投影物镜系统技术方案

本申请涉及集成电路制造技术领域，尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，第一透镜组至第五透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正；五个透镜组满足：f2/L＞

【技术实现步骤摘要】
投影物镜系统


[0001]本申请涉及集成电路制造
，尤其是涉及一种投影物镜系统。

技术介绍

[0002]在芯片的制造过程中，芯片的线条宽度往往依托于投影物镜系统的成像质量，更完美的线条往往需要更加完美的投影物镜。由于提供I线照明的高压汞灯具有较低的生产制造成本，使得I线投影物镜具有广阔的视场前景；但目前视场上的I线投影物镜，透镜数量多，非球面个数多，导致加工难度大；同时由于现有透镜的三阶像差和灵敏度较高，往往需要更加严格的加工和装配公差，才能保证良好的成像质量；因此，急需一种具有较少透镜数量和非球面个数的，较低的非球面加工难度的，以及较低的像差灵敏度且具有良好的成像质量的I线投影物镜。
[0003]在该
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于增强本公开的背景的理解，因此上述信息可包含既没有形成现有技术的任何部分且也没有形成可能教示给本领域普通技术人员的现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]提供本
技术实现思路
以通过简化形式介绍将在下面的具体实施方式中进一步描述的选择的构思。本
技术实现思路
既不意在确定所要求保护主题的关键特征或必要特征，也不意在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。
[0005]为了解决市场上流通的I线投影物镜的成像质量较差的问题，本方明提供了一种投影物镜系统，其能够在具有较少透镜和较少非球面的情况下实现较好的成像效果。
[0006]本专利技术提供了一种投影物镜系统，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置：
[0007]第一透镜组，所述第一透镜组具有正光焦度；
[0008]第二透镜组，所述第二透镜组具有负光焦度，所述第二透镜组满足：f2/L＞
‑
0.1；
[0009]第三透镜组，所述第三透镜组具有正光焦度；
[0010]第四透镜组，所述第四透镜组具有负光焦度，所述第四透镜组满足：f4/L＞
‑
0.3；
[0011]第五透镜组，所述第五透镜组具有正光焦度。
[0012]其中，f2为第二透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
[0013]进一步地，所述第一透镜组满足：f1/L＜0.4；所述第三透镜组满足：f3/L＜0.6；所述第五透镜组满足：f5/L＜2；
[0014]其中，f1为第一透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。
[0015]进一步地，所述第一透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
[0016]进一步地，所述第一透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设
置的第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透明和第六透镜；所述第四透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第二透镜和所述第三透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第五透镜和所述第六透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
[0017]进一步地，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜均具有正光焦度。
[0018]进一步地，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。
[0019]进一步地，所述第二透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第七透镜和第八透镜；所述第七透镜和所述第八透镜均为物方表面和像方表面沿着光轴是凹入的双凹透镜。
[0020]进一步地，所述第三透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。
[0021]进一步地，所述第三透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第九透镜、第十透镜、第十一透镜和第十二透镜；所述第十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第九透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第十一透镜和所述第十二透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
[0022]进一步地，所述第九透镜至所述第十二透镜的光焦度依次呈现负、正、正、负。
[0023]进一步地，所述第四透镜组包括至少一个双凹透镜。
[0024]进一步地，所述第四透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十三透镜和第十四透镜；所述第十三透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凹入的双凹透镜；所述第十四透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜。
[0025]进一步地，所述第五透镜组包括至少一片双凸透镜和至少一片具有负光焦度的弯月透镜。
[0026]进一步地，所述第五透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜......第二十四透镜；所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第二十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第十七透镜、所述第十八透镜、所述第十九透镜、所述第二十一透镜至所述第二十四透镜均为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜；所述第十七透镜和所述第十八透镜紧密设置，所述第十九透镜和所述第二十透镜紧密设置。
[0027]进一步地，所述第十八透镜具有负光焦度，所述第二十一透镜、所述第二十二透镜和所述第二十三透镜具有正光焦度。
[0028]进一步地，所述投影物镜系统还包括光阑，所述光阑设置于所述第十六透镜和所述第十七透镜之间。
[0029]进一步地，所述投影物镜系统还包括第一透镜和第二十五透镜；所述第一透镜设置于所述第一透镜组的物方侧，所述第二十五透镜设置于所述第五透镜组的像方侧；所述第一透镜和所述第二十五透镜为平板透镜。
[0030]进一步地，所述第一透镜组至所述第五透镜组中的第二透镜的物方表面、第八透镜的物方表面、第十三透镜的像方表面及第十八透镜的像方表面为非球面，且最高非球面度矢高差小于0.1mm。
[0031]进一步地，所述投影物镜系统在波长为365nm、谱线宽度为5nm的I线照明下的像方数值孔径为0.62；所述投影物镜系统的物像距L为1000mm；所述投影物镜系统的曝光视场为22*22mm；所述投影物镜系统在氮气环境中的放大倍率为1/5；所述投影物镜系统在大气环境中的放大倍率为1/5或1/4。
[0032]为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0034]图1为本申请的投影物镜系统的结构示意图；
[0035]图2呈现了本申请的投影物镜系统的衍射MTF成像效果图；
[0036]图3呈现了本申请的投影物镜系统的像差曲线图；
[0037]图4呈现了本申请的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影物镜系统，其特征在于，包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置：第一透镜组，所述第一透镜组具有正光焦度；第二透镜组，所述第二透镜组具有负光焦度，所述第二透镜组满足：f2/L＞
‑
0.1；第三透镜组，所述第三透镜组具有正光焦度；第四透镜组，所述第四透镜组具有负光焦度，所述第四透镜组满足：f4/L＞
‑
0.3；第五透镜组，所述第五透镜组具有正光焦度；其中，f2为第二透镜组的焦距，f4为第四透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。2.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组满足：f1/L＜0.4；所述第三透镜组满足：f3/L＜0.6；所述第五透镜组满足：f5/L＜2；其中，f1为第一透镜组的焦距，f3为第三透镜组的焦距，f5为第五透镜组的焦距，L为投影物镜系统的物像距。3.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。4.根据权利要求3所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第一透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透明和第六透镜；所述第四透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第二透镜和所述第三透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第五透镜和所述第六透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。5.根据权利要求4所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜、所述第四透镜和所述第五透镜均具有正光焦度。6.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括至少一片双凹透镜。7.根据权利要求6所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第二透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第七透镜和第八透镜；所述第七透镜和所述第八透镜均为物方表面和像方表面沿着光轴是凹入的双凹透镜。8.根据权利要求1所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括至少一个双凸透镜和至少两个弯月透镜。9.根据权利要求8所述的投影物镜系统，其特征在于，所述第三透镜组包括沿所述投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第九透镜、第十透镜、第十一透镜和第十二透镜；所述第十透镜为物方表面和像方表面沿着光轴均是凸出的双凸透镜；所述第九透镜为物方表面沿着光轴是凹入的且像方表面沿着光轴是凸出的弯月透镜；所述第十一透镜和所述第十二透镜为物方表面沿着光轴是凸出的且像方表面沿着光轴是凹入的弯月透镜。
...

【专利技术属性】
技术研发人员：申淙，谭胜旺，孙明睿，高爱梅，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：