自钨废弃物提炼氧化钨的方法技术

本发明专利技术主要揭示一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法，其包括以下主要步骤：利用酸性溶液去除钨废弃物表面的沉积金属与杂质、利用强氧化剂去除钨废弃物表面的铝金属、利用酸性溶液对钨废弃物实施氧化浸出处理、以及自酸性溶液之中过滤出至少一钨氧化物。由前述说明可知，本发明专利技术的方法具有工艺步骤简单的优点，且能够自钨废弃物之中有效地提炼出高纯度、高品质的氧化钨，从而能够能有效减少钨废弃物对环境所造成的污染。最终，将本发明专利技术的方法应用于相关产业，可以达到钨资源重复利用的重大贡献。可以达到钨资源重复利用的重大贡献。可以达到钨资源重复利用的重大贡献。

【技术实现步骤摘要】
自钨废弃物提炼氧化钨的方法


[0001]本专利技术涉及一种废弃物回收再利用的
，尤其涉及一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法。

技术介绍

[0002]随着科技的快速发展，固态发光元件已经被广泛地应用于照明装置和显示装置的制造，其中，已知的固态发光元件包括机发光二极管(Light emitting diode,LED)及有机发光二极管(Organic light emitting diode,OLED)。长期涉及OLED元件及/或LED元件的设计与制作的工程师应该知道，钨舟为利用蒸镀设备制作阴极金属层所不可或缺的耗材。在蒸镀工艺结束后，使用过的钨舟的表面会覆有金属残留物及钨氧化物，因此使用过的钨舟便无法再在下一次的蒸镀工艺中重复使用。应可理解，随着蒸镀工艺的实施次数的增加，钨舟废弃物的数量也会跟着增加。
[0003]长期涉及固态发光元件的设计与制作的工程师都知道，钨为一种不易回收且具污染性的金属。目前，常用的钨废弃物回收利用技术包括：机械破碎法、硝石法、锌熔法、电解法、焙烧—氨浸法等；其中，这些常用的回收利用方法具有环境污染大、回收率低与工艺步骤繁琐等缺点，从而导致目前仍旧缺少一种可以自钨废弃物之中有效地回收钨氧化物的技术。故而，如何自钨废弃物的中提炼(回收)钨金属于是成为业者重视的课题及技术发展的目标。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法，其包括以下主要步骤：利用酸性溶液去除钨废弃物表面的沉积金属与杂质、利用强氧化剂去除钨废弃物表面的铝金属、利用酸性溶液对钨废弃物实施氧化浸出处理、以及自酸性溶液之中过滤出至少一钨氧化物。由前述说明可知，本专利技术的方法具有工艺步骤简单的优点，且能够自钨废弃物之中有效地提炼出高纯度、高品质的氧化钨，从而能够能有效减少钨废弃物对环境所造成的污染。最终，将本专利技术的方法应用于相关产业，可以达到钨资源重复利用的重大贡献。
[0005]为达成上述目的，本专利技术提出所述自钨废弃物提炼氧化钨的方法的一实施例，其包括以下步骤：
[0006](1)将至少一钨废弃物置入一第一溶液之中，使所述钨废弃物与该第一溶液具有范围介于0.5:2.5至1.5:3.5之间的一第一重量/体积比(w/v)；其中，该第一溶液由一有机溶剂和一第一酸性溶液依一第一体积/体积比(v/v)混合而成，且该第一体积/体积比介于0.5:1至1.5:2之间；
[0007](2)继续地加入一清洗剂至该第一溶液之中，且在等待至少1小时的反应时间经过后加入一低碳醇至该第一溶液之中；其中，于该第一溶液之中，该低碳醇、该有机溶剂、和该第一酸性溶液之间具有范围介于0.5:0.5:1至1.5:1.5:2之间的一第二体积/体积比；
[0008](3)自该第一溶液之中取出所述钨废弃物，接着依序将所述钨废弃物与一第二溶
液置入一第二酸性溶液之中，以获得一第三溶液；其中，该第二酸性溶液的体积为所述有机溶剂的体积的两倍，且该第二溶液由一氧化剂和一第三酸性溶液依一第三体积/体积比混合而成，该第三体积/体积比介于0.5:2.5至1.5:3.5之间；
[0009](4)将一水溶液加入该第三溶液之中，且该水溶液的体积与所述有机溶剂的体积相同；
[0010](5)自该第三溶液之中取出所述钨废弃物，接着将所述钨废弃物置入一第四溶液之中；其中，该第四溶液由一第四酸性溶液和一第五酸性溶液依一第四体积/体积比混合而成，该第四体积/体积比为1:1；以及
[0011](6)对该第四溶液进行一过滤处理，从而自该第四溶液过滤出至少一钨氧化物。
[0012]在一实施例中，该有机溶剂为下列任一者：四氢呋喃(Tetrahydrofuran,THF)、丙酮、异丙醇、氮甲基吡咯烷酮、二氯甲烷、甲苯、苯、前述任两者的混合物、或前述任两者以上的混合物。
[0013]在一实施例中，该第一酸性溶液、该第三酸性溶液和该第五酸性溶液皆为质量百分浓度为37％的盐酸，且该第二酸性溶液为质量百分浓度为18.5％的盐酸。
[0014]在一实施例中，该清洗剂为乙二醇或乙二醇醚。
[0015]在一实施例中，该氧化剂为质量百分浓度为30％的双氧水，且该第四酸性溶液为质量百分浓度为60％的硝酸。
[0016]在一实施例中，所述钨氧化物包括三氧化钨(WO3)与钨蓝(WO
2.9
)。
[0017]以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。
附图说明
[0018]图1为本专利技术的一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法的流程图；
[0019]图2为完成步骤S1
‑
S2的第一溶液和废弃钨舟的实际影像图；
[0020]图3为完成步骤S3
‑
S4的第三溶液和废弃钨舟的实际影像图；
[0021]图4为完成步骤S5的第四溶液和废弃钨舟的实际影像图；
[0022]图5为显示完成步骤S6所获得的钨氧化物的实际影像图；
[0023]图6为钨氧化物的XRD谱图；
[0024]图7为钨氧化物的SEM影像图；以及
[0025]图8为钨氧化物的EDX谱图。
具体实施方式
[0026]为了能够更清楚地描述本专利技术所提出的一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法，以下将配合附图，详尽说明本专利技术的较佳实施例。
[0027]请参阅图1，其显示本专利技术的一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法的流程图。本专利技术提出一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法的工艺首先执行步骤S1：将至少一钨废弃物置入一第一溶液之中，使所述钨废弃物与该第一溶液具有范围介于0.5:2.5至1.5:3.5之间的一第一重量/体积比(w/v)。长期涉及OLED元件及/或LED元件的设计与制作的工程师应该知道，钨舟为利用蒸镀设备制作阴极金属层所不可或缺的耗材。在蒸镀工艺结束后，使用过的钨舟的表面会覆有金属残留物及钨氧化物，因此使用过的钨舟便无法再在下一次的蒸镀工艺
中重复使用。故而，在一实施例中，该步骤S1之中的钨废弃物可以是已经使用过的钨舟，但不以此为限。
[0028]并且，在一实施例中，所述第一溶液由一有机溶剂和一第一酸性溶液依一第一体积/体积比(v/v)混合而成，且该第一体积/体积比介于0.5:1至1.5:2之间。其中，该有机溶剂可为下列任一者：四氢呋喃(Tetrahydrofuran,THF)、丙酮、异丙醇、氮甲基吡咯烷酮、二氯甲烷、甲苯、苯、前述任两者的混合物、或前述任两者以上的混合物，例如为四氢呋喃(THF)。另一方面，该第一酸性溶液皆为质量百分浓度则为37％的盐酸。更详细地说明，步骤S1的示范性实施例如下：将废弃钨舟500公克放入装有1公升的四氢呋喃(即，体积百分浓度为99％)及0.5公升的盐酸(质量百分浓度为37％)的烧杯中。
[0029]方法流程系接着执行步骤S2：继续地加入一清洗剂至该第一溶液之中，且在等待至少1小时的反应时间经过后，加入一低碳醇至该第一溶液之中，使该低碳醇、该有机溶剂、和该本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自钨废弃物提炼氧化钨的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将至少一钨废弃物置入一第一溶液之中，使所述钨废弃物与该第一溶液具有范围介于0.5:2.5至1.5:3.5之间的一第一重量/体积比(w/v)；其中，该第一溶液由一有机溶剂THF)和一第一酸性溶液(HCl)依一第一体积/体积比(v/v)混合而成，且该第一体积/体积比介于0.5:1至1.5:2之间；(2)继续地加入一清洗剂(EG)至该第一溶液之中，且在等待至少1小时的反应时间经过后，加入一低碳醇(MeOH)至该第一溶液之中；其中，于该第一溶液之中，该低碳醇、该有机溶剂、和该第一酸性溶液之间具有范围介于0.5:0.5:1至1.5:1.5:2之间的一第二体积/体积比；(3)自该第一溶液之中取出所述钨废弃物，接着依序将所述钨废弃物与一第二溶液置入一第二酸性溶液(HCl)之中，以获得一第三溶液；其中，该第二酸性溶液(HCl)的体积为所述有机溶剂的体积的两倍，且该第二溶液由一氧化剂和一第三酸性溶液(HCl)依一第三体积/体积比混合而成，该第三体积/体积比介于0.5:2.5至1.5:3.5之间；(4)将一水溶液加入该第三溶液之中，且该水溶液的体积与所述有机溶剂的体积相同；(5)自该第三溶液之中取出所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：周卓煇，吕芳贤，林劲廷，黄子恩，
申请(专利权)人：周卓煇，
类型：发明
国别省市：