一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，其技术方案要点是：包括气相沉积炉，所述气相沉积炉的出料口的一侧安装有烘干箱，所述气相沉积炉的一侧安装有通风组件，所述通风组件的一端连接有加热箱，所述加热箱安装在所述烘干箱的下表面上，所述加热箱内安装有加热丝，所述烘干箱的内侧下表面上安装有第一出风管，所述烘干箱内壁上安装有第一温度传感器，通过加热箱内安装的加热丝有利于对通风组件产生的风进行加热，通过第一出风管从烘干箱的底部散发，通过第二出风管从烘干箱的上方散发，大大提高烘干效率，通过第一温度传感器有利于对烘干箱内部的温度进行监测，提高烘干的精度。高烘干的精度。高烘干的精度。

【技术实现步骤摘要】
一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统


[0001]本技术涉及镀膜
，特别涉及一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统。

技术介绍

[0002]PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积。
[0003]现有的多路独立供气式PECVD供气沉积系统在使用的时候对镀膜产品进行烘干效率低，且温度控制不精准，容易降低产品质量。

技术实现思路

[0004]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0005]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0006]一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，包括气相沉积炉，所述气相沉积炉的出料口的一侧安装有烘干箱，所述气相沉积炉的一侧安装有通风组件，所述通风组件的一端连接有加热箱，所述加热箱安装在所述烘干箱的下表面上，所述加热箱内安装有加热丝，所述烘干箱的内侧下表面上安装有第一出风管，所述烘干箱内壁上安装有第一温度传感器，所述烘干箱的内壁上表面上安装有第二出风管，所述第二出风管通过设有的输送管与所述加热箱相连通；
[0007]所述烘干箱的一侧安装有降温箱，所述降温箱上通过设有的第一铰接座铰接有风冷机，所述降温箱上安装有第二温度传感器。r/>[0008]通过采用上述技术方案，通过加热箱内安装的加热丝有利于对通风组件产生的风进行加热，通过第一出风管从烘干箱的底部散发，通过第二出风管从烘干箱的上方散发，大大提高烘干效率，通过第一温度传感器有利于对烘干箱内部的温度进行监测，提高烘干的精度，通过降温箱上安装的风冷机有利于对烘干处理的薄膜进行降温，方便收卷，通过第二温度传感器有利于对降温处理的薄膜进行温度监测，提高加工的质量。
[0009]较佳的，所述通风组件包括风机和连接管，所述风机通过所述连接管与所述加热箱相连通。
[0010]通过采用上述技术方案，风机产生的风通过连接管输送到加热箱内，方便对风进行加热。
[0011]较佳的，所述烘干箱与所述降温箱上均通过轴承转动安装有导向辊。
[0012]通过采用上述技术方案，通过导向辊有利于提高薄膜经过烘干箱与降温箱输送稳定性。
[0013]较佳的，所述第一出风管的上方固定安装有隔板，所述隔板上设置有多个等距分布的通风孔。
[0014]通过采用上述技术方案，通过隔板有利于防止薄膜掉落接触到第一出风管，通过通风孔方便热风的流通。
[0015]较佳的，所述烘干箱的内侧下表面上安装有两个对称的风扇。
[0016]通过采用上述技术方案，通过风扇有利于烘干箱内部温度的均衡。
[0017]较佳的，所述烘干箱与所述气相沉积炉之间安装有多个三角肋板。
[0018]通过采用上述技术方案，通过多个三角肋板有利于提高烘干箱与气相沉积炉之间结构强度。
[0019]较佳的，所述烘干箱与所述风冷机上均安装有第二铰接座，两个所述第二铰接座上铰接有电动推杆。
[0020]通过采用上述技术方案，通过第二铰接座上铰接的电动推杆方便调节风冷机的吹风角度。
[0021]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0022]第一、该多路独立供气式PECVD供气沉积系统中，通过加热箱内安装的加热丝有利于对通风组件产生的风进行加热，通过第一出风管从烘干箱的底部散发，通过第二出风管从烘干箱的上方散发，大大提高烘干效率，通过第一温度传感器有利于对烘干箱内部的温度进行监测，提高烘干的精度；
[0023]第二、该多路独立供气式PECVD供气沉积系统中，通过降温箱上安装的风冷机有利于对烘干处理的薄膜进行降温，方便收卷，通过第二温度传感器有利于对降温处理的薄膜进行温度监测，提高加工的质量。
附图说明
[0024]图1是本技术的结构示意图之一；
[0025]图2是本技术的结构示意图之二；
[0026]图3为图1中A处局部放大图。
[0027]附图标记：1、气相沉积炉；2、烘干箱；3、通风组件；31、风机；32、连接管；4、加热箱；5、加热丝；6、第一出风管；7、第二出风管；8、降温箱；9、第一铰接座；10、风冷机；11、第一温度传感器；12、第二温度传感器；13、导向辊；14、隔板；15、通风孔；16、风扇；17、三角肋板；18、第二铰接座；19、电动推杆。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]参考图1
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图3，一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，包括气相沉积炉1，气相沉积炉1的出料口的一侧安装有烘干箱2，气相沉积炉1的一侧安装有通风组件3，通风组件3的一端连接有加热箱4，加热箱4安装在烘干箱2的下表面上，加热箱4内安装有加热丝5，烘
干箱2的内侧下表面上安装有第一出风管6，烘干箱2内壁上安装有第一温度传感器11，烘干箱2的内壁上表面上安装有第二出风管7，第二出风管7通过设有的输送管与加热箱4相连通，气相沉积炉1为现有技术，采用型号为KJ
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PECVD
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DZ化学气相沉积炉，化学气相沉积炉是CVI工艺的专用设备，是在一定的真空或惰性气氛条件下，利用电阻发热的原理将炉内工件加热到一定温度后，通入碳源性气体，气体在高温下裂解后产生含碳物质，沉积于工件表面，达到组织增密的目的；
[0030]烘干箱2的一侧安装有降温箱8，降温箱8上通过设有的第一铰接座9铰接有风冷机10，降温箱8上安装有第二温度传感器12，第一温度传感器11与第二温度传感器12均为现有技术，采用型号为WZPM2
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201温度传感器，风冷机10为现有技术，采用型号为DL105风冷机。
[0031]参考图2，通风组件3包括风机31和连接管32，风机31通过连接管32与加热箱4相连通，风机31产生的风通过连接管32输送到加热箱4内，方便对风进行加热。
[0032]参考图1，烘干箱2与降温箱8上均通过轴承转动安装有导向辊13，通过导向辊13有利于提高薄膜经过烘干箱2与降温箱8输送稳定性。
[0033]参考图3，第一出风管6的上方固定安装有隔板14，隔板14上设置有多个等距分布的通风孔15，通过隔板14有利于防止薄膜掉落接触到第一出风管6，通过通风孔15方便热风的流通。
[0034]参考图3，烘干箱2的内侧下表面上安装有两个对称的风扇本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，包括气相沉积炉(1)，其特征在于：所述气相沉积炉(1)的出料口的一侧安装有烘干箱(2)，所述气相沉积炉(1)的一侧安装有通风组件(3)，所述通风组件(3)的一端连接有加热箱(4)，所述加热箱(4)安装在所述烘干箱(2)的下表面上，所述加热箱(4)内安装有加热丝(5)，所述烘干箱(2)的内侧下表面上安装有第一出风管(6)，所述烘干箱(2)内壁上安装有第一温度传感器(11)，所述烘干箱(2)的内壁上表面上安装有第二出风管(7)，所述第二出风管(7)通过设有的输送管与所述加热箱(4)相连通；所述烘干箱(2)的一侧安装有降温箱(8)，所述降温箱(8)上通过设有的第一铰接座(9)铰接有风冷机(10)，所述降温箱(8)上安装有第二温度传感器(12)。2.根据权利要求1所述的一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，其特征在于：所述通风组件(3)包括风机(31)和连接管(32)，所述风机(31)通过所述连接管(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：