蒸发源及真空蒸镀系统技术方案

本公开提供了一种蒸发源，包括：蒸发源基座，包括多个承载单元，用于承载一种或多种蒸发材料；加热装置，用于对多个承载单元中的工作承载单元中的蒸发材料进行加热；以及驱动装置，与蒸发源基座连接，用于驱动蒸发源基座运动以切换工作承载单元。动以切换工作承载单元。动以切换工作承载单元。

【技术实现步骤摘要】
蒸发源及真空蒸镀系统


[0001]本公开涉及真空蒸发镀膜技术，具体涉及一种蒸发源及真空蒸镀系统。

技术介绍

[0002]真空蒸镀法作为一种有效形成薄膜的方法，应用领域十分广泛。
[0003]但是传统的蒸发源只包括单个坩埚，这种蒸发源的坩埚一次只能填塞一种材料，设备利用率低下，如果需要镀多层膜或对镀膜厚度有一定要求时，则需要打破真空环境再次进行填料，然后重新抽真空才能继续进行镀膜，极大降低生产和实验效率。

技术实现思路

[0004]本公开提供了一种蒸发源，包括：蒸发源基座，包括多个承载单元，用于承载一种或多种蒸发材料；加热装置，用于对多个承载单元中的工作承载单元中的蒸发材料进行加热；以及驱动装置，与蒸发源基座连接，用于驱动蒸发源基座运动以切换工作承载单元。
[0005]本公开提供了一种真空蒸镀系统，包括：真空腔；样品台，设置在真空腔内，用于放置样品；以及根据本公开中任一项实施例的蒸发源，用于对样品进行蒸镀。
附图说明
[0006]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一种实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0007]图1示出根据本公开一些实施例的蒸发源的结构示意图；
[0008]图2示出根据本公开一些实施例的蒸发源的部分结构示意图；
[0009]图3示出根据本公开一些实施例的蒸发源的部分结构侧视图；
[0010]图4示出根据本公开一些实施例的蒸发源基座的结构示意图；
[0011]图5示出根据本公开一些实施例的驱动装置的结构示意图；
[0012]图6示出根据本公开一些实施例的是图3的A部分放大图；
[0013]图7示出根据本公开一些实施例的蒸发源的部分结构侧视截面图；
[0014]图8示出根据本公开一些实施例的蒸发源的蒸发速率相对于蒸发时间的曲线图；以及图9示出根据本公开一些实施例的真空镀膜系统的结构示意图。
[0015]在上述附图中，各附图标记分别表示：
[0016]100 蒸发源
[0017]10 蒸发源基座
[0018]11、11a、11b、11c、11d 承载单元
[0019]12 基座本体
[0020]20 加热装置或电子束发射器
[0021]21 发射丝
[0022]22 第一电极
[0023]23 第二电极
[0024]24 第一电馈通
[0025]25 第二电馈通
[0026]26 偏转磁体组件
[0027]27 导磁体组件
[0028]271a 第一导磁体
[0029]271b 第二导磁体
[0030]272 导磁体支架
[0031]28 电磁馈通
[0032]29 磁体水冷组件
[0033]291 磁体水冷进水管
[0034]292 磁体水冷出水管
[0035]30 驱动装置
[0036]31 驱动杆
[0037]32 驱动密封管
[0038]33 驱动轴承
[0039]34 驱动电机
[0040]341 外套筒
[0041]35 密封轴承
[0042]40 密封件
[0043]50 蒸发源基座槽
[0044]60 偏转磁体腔
[0045]70 发射槽
[0046]80 电极槽
[0047]90 上盖
[0048]91 通孔
[0049]110 水冷组件
[0050]111 进水管
[0051]112 水冷波纹管
[0052]113 出水管
[0053]114 循环腔
[0054]120 支架
[0055]1000 真空镀膜系统
[0056]200 真空腔
[0057]300 样品台
具体实施方式
[0058]下面将结合附图对本公开一些实施例进行描述。显然，所描述的实施例仅仅是本公开示例性实施例，而不是全部的实施例。
[0059]在本公开的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本公开的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”、“相连”、“耦合”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接；可以是两个元件内部的连通。在本公开的描述中，远端或远侧是指深入真空环境(例如，真空腔)的一端或一侧，近端或近侧是与远端或远侧相对的一端或一侧(例如，远离真空腔的一端或一侧，或者真空腔内靠近真空腔壁的一端或一侧等等)。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
[0060]图1示出根据本公开一些实施例的蒸发源100的结构示意图。图2示出根据本公开一些实施例的蒸发源100的部分结构示意图。为清楚示出蒸发源100的结构，图2中省略了上盖90。图3示出根据本公开一些实施例的蒸发源100的部分结构侧视图。为清楚示出蒸发源100的结构，图3中也省略了上盖90。
[0061]如图1、图2和图3所示，蒸发源可以包括蒸发源基座10、加热装置20以及驱动装置30。蒸发源基座10可以包括多个承载单元11(例如，如图3或图4所示的承载单元11a、11b、11c、11d)，承载单元11(例如，如图3或图4所示的承载单元11a、11b、11c、11d)能够用于承载一种或多种蒸发材料。在一些实施例中，承载单元11(例如，如图3或图4所示的承载单元11a、11b、11c、11d)可以承载坩埚，坩埚中放入蒸发材料。或者，承载单元11(例如，如图3或图4所示的承载单元11a、11b、11c、11d)可以直接承载蒸发材料。
[0062]本领域技术人员可以理解，本公开的实施例中的多个承载单元11(例如，如图3或图4所示的承载单元11a、11b、11c、11d)可以承载同一种蒸发材料，也可以承载不同的蒸发材料。类似地，虽然本公开的图3中示出了四个承载单元11，但这仅是一个示例性结构，承载单元11的数量可以小于四个也可以大于四个。
[0063]如图1、图2和图3所示，加热装置20能够用于对多个承载单元11中的工作承载单元11(例如，如图3或图4所示的能够进行工作的工作承载单元11d)中的蒸发材料进行加热。本领域技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：蒸发源基座，包括多个承载单元，用于承载一种或多种蒸发材料；加热装置，用于对所述多个承载单元中的工作承载单元中的蒸发材料进行加热；以及驱动装置，与所述蒸发源基座连接，用于驱动所述蒸发源基座运动以切换所述工作承载单元。2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源基座包括：基座本体，其中所述承载单元包括设置在所述基座本体上的凹陷或托架。3.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述多个承载单元线性排列且间隔设置。4.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述驱动装置包括：驱动杆，与所述蒸发源基座连接，用于驱动所述蒸发源基座运动以切换所述工作承载单元。5.根据权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述驱动杆包括：螺杆，与所述蒸发源基座通过螺纹连接，以通过转动驱动所述蒸发源基座沿所述螺杆运动。6.根据权利要求5所述的蒸发源，其特征在于，所述驱动装置还包括：密封轴承，用于真空密封；以及驱动电机，所述驱动电机的输出端通过所述密封轴承与所述螺杆连接，所述螺杆在所述驱动电机的驱动下转动。7.根据权利要求6所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源还包括密封件，用于真空密封，所述驱动装置还包括驱动密封管，其中，所述驱动密封管的远端与所述密封件密封连接，所述驱动密封管的近端与所述密封轴承密封连接，所述驱动杆穿设在所述驱动密封管内。8.根据权利要求7所述的蒸发源，其特征在于，所述驱动装置还包括：驱动轴承，所述螺杆与所述密封件通过所述驱动轴承转动连接。9.根据权利要求1
‑
8中任一项所述的蒸发源，其特征在于，所述加热装置包括电子束发射器、电阻加热器、感应加热器或离子束发射器中的至少一个。10.根据权利要求9所述的蒸发源，其特征在于，所述电子束发射器包括：发射丝，用于发射电子；第一电极，设置在所述发射丝一端，用于与第一负高压连接；第二电极，设置在所述发射丝另一端，用于与第二负高压连接。11.根据权利要求10所述的蒸发源，其特征在于，所述电子束发射器还包括：偏转磁体组件，用于偏转电子以使电子向所述工作承载单元发射。12.根据权利要求11所述的蒸发源，其特征在于，所述偏转磁体组件还包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿力甫，
申请(专利权)人：费勉仪器科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：