本实用新型专利技术涉及一种流动控制装置及静脉注射套件，所述流动控制装置包括上部壳体、下部壳体、介于上部壳体和下部壳体之间并由上部壳体和下部壳体限定的腔室以及阀构件。上部壳体包括主入口和次级入口，主入口具有限定腔体的内表面。下部壳体限定了流动控制装置的出口。该腔室将主入口和次级入口与出口在流体上连接。阀构件至少部分地往复设置在腔体中，部分地往复设置在腔室中，以(i)当腔室中的流体液位低于预定液位时，选择性地允许流体沿第一方向流动到主入口中，以及(ii)当腔室中的流体液位高于预定液位时，防止流体沿与第一方向相反的第二方向回流。反的第二方向回流。反的第二方向回流。
【技术实现步骤摘要】
一种流动控制装置及静脉注射套件
[0001]本公开总体上涉及一种流动控制装置及静脉注射套件，更具体地说，涉及具有阀构件的流动控制装置，该阀构件能够防止带有次级管线的静脉注射(IV) 套件中的输注不足(under
‑
infusion)，以及防止药物从次级管线回流到主管线中。
技术介绍
[0002]输注IV套件通常用于输注疗法，以便将药品从预先充注的容器(例如，包含所需药品的IV瓶或袋)输送给患者。通常，IV管件与导管相连，并插入到待治疗的局部区域。在一些情况下，需要以可能的不同剂量向患者输送多种药物，从而导致需要具有多支路管件或流体管线的IV延伸套件，通过该套件可以将多种药物分配给患者。
[0003]通常使用IV溶液对患者进行输注，该溶液最初设置在在IV瓶或袋中，并通过IV管线滴入到患者的静脉中。流动控制装置，例如止回阀，通常也包括在 IV管线中，以允许流体仅在患者的方向上流动。这确保了药品向下游朝向患者流动，而不是向上游朝向IV瓶或袋流动。
[0004]在使用IV套件进行注射期间，次级药物供给可能会往回流动到主IV管线中，导致次级药物输注不足。尽管止回阀可以定位在主管线中以防止回流，但止回阀可能会失效。止回阀故障的常见原因是由于输注物中存在碎片。此外，由于空气进入次级管线，导致一些次级药物留在次级管线中(未输送的药品)，因此经常出现输注不足。进入IV管线的空气可能会产生不良影响，例如给患者造成空气栓塞。
[0005]
技术介绍
部分中提供的描述不应仅仅因为在
技术介绍
部分中被提及或与
技术介绍
部分相关联而被认为是现有技术。背景部分可以包括描述主题技术的一个或更多个方面的信息。
技术实现思路
[0006]根据本公开的一些实施例，流动控制装置可以包括上部壳体，其包括具有限定腔体的内表面的主入口和和次级入口；下部壳体，其限定流动控制装置的出口；以及介于上部壳体和下部壳体之间并由上部壳体和下部壳体限定的腔室，该腔室用于将主入口和次级入口与出口在流体上连接。阀构件可以至少部分在腔体中且部分在腔室中往复设置，从而(i)当腔室中的流体液位低于预定液位时，选择性地允许流体在第一方向上流动到主入口中，以及(ii)当腔室中的流体液位高于预定液位时，防止流体在与第一方向相反的第二方向上回流。
[0007]根据一些实施例，静脉注射(IV)套件可包括主IV管线和次级IV管线以及流动控制装置。流动控制装置可以包括上部壳体、联接到上部壳体的下部壳体以及被限定在上部壳体和下部壳体之间的腔室。上部壳体可以包括将主IV管线与腔室在流体上连通的主入口，以及将次级IV管线与腔室在流体上连通的次级入口。流动控制装置可以进一步包括阀构件，该阀构件具有设置在腔室中的基部和从基部纵向延伸到主入口中的多个支腿，当腔室
中的流体的液位超过预定液位时，所述阀构件可以通过施加在基部上的浮力沿近侧方向移位。
[0008]应当理解，前面的总体描述和下面的详细描述都是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的主题技术的进一步解释。还应当理解，可以利用其他方面，并且可以在不脱离主题技术的范围的情况下进行改变。
附图说明
[0009]以下附图被包括来说明实施例的某些方面，并且不应被视为排他性实施例。如受益于本公开的本领域技术人员将会想到的，所公开的主题能够在形式和功能上进行相当多的修改、变更、组合和等同物。
[0010]图1示出了根据本公开的一些实施例的包括流动控制装置的多管线IV延伸套件。
[0011]图2A示出了根据本公开的一些实施例的流动控制装置的剖视图。
[0012]图2B示出了根据本公开的一些实施例的图2A的流动控制装置和阀构件的放大的局部剖视图。
[0013]图2C示出了根据一些实施例的图2A的流动控制装置的上部壳体的透视图。
[0014]图2D示出了根据一些实施例的图2A的流动控制装置的上部壳体的剖视图。
[0015]图3示出了根据本公开的一些实施例的流动控制装置的阀构件的透视图。
[0016]图4示出了根据本公开的一些实施例的流动控制装置的阀构件和密封构件的透视图。
[0017]图5是根据本公开的一些实施例的当受到上游力时处于打开状态的流动控制装置的剖视图，在该状态下腔室中的药物液位低于预定液位。
[0018]图6是根据本公开的一些实施例的处于关闭状态的图5的流动控制装置的剖视图，在该状态下药物液位高于预定量并且向阀构件施加浮力。
[0019]图7是根据本公开的一些实施例的处于关闭状态的图5的流动控制装置的剖视图，在该状态下流体从次级入口流动到腔室中。
[0020]图8是根据本公开的一些实施例的处于打开状态的图5的流动控制装置的剖视图，在该状态下从次级入口到腔室的流体流动完成，并且腔室中的药物液位已经下降到预定液位以下。
[0021]图9示出了根据本公开的一些实施例的具有阀构件的流动控制装置的剖视图。
[0022]图10示出了根据本公开的一些实施例的具有阀构件的流动控制装置的剖视图。
[0023]图11示出了根据本公开的一些实施例的图10的阀构件的透视图。
[0024]图12示出了根据本公开的一些实施例的具有阀构件的流动控制装置的剖视图。
[0025]图13示出了根据本公开的一些实施例的图12的阀构件的透视图。
具体实施方式
[0026]下面阐述的详细描述描述了本主题技术的各种构造，并且不旨在表示可以实践本主题技术的唯一构造。详细描述包括具体细节，以便提供对主题技术的透彻理解。因此，可以提供关于某些方面的尺寸作为非限制性示例。然而，对于本领域的技术人员来说显而易见的是，本主题技术可以在没有这些具体细节的情况下实施。在一些情况下，众所周知的结
构和部件以框图形式示出，以避免模糊主题技术的概念。
[0027]应当理解，本公开包括主题技术的示例，并且不限制所附权利要求的范围。现在将根据特定但非限制性的示例公开主题技术的各个方面。本公开中描述的各种实施例可以以不同的方式和变型并且根据期望的应用或实施方式来实现。
[0028]本描述总体上涉及流动控制装置，更具体地说，涉及具有阀构件的流动控制装置，该阀构件能够防止带有次级管线的IV套件中的输注不足，以及防止药物从次级管线回流到主管线中。
[0029]由于主管线中的止回阀失效，带有次级管线的IV套件容易出现次级药物输注不足的情况。止回阀失效的最常见原因是由于在次级管线中的药物在低压下突入和渗入到主管线时积聚的碎屑。输注不足的常见原因是在次级IV的往回充注(back priming)时以及在主管线和次级管线中等压头时的药物稀释。其他原因包括次级管线中的死容量，以及输注药物所花费的时间。本文描述的各种实施例的流动控制装置克服了通常与具有主管线和次级管线的IV套件相关的上述问题。
[0030]根据本公开的各种实施例，流动控制装置可以包括具有主入口和次级入口的上部壳体、联接到上部壳体的下部壳体本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种流动控制装置，其特征在于，包括：上部壳体，所述上部壳体包括：主入口，所述主入口具有限定腔体的内表面；以及次级入口；下部壳体，所述下部壳体限定流动控制装置的出口；腔室，所述腔室介于所述上部壳体和下部壳体之间并由所述上部壳体和下部壳体限定，用于将所述主入口和次级入口与所述出口在流体上连接；以及阀构件，所述阀构件至少部分地往复地设置在所述腔体中并且部分地往复地设置在所述腔室中，从而(i)当所述腔室中的流体液位低于预定液位时，选择性地允许流体在第一方向上流动到所述主入口中，以及(ii)当所述腔室中的流体液位高于预定液位时，防止流体在与所述第一方向相反的第二方向上回流。2.根据权利要求1所述的流动控制装置，其特征在于，所述阀构件包括基部和从所述基部向近侧延伸的主体，所述主体包括在其近侧端部处的凸缘。3.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于，所述主体进一步包括中心孔和多个轴向延伸的狭槽，流动到所述主入口和所述腔体中的流体通过所述中心孔和多个轴向延伸的狭槽进入所述腔室。4.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于：限定所述腔体的内表面包括在其远侧端部处的周向唇缘，所述周向唇缘朝向所述主入口的中心纵向轴线径向向内突出；并且主体凸缘被构造成当所述阀构件受到所述第一方向上的净轴向力时坐置在所述周向唇缘上。5.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于，所述主体进一步包括从所述基部纵向延伸到所述主入口的腔体中的多个支腿。6.根据权利要求5所述的流动控制装置，其特征在于，所述多个支腿围绕所述主体的中心纵向轴线径向间隔开，并且相邻的支腿之间的每个间隔限定了流动部分，进入所述主入口并到达所述腔体中的流体通过所述流动部分进入所述腔室。7.根据权利要求5所述的流动控制装置，其特征在于：所述支腿中的每一个都包括所述主体凸缘的一部分，并且限定所述腔体的内表面包括在其远侧端部处的周向唇缘，所述周向唇缘朝向所述主入口的中心纵向轴线径向向内突出；并且每个主体凸缘部分被构造成当所述阀构件受到所述第一方向上的净轴向力时坐置在所述周向唇缘上。8.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于，所述基部包括大致圆形的板，所述大致圆形的板与所述主入口共享公共的中心轴线。9.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于，所述基部包括半圆形的板。10.根据权利要求2所述的流动控制装置，其特征在于，所述基部包括：大致圆形的板，所述大致圆形的板横跨所述主入口和次级入口两者下方的区域；以及孔，所述孔定位在对应于所述次级入口的远侧端部处的开口的位置处，以防止所述基部阻塞从所述次级入口到所述腔室中的流体流动。
11.根据权利要求2所述的流动控制装...
【专利技术属性】
技术研发人员：阿玛尔辛，
申请(专利权)人：康尔福盛三零三公司，
类型：新型
国别省市：
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