精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：