一种OLED蒸镀组件的清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种OLED蒸镀组件的清洗设备，包括防着板、掩膜板、紫外光照射装置、供水装置和纯水超声清洗装置。其中，防着板和掩膜板的表面均镀有一层包括纳米二氧化钛的薄膜。清洗过程中利用清洗设备中的紫外光照射装置照射薄膜，催化二氧化钛以分解防着板和掩膜板上的有机材料膜并用水膜将其隔开，再利用供水装置进行冲刷和纯水超声清洗装置进行超声震荡，对应清除防着板和掩膜板上的有机材料，完成清洗，无需特定调配的有机溶剂进行清洗，降低清洗难度和环境污染的风险，实现成本降低和保护环境，提高清洗的便利性。提高清洗的便利性。提高清洗的便利性。

【技术实现步骤摘要】
一种OLED蒸镀组件的清洗设备


[0001]本技术涉及OLED蒸镀设备维护
，特别涉及一种OLED蒸镀组件的清洗设备。

技术介绍

[0002]目前，在采用蒸镀方式制备OLED器件蒸镀成膜过程中，真空腔的腔体内的有机材料被加热，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属掩膜板的镂空区域沉积在玻璃基板上。如此一来，金属掩膜板和周围的防着板上面的有机材料累积的越来越厚，对腔体的气氛造成不利影响。并且，有机薄膜有脱落的风险，需要定期清洗。目前金属掩模板和防着板的清洗工艺通常需要拆下外包清洗，维护清洗周期较长，普遍采用湿式药液浸泡清洗，对清洗后的药液采取直接排放，容易污染环境，而且清洗效率低，价格昂贵。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是：提供一种OLED蒸镀组件的清洗设备，降低清洗成本，保护环境，提升清理的便利性。
[0004]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：
[0005]一种OLED蒸镀组件，包括防着板和掩膜板，所述防着板和所述掩膜板的表面均镀有一层包括纳米二氧化钛的薄膜。
[0006]进一步地，所述薄膜为纳米二氧化钛、纳米二氧化钛衍生物或包含有金属离子的纳米二氧化钛混合物。
[0007]进一步地，所述纳米二氧化钛的颗粒粒径小于或等于100纳米。
[0008]进一步地，位于所述防着板上的所述薄膜厚度大于或等于200纳米。
[0009]进一步地，位于所述掩膜板上的所述薄膜厚度大于或等于200纳米。
[0010]为了解决上述技术问题，本技术采用的另一技术方案为：
[0011]一种OLED蒸镀组件的清洗设备，应用于上述的一种OLED蒸镀组件，包括紫外光照射装置、供水装置和纯水超声清洗装置；
[0012]所述紫外光照射装置用于照射所述防着板和所述掩膜板上的薄膜，所述供水装置用于冲刷所述防着板和所述掩膜板上的薄膜，所述纯水超声清洗装置用于对所述防着板和所述掩膜板进行超声震荡。
[0013]综上所述，本技术的有益效果在于：一种OLED蒸镀组件的清洗设备，在防着板和掩膜板的表面均镀有一层以纳米二氧化钛为主要成分的薄膜，利用清洗设备中的紫外光照射装置照射薄膜，催化二氧化钛以分解防着板和掩膜板上的有机材料膜并被水膜将其隔开，再利用供水装置进行冲刷和纯水超声清洗装置进行超声震荡，对应清除防着板和掩膜板上的有机材料，完成清洗，无需特定调配的有机溶剂进行清洗，降低清洗难度和环境污染的风险，实现成本降低和保护环境，提高清洗的便利性。
附图说明
[0014]图1为本技术实施例的一种OLED蒸镀组件的清洗设备的防着板的结构示意图；
[0015]图2为本技术实施例的一种OLED蒸镀组件的清洗设备的掩膜板的结构示意图；
[0016]标号说明：1、防着板；2、掩膜板；3、薄膜；4、有机材料膜。
具体实施方式
[0017]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0018]请参照图1至图2，一种OLED蒸镀组件，包括防着板1和掩膜板2，所述防着板1和所述掩膜板2的表面均镀有一层包括纳米二氧化钛的薄膜3。
[0019]从上述描述可知，本技术的有益效果在于：一种OLED蒸镀组件，在防着板1和掩膜板2的表面均镀有一层以纳米二氧化钛为主要成分的薄膜3，利用二氧化钛本身具有的光催化特性，在光照下可分解防着板1和掩膜板2上的有机材料膜4并形成水膜将其隔开，再除去被隔开的有机材料，便完成清洗，无需特定调配的有机溶剂进行清洗，降低清洗难度和环境污染的风险，实现成本降低和保护环境，提高清洗的便利性。
[0020]进一步地，所述薄膜3为纳米二氧化钛、纳米二氧化钛衍生物或包含有金属离子的纳米二氧化钛混合物。
[0021]从上述描述可知，薄膜3的构成材料可以是纳米二氧化钛、纳米二氧化钛衍生物或包含有金属离子的纳米二氧化钛混合物。
[0022]进一步地，所述纳米二氧化钛的颗粒粒径小于或等于100纳米。
[0023]从上述描述可知，由于纳米二氧化钛在紫外光下产生的催化机理与其颗粒粒径有关，合理的控制粒径大小，能够保证纳米二氧化钛在紫外光作用下发挥有良好的催化效果。
[0024]进一步地，位于所述防着板1上的所述薄膜3厚度大于或等于200纳米。
[0025]从上述描述可知，结合所述纳米二氧化钛的颗粒大小因素考虑，为了保证催化效果，防着板1上对于薄膜3的厚度要求要大于或等于200纳米,以保证足够的薄膜厚度，使得薄膜在紫外光下能够充分发挥催化效果，有效地将有机材料分解并隔开，保证良好的清洗效果。
[0026]进一步地，位于所述掩膜板2上的所述薄膜3厚度大于或等于200纳米。
[0027]从上述描述可知，结合所述纳米二氧化钛的颗粒大小因素考虑，为了保证催化效果，掩膜板2上对于薄膜3的厚度要求要大于或等于200纳米，以保证足够的薄膜厚度，使得薄膜在紫外光下能够充分发挥催化效果，有效地将有机材料分解并隔开，保证良好的清洗效果。
[0028]请参照图1至图2，一种OLED蒸镀组件的清洗设备，应用于上述的一种 OLED蒸镀组件，包括紫外光照射装置、供水装置和纯水超声清洗装置；
[0029]所述紫外光照射装置用于照射所述防着板1和所述掩膜板2上的薄膜3，所述供水装置用于冲刷所述防着板1和所述掩膜板2上的薄膜3，所述纯水超声清洗装置用于对所述防着板1和所述掩膜板2进行超声震荡。
[0030]从上述描述可知，本技术的有益效果在于：一种OLED蒸镀组件的清洗设备，利用紫外光照射装置照射薄膜3，催化二氧化钛以分解防着板1和掩膜板2上的有机材料膜4并将其用水膜隔开，再利用供水装置进行冲刷和纯水超声清洗装置进行超声震荡，对应清除防着板1和掩膜板2上的有机材料，完成清洗，无需特定调配的有机溶剂进行清洗，降低清洗难度和环境污染的风险，实现成本降低和保护环境，提高清洗的便利性。
[0031]请参照图1和图2，本技术的实施例一为：
[0032]一种OLED蒸镀组件，如图1和图2所示，包括防着板1和掩膜板2，防着板1和掩膜板2的表面均镀有一层包括纳米二氧化钛的薄膜3。在本实施例中， OLED蒸镀组件上镀上了一层薄膜3。薄膜3主要由纳米二氧化钛、纳米二氧化钛衍生物或包含有金属离子的纳米二氧化钛混合物构成，主要利用了纳米二氧化钛的光催化特性。在紫外光的照射下，纳米二氧化钛可将表面有机物矿化分解。并且，二氧化钛受光催化由疏水变得超亲水。水分子在有机材料膜4和纳米二氧化钛薄膜3之间形成一道水膜可将有机材料抬起。源源不断的纯水将矿化分解了的有机材料从纳米二氧化钛表面冲走或者利用，从而将防着板1或掩膜板2表面清洗干净。
[0033]在本实施例中，纳米二氧化钛的颗粒粒径小于或等于100纳米。而且，位于防着板1和掩膜板2的薄膜3厚度均大于或等于200纳米。
[0034]请参本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OLED蒸镀组件的清洗设备，所述OLED蒸镀组件包括防着板和掩膜板，其特征在于，包括紫外光照射装置、供水装置和纯水超声清洗装置；所述紫外光照射装置用于照射所述防着板和所述掩膜板上均镀有的一层为纳米二氧化钛的薄膜，所述供水装置用于冲刷所述防着板和...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄丹丹，孙玉俊，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：