本实用新型专利技术公开了一种去胶剥离机的剥离腔,包括外壳体和固定于去胶剥离机的外壳体内的清洗腔,清洗腔包括外固定圈、内固定圈和活动罩壳,外固定圈和内固定圈固定于外腔体的底部,晶圆卡座处于内固定圈内,活动罩壳升降安装于外腔体上且处于外固定圈和内固定圈之间,活动罩壳的上端设置有喷淋窗口,当活动罩壳处于下止点时,晶圆卡座从喷淋窗口露出,反之在上止点时,晶圆卡座处于活动罩壳内部,外腔体的底部位于内固定圈内部、内固定圈和外固定圈之间、外固定圈外部分别设置有内排液口、中间排液口和外排液口,该剥离腔能够方便晶圆安装在旋转的晶圆卡座上,并且有效阻挡剥离液溅射至剥离腔的各个地方,防止对内部其他的部位腐蚀。蚀。蚀。
【技术实现步骤摘要】
一种去胶剥离机的剥离腔
[0001]本技术涉及一种剥离腔,尤其涉及一种去胶剥离机的剥离腔。
技术介绍
[0002]在半导体
中,需要在晶圆的表面生成金属层,目前的通常做法是先在晶圆上生成一层光刻胶,然后进行刻蚀形成线条槽,然后通过金属离子蒸发公司在光刻胶表面和晶圆线条槽内形成金属层,最终通过去胶和剥离工艺将无用的光刻胶和金属层去除,而保留线条槽内的金属。而目前的剥离装置的结构是通过将晶圆安装在旋转的晶圆卡座上,晶圆卡座处于清洗腔内,然后通过偏摆的喷头对晶圆表面进行喷淋剥离液,然目前的这种结构存在的缺陷是在喷淋过程中,剥离液会溅射到剥离腔的各个地方,导致对内部其他的部位腐蚀。
技术实现思路
[0003]本技术所要解决的技术问题是:提供一种去胶剥离机的剥离腔,该剥离腔能够方便晶圆安装在旋转的晶圆卡座上,并且有效阻挡剥离液溅射至剥离腔的各个地方,防止对内部其他的部位腐蚀。
[0004]为解决上述技术问题,本技术的技术方案是:一种去胶剥离机的剥离腔,包括外壳体和固定于去胶剥离机的外壳体内的清洗腔,所述清洗腔包括外固定圈、内固定圈和活动罩壳,所述外固定圈和内固定圈固定于外腔体的底部,所述去胶剥离机的晶圆卡座处于内固定圈内,所述活动罩壳升降安装于外腔体上且处于外固定圈和内固定圈之间,所述活动罩壳的上端设置有与晶圆卡座位置对应的喷淋窗口,所述活动罩壳由升降动力装置驱动升降,当活动罩壳处于下止点时,晶圆卡座从喷淋窗口露出,当活动罩壳处于上止点时,所述晶圆卡座处于活动罩壳内部,所述外腔体的底部位于内固定圈内部、内固定圈和外固定圈之间、外固定圈外部分别设置有内排液口、中间排液口和外排液口。
[0005]作为一种优选方案,所述所述活动罩壳包括罩壳本体,所述喷淋窗口设置于罩壳本体的上端中部,所述罩壳本体的通过升降结构安装于所述外腔体上,所述罩壳本体的下端设置有环形嵌槽,所述内固定圈处于所述环形嵌槽内。
[0006]作为一种优选方案,所述升降结构包括若干根升降连杆,所述升降连杆上端伸入环形嵌槽内且与罩壳本体相互固定,所述升降连杆的下端滑动贯穿内固定圈和外腔体的底部,所述升降连杆的下端与所述升降动力装置连接。
[0007]作为一种优选方案,所述升降连杆与罩壳本体相互固定的方式为:所述升降连杆通过螺栓固定在一个连接环上,所述连接环放置于环形嵌槽内且通过螺栓或者胶水与环形嵌槽的槽底固定。
[0008]作为一种优选方案,所述中间排液口和内排液口的数量均为多个且成圆周布置,所述外腔体的底部上分别设置有与中间排液口和内排液口位置对应的中间环槽和内环槽。
[0009]作为一种优选方案,所述升降动力装置为升降气缸或电缸,所述升降气缸或电缸
通过固定支架安装于外腔体的底部,所述升降气缸或电缸的动力端通过连接板与升降连杆相连接。
[0010]作为一种优选方案,所述外固定圈上设置有若干个与中间排液口一一对应的避让缺口,所述中间排液口部分从避让缺口露出。
[0011]采用了上述技术方案后,本技术的效果是:由于去胶剥离机的剥离腔,包括外壳体和固定于去胶剥离机的外壳体内的清洗腔,所述清洗腔包括外固定圈、内固定圈和活动罩壳,所述外固定圈和内固定圈固定于外腔体的底部,所述去胶剥离机的晶圆卡座处于内固定圈内,所述活动罩壳升降安装于外腔体上且处于外固定圈和内固定圈之间,所述活动罩壳的上端设置有与晶圆卡座位置对应的喷淋窗口,所述活动罩壳由升降动力装置驱动升降,当活动罩壳处于下止点时,晶圆卡座从喷淋窗口露出,当活动罩壳处于上止点时,所述晶圆卡座处于活动罩壳内部,所述外腔体的底部位于内固定圈内部、内固定圈和外固定圈之间、外固定圈外部分别设置有内排液口、中间排液口和外排液口,通过使活动罩壳升降,使得晶圆卡座从喷淋窗口露出方便了晶圆上料,然后晶圆卡座处于活动罩壳内部,使得喷洒剥离液不会溅射,并且设有内排液口、中间排液口和外排液口能够有效排除剥离液,该剥离腔能够方便晶圆安装在旋转的晶圆卡座上,并且有效阻挡剥离液溅射至剥离腔的各个地方,防止对内部其他的部位腐蚀。
[0012]又由于所述所述活动罩壳包括罩壳本体,所述喷淋窗口设置于罩壳本体的上端中部,所述罩壳本体的通过升降结构安装于所述外腔体上,所述罩壳本体的下端设置有环形嵌槽,所述内固定圈处于所述环形嵌槽内,进一步阻隔剥离液的喷溅,并且设置环形嵌槽能够与内固定圈进行配合。
[0013]又由于所述升降结构包括若干根升降连杆,所述升降连杆上端伸入环形嵌槽内且与罩壳本体相互固定,所述升降连杆的下端滑动贯穿内固定圈和外腔体的底部,所述升降连杆的下端与所述升降动力装置连接,通过设置若干升降连杆能够使罩壳升降平稳,减少冲击。
[0014]又由于所述升降连杆与罩壳本体相互固定的方式为:所述升降连杆通过螺栓固定在一个连接环上,所述连接环放置于环形嵌槽内且通过螺栓或者胶水与环形嵌槽的槽底固定,因此能够使升降连杆与罩壳本体之间连接稳固,使得升降时升降连杆不会发生移动。
[0015]又由于所述中间排液口和内排液口的数量均为多个且成圆周布置,所述外腔体的底部上分别设置有与中间排液口和内排液口位置对应的中间环槽和内环槽,因此能让喷洒的剥离液汇入中间环槽和内环槽内,再由环槽内的中间排液口和内排液口将剥离液排除,有利于机器的排液,有效减少腐蚀。
[0016]又由于所述外固定圈上设置有若干个与中间排液口一一对应的避让缺口,所述中间排液口部分从避让缺口露出,使外腔体底部的剥离液也能从中间排液口排除,提高中间排液口的利用率。
附图说明
[0017]下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。
[0018]图1是本技术实施例的立体图;
[0019]图2是本技术实施例的俯视图;
[0020]图3是图2的A
‑
A处的剖视图;
[0021]图4是图3剖视图的立体图;
[0022]图5是本技术实施例去除罩壳的立体图;
[0023]图中:1、外壳体;2、清洗腔;21、外固定圈;22、内固定圈;23、罩壳;3、外腔体;4、晶圆卡座;41、喷淋窗口;5、上料口;6、环形嵌槽;7、连接环;8、支架;9、升降气缸或电缸;10、连接板;11、升降连杆;12、内排液口;13、中间排液口;14、外排液口;15、中间环槽;16、内环槽;17、喷头。
具体实施方式
[0024]下面通过具体实施例对本技术作进一步的详细描述。
[0025]如图1所示,一种去胶剥离机的剥离腔,包括外壳体1和固定于去胶剥离机的外壳体1内的清洗腔2,所述清洗腔2包括外固定圈21、内固定圈22和活动罩壳23,所述外固定圈21和内固定圈22固定于外腔体3的底部,所述去胶剥离机的晶圆卡座4处于内固定圈22内,所述活动罩壳23升降安装于外腔体3上且处于外固定圈21和内固定圈22 之间,所述活动罩壳23的上端设置有与晶圆卡座4位置对应的喷淋窗口41,所述活动罩壳23由升降动力装置驱动升降,当活动罩壳23本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种去胶剥离机的剥离腔,包括外壳体和固定于去胶剥离机的外壳体内的清洗腔,其特征在于:所述清洗腔包括外固定圈、内固定圈和活动罩壳,所述外固定圈和内固定圈固定于外腔体的底部,所述去胶剥离机的晶圆卡座处于内固定圈内,所述活动罩壳升降安装于外腔体上且处于外固定圈和内固定圈之间,所述活动罩壳的上端设置有与晶圆卡座位置对应的喷淋窗口,所述活动罩壳由升降动力装置驱动升降,当活动罩壳处于下止点时,晶圆卡座从喷淋窗口露出,当活动罩壳处于上止点时,所述晶圆卡座处于活动罩壳内部,所述外腔体的底部位于内固定圈内部、内固定圈和外固定圈之间、外固定圈外部分别设置有内排液口、中间排液口和外排液口。2.如权利要求1所述的一种去胶剥离机的剥离腔,其特征在于:所述活动罩壳包括罩壳本体,所述喷淋窗口设置于罩壳本体的上端中部,所述罩壳本体的通过升降结构安装于所述外腔体上,所述罩壳本体的下端设置有环形嵌槽,所述内固定圈处于所述环形嵌槽内。3.如权利要求2所述的一种去胶剥离机的剥离腔,其特征在于:所述升降结构包括若干根升降连...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘毅,蒋磊,
申请(专利权)人:江苏晋誉达半导体股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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