喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置制造方法及图纸

技术编号:33555173 阅读:45 留言:0更新日期:2022-05-26 22:51
本发明专利技术公开了一种喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置,喷墨打印方法包括:在正式打印之前,先通过控制喷头中的喷嘴以一预设打印墨水体积向预打印区域中的第一像素的开口区域进行喷墨打印以得到预打印图案,预打印区域中的第一像素与打印基板上的第二像素对应设置且大小相同;打印之后,根据采集到的预打印图案计算出第一像素的墨水体积,并根据第一像素的墨水体积对喷嘴的预设打印墨水体积进行微调,控制喷嘴以目标打印墨水体积对打印基板上的第二像素的开口区域进行喷墨打印,从而能够消除打印过程中串扰的影响,有利于提升像素间喷墨打印墨水体积均一性。间喷墨打印墨水体积均一性。间喷墨打印墨水体积均一性。

【技术实现步骤摘要】
喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置


[0001]本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置。

技术介绍

[0002]目前的喷墨打印设备中,在打印喷头中有压电陶瓷材料,对压电陶瓷材料施加电压时,压电陶瓷材料会变形,喷嘴所在的微腔会产生压强变化,将墨水从中挤出。但是基于流体的流动性特性,当前作用喷嘴会对相邻喷嘴产生串扰(crosstalk)影响,导致相邻喷嘴墨水吐出量跟独自吐出的量有差异,且在实际打印过程中,不同喷嘴的调用时序会产生不同的串扰影响结果,导致像素间墨水体积存在差异,容易出现体积不均(Mura)。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置,以解决现有的喷墨打印方法容易导致像素间墨水体积存在差异、容易出现体积不均Mura的技术问题。
[0004]为解决上述问题,本专利技术提供的技术方案如下:
[0005]本专利技术提供一种喷墨打印方法,包括:
[0006]提供喷墨打印装置和打印基板,所述打印基板包括打印区域,在所述打印区域的一侧设置有预打印区域,所述预打印区域的打印次序先于所述打印区域的打印次序处于打印起始端,所述预打印区域包括多个第一像素,所述打印基板区域包括多个第二像素,所述第一像素与所述第二像素对应设置且大小相同;
[0007]控制所述喷墨打印装置的喷头中的喷嘴以一预设打印墨水体积向所述第一像素的开口区域进行喷墨打印以得到预打印图案;
[0008]采集所述预打印图案,根据所述预打印图案获得所述第一像素的墨水体积;
[0009]根据所述第一像素的墨水体积,对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调以得到目标打印墨水体积;以及
[0010]控制所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的第二像素的开口区域进行喷墨打印以得到目标图案。
[0011]根据本专利技术提供的喷墨打印方法,采集所述预打印图案,根据所述预打印图案计算出所述第一像素的墨水体积包括:
[0012]采集所述预打印图案,以得到所述预打印图案的灰阶数据;以及
[0013]根据所述预打印图案的灰阶数据和预存的灰阶数据与墨水体积的关系,计算出所述第一像素的墨水体积。
[0014]根据本专利技术提供的喷墨打印方法,所述控制所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的第二像素进行喷墨打印,以得到目标图案之前,所述喷墨打印方法还包括:
[0015]计算所述目标打印墨水体积与所述预设打印墨水体积的差值;以及
[0016]判断所述差值与所述目标打印墨水体积的比值是否小于或等于预设比例,如果否,则对所述预打印区域重新打印;否则,采用所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的所述第二像素进行喷墨打印。
[0017]根据本专利技术提供的喷墨打印方法,所述预设比例小于或等于2%。
[0018]根据本专利技术提供的喷墨打印方法,在所述对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调以得到目标打印墨水体积中,通过调整施加的电压波形对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调。
[0019]根据本专利技术提供的喷墨打印方法,所述打印基板包括显示区和非显示区,所述预打印区域设置于所述打印基板上且位于所述非显示区;或者,所述预打印区域设置于专用调试基板上,所述专用调试基板与所述打印基板为不同基板。
[0020]本专利技术提供一种打印基板,包括显示区和非显示区,所述显示区包括打印区域,所述非显示区包括预打印区域,所述预打印区域设置于所述打印区域的一侧,所述预打印区域的打印次序先于所述打印区域的打印次序;所述预打印区域包括多个第一像素,所述打印区域包括多个第二像素,所述第一像素与所述第二像素对应设置且大小相同。
[0021]根据本专利技术提供的打印基板,所述打印基板包括衬底、驱动电路层和像素定义层,所述像素定义层包括多个像素开口;所述驱动电路层包括多个像素驱动电路,所述像素驱动电路设置于所述打印区域。
[0022]本专利技术提供一种喷墨打印装置,包括:
[0023]打印模块,用于控制喷头中的喷嘴在所述预打印区域上以一预设打印墨水体积向所述第一像素的开口区域进行喷墨打印以得到预打印图案;
[0024]图像采集模块,用于采集所述预打印图案;
[0025]体积获取模块,用于根据所述预打印图案获得所述第一像素的墨水体积;
[0026]校正模块,用于根据所述第一像素的墨水体积,对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调以得到目标打印墨水体积;
[0027]其中,所述打印模块还用于,根据所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的第二像素进行喷墨打印以得到目标图案。
[0028]根据本专利技术提供的喷墨打印装置,所述喷墨打印装置还包括:
[0029]差值获取模块,用于计算所述目标打印墨水体积与所述预设打印墨水体积的差值;
[0030]判断模块,判断所述差值与所述目标打印墨水体积的比值是否小于或等于预设比例,如果否,则对所述预打印区域重新打印,否则,采用所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的所述第二像素进行喷墨打印。
[0031]根据本专利技术提供的喷墨打印装置,所述喷墨打印装置还包括存储模块,用于存储所述预打印图案的灰阶数据和预存的灰阶数据与墨水体积的关系。
[0032]本专利技术的有益效果为:本专利技术提供的喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置,在正式打印之前,先通过控制喷头中的喷嘴以一预设打印墨水体积向预打印区域中的第一像素的开口区域进行喷墨打印以得到预打印图案,预打印区域中的第一像素与打印基板上的第二像素对应设置且大小相同;打印之后,根据采集到的预打印图案计算出第一像素的墨水体积,并根据第一像素的墨水体积对喷嘴的预设打印墨水体积进行微调,控制喷嘴以目
标打印墨水体积对打印基板上的第二像素的开口区域进行喷墨打印,从而能够消除打印过程中串扰的影响,有利于提升像素间喷墨打印墨水体积均一性。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0034]图1是本专利技术实施例提供的一种喷墨打印方法的流程示意图;
[0035]图2是本专利技术实施例提供的一种打印基板的平面结构示意图;
[0036]图3是本专利技术实施例提供的喷墨打印方法中的步骤S30的流程示意图;
[0037]图4是本专利技术实施例提供对喷嘴施加的电压波形图;
[0038]图5是本专利技术实施例提供的微调前和微调后的打印基板的结构对比示意图;
[0039]图6是本专利技术实施例提供的一种喷墨打印装置的功能模块图;
[0040]图7是本专利技术实施例提供的一种打印模块的结构示意图;
[0041]图8是本专利技术实施例提供的一种图像采集模块的结构示意图。本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷墨打印方法,其特征在于,包括:提供喷墨打印装置和打印基板,所述打印基板包括打印区域,在所述打印区域的一侧设置有预打印区域,所述预打印区域的打印次序先于所述打印区域的打印次序,所述预打印区域包括多个第一像素,所述打印区域包括多个第二像素,所述第一像素与所述第二像素对应设置且大小相同;控制所述喷墨打印装置的喷头中的喷嘴以一预设打印墨水体积向所述第一像素的开口区域进行喷墨打印以得到预打印图案;采集所述预打印图案,根据所述预打印图案获得所述第一像素的墨水体积;根据所述第一像素的墨水体积,对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调以得到目标打印墨水体积;以及控制所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的第二像素的开口区域进行喷墨打印以得到目标图案。2.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,采集所述预打印图案,根据所述预打印图案计算出所述第一像素的墨水体积包括:采集所述预打印图案,以得到所述预打印图案的灰阶数据;以及根据所述预打印图案的灰阶数据和预存的灰阶数据与墨水体积的关系,计算出所述第一像素的墨水体积。3.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述控制所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的第二像素进行喷墨打印,以得到目标图案之前,所述喷墨打印方法还包括:计算所述目标打印墨水体积与所述预设打印墨水体积的差值;以及判断所述差值与所述目标打印墨水体积的比值是否小于或等于预设比例,如果否,则对所述预打印区域重新打印;否则,采用所述喷嘴以所述目标打印墨水体积对所述打印基板上的所述第二像素进行喷墨打印。4.根据权利要求3所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述预设比例小于或等于2%。5.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,在所述对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调以得到目标打印墨水体积中,通过调整施加的电压波形对所述喷嘴的所述预设打印墨水体积进行微调。6.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:张文林
申请(专利权)人:TCL华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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