一种气液混合装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种气液混合装置，包括：缸体，用于进行气液混合反应；射流系统，用于将气体和液体以射流的形式混合并喷射入缸体，射流系统包括射流泵、射流器和射流管路，射流器安装在缸体中，射流泵通过射流管路与射流器连通；以及，循环系统，用于将射流系统输出的液体进行循环回流；循环系统包括喷头、循环泵和循环管路，喷头安装在缸体的靠近顶部的一端，缸体的靠近底部的一端形成有出口，出口经循环管路和喷头相连通，循环泵安装在循环管路中。将氯气直接回溶至蚀刻液中进行重复利用，不仅避免了环境的污染，节省了大量的处理氯气的化工品，还有效地降低了蚀刻液铜回收过程中的成本，提高了经济效益。提高了经济效益。提高了经济效益。

【技术实现步骤摘要】
一种气液混合装置


[0001]本技术属于电路板制造领域，更具体地说，是涉及一种气液混合装置。

技术介绍

[0002]线路板的生产中，蚀刻是一个普遍存在的过程，主要是指将线路板上不需要的金属铜除去。一般情况下，线路板的蚀刻是一个化学蚀刻过程，蚀刻完后的蚀刻液含有很高浓度的铜离子，如果不更换会严重影响蚀刻进度及质量。除了含有大量铜离子，还含有其他有价值的化学物质，如直接排放，一方面造成资源浪费，另一方面严重污染了环境。过去，对于这些废液的处理一般是交由有资质的危废处理商回收处理。
[0003]目前许多厂家使用电解法对蚀刻废液进行回收再生，在目前的PCB酸性蚀刻废液再生循环系统中，蚀刻后的蚀刻液(铜含量约在120
‑
140g/L，下称用后液)，经过比重控制器加入到电解系统中，阴极发生电积铜的反应：Cu2++2e
‑→
Cu，阳极发生析氯反应：2Cl
‑‑
2e
‑→
Cl2，随着电解的不断进行，电解液中的铜含量不断下降，此时，自动控制系统会及时补充用后液，相应的排出低铜的蚀刻液(铜含量约在30
‑
40g/L，称为再生液)，以维持整个电解缸中电解液铜含量的稳定。再生液在经过添加物料调配后，再经过蚀刻产线自动添加系统以比重进行添加氧化剂等，经过一系列处理之后可返回蚀刻机使用。
[0004]常规对氯气处理的方式主要是将氯气通入液碱中吸收形成次氯酸钠、或通入氯化亚铁中进行吸收。但在此过程中需要大量消耗用于处理氯气的化工品，成本巨大。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种气液混合装置，以解决现有技术中存在的将氯气回用到蚀刻液的工艺过程中耗材大、成本较高的技术问题。
[0006]为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：提供一种气液混合装置，包括：
[0007]缸体，用于进行气液混合反应；
[0008]射流系统，用于将气体和液体以射流的形式混合并喷射入所述缸体，所述射流系统包括射流泵、射流器和射流管路，所述射流器安装在所述缸体中，所述射流泵通过所述射流管路与所述射流器连通；以及，
[0009]循环系统，用于将所述射流系统输出的液体进行循环回流；所述循环系统包括喷头、循环泵和循环管路，所述喷头安装在所述缸体的靠近顶部的一端，所述缸体的靠近底部的一端形成有出口，所述出口经所述循环管路和所述喷头相连通，所述循环泵安装在所述循环管路中。
[0010]进一步地，所述缸体包括本体和第一隔板，所述本体内部形成有空腔，所述第一隔板将所述空腔分隔成互为左右两边的第一腔体和第二腔体；所述射流器安装在所述第一腔体中，所述喷头安装在第二腔体中；所述第一腔体和所述第二腔体在所述缸体的靠近底部的一侧连通，所述射流器的入口位于所述缸体的靠近顶部的一侧，所述射流器的出口位于所述缸体的靠近底部的一侧。
[0011]进一步地，所述缸体还包括第二隔板，所述第二隔板将所述第二腔体分割成互为上下两部分的第三腔体和第四腔体，所述第三腔体位于所述第四腔体的上方，所述第一腔体和所述第四腔体连通；所述喷头安装在所述第三腔体的顶部，所述第二隔板上形成有供所述第三腔体中的蚀刻液流下所述第四腔体的缺口。
[0012]进一步地，所述缸体还包括用于增加气液反应接触面积的填充物，所述填充物放置在所述第二隔板上且位于所述第三腔体中。
[0013]进一步地，所述填充物为胶球，所述胶球上形成有多个孔隙。
[0014]进一步地，所述喷头的数量为四个，四个所述喷头等间距安装在所述第三腔体的顶部。
[0015]进一步地，所述缸体还包括用于供所述第四腔体的蚀刻液流出的溢流口，所述溢流口与所述第四腔体连通。
[0016]进一步地，所述缸体上形成有泄压口，所述泄压口上安装有泄压阀。
[0017]进一步地，还包括进气管路，所述射流器包括进液口、进气口和射出口，所述进液口与所述射流管路连通，所述进气口与所述进气管路连通。
[0018]进一步地，还包括用于显示所述缸体内部液位的液位显示管路，所述液位显示管路安装在所述缸体上。
[0019]本技术提供的气液混合装置的有益效果在于：与现有技术相比，本技术气液混合装置通过射流系统将蚀刻液铜回收电解中产生的氯气和蚀刻液混合，形成高速流动的气液混合体射入缸体中进行互相反应，能够有提高氯气的溶解效率，同时通过循环系统进一步保证氯气的溶解充分进行，这样将氯气直接回溶至蚀刻液中进行重复利用，不仅避免了环境的污染，节省了大量的处理氯气的化工品，还有效地降低了蚀刻液铜回收过程中的成本，提高了经济效益。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术实施例提供的气液混合装置的整体示意图；
[0022]图2为本技术实施例提供的缸体内部结构主视图；
[0023]图3为本技术实施例提供的缸体内部结构侧视图。
[0024]其中，图中各附图标记：
[0025]1‑
缸体；11
‑
出口；12
‑
溢流口；13
‑
第一隔板；14
‑
第一腔体；15
‑
第二隔板；16
‑
第三腔体；17
‑
第四腔体；18
‑
填充物；2
‑
循环泵；3
‑
射流器；31
‑
进液口；32
‑
进气口；33
‑
射出口；4
‑
射流管路；5
‑
喷头；7
‑
循环管路；8
‑
液位显示管路；9
‑
泄压阀；10
‑
进气管路。
具体实施方式
[0026]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实
施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0027]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0028]需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气液混合装置，其特征在于，包括：缸体，用于进行气液混合反应；射流系统，用于将气体和液体以射流的形式混合并喷射入所述缸体，所述射流系统包括射流泵、射流器和射流管路，所述射流器安装在所述缸体中，所述射流泵通过所述射流管路与所述射流器连通；以及，循环系统，用于将所述射流系统输出的液体进行循环回流；所述循环系统包括喷头、循环泵和循环管路，所述喷头安装在所述缸体的靠近顶部的一端，所述缸体的靠近底部的一端形成有出口，所述出口经所述循环管路和所述喷头相连通，所述循环泵安装在所述循环管路中。2.如权利要求1所述的气液混合装置，其特征在于：所述缸体包括本体和第一隔板，所述本体内部形成有空腔，所述第一隔板将所述空腔分隔成互为左右两边的第一腔体和第二腔体；所述射流器安装在所述第一腔体中，所述喷头安装在第二腔体中；所述第一腔体和所述第二腔体在所述缸体的靠近底部的一侧连通，所述射流器的入口位于所述缸体的靠近顶部的一侧，所述射流器的出口位于所述缸体的靠近底部的一侧。3.如权利要求2所述的气液混合装置，其特征在于：所述缸体还包括第二隔板，所述第二隔板将所述第二腔体分割成互为上下两部分的第三腔体和第四腔体，所述第三腔体位于所述第四腔体的...

【专利技术属性】
技术研发人员：关家彬，郑健成，潘伟涌，张小鹏，
申请(专利权)人：广东德同环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：