单晶圆湿处理设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种单晶圆湿处理设备，包含一操作壳体、一驱动机构以及一升降机构。操作壳体包含一集液腔室以及与集液腔室分别连通的一回收导管及一第一废水排放管，其中回收导管还包含彼此不连通的一第一回收内管及一第二废水排放管。驱动机构包含承载所述晶圆的一转盘以及一驱动组件，转盘设置在集液腔室内。升降机构包含相对操作壳体移动的一回收环以及跟随回收环移动的一第二回收内管，回收环沿着操作壳体内壁移动，第二回收内管套设并相对第一回收内管移动，使废水不会从回收导管渗入到第一回收内管中，进而污染药液储存槽。进而污染药液储存槽。进而污染药液储存槽。

【技术实现步骤摘要】
单晶圆湿处理设备


[0001]本技术涉及一种半导体晶圆处理装置；详细而言，涉及一种单晶圆湿处理设备。

技术介绍

[0002]单晶圆旋转清洗设备(Single Wafer Spin Cleaner)的典型制程，一般会先对晶圆喷洒各种化学药液进行清洗或蚀刻制程，后续各种化学药液制程之间会使用去离子水(DI Water)来去除先前制程所残留于所述晶圆的化学药液，或者是在完成清洗或蚀刻后也会使用去离子水(DI Water)来去除先前制程所残留于所述晶圆之化学药液，最终将所述晶圆快速旋转干燥与吹氮气于所述晶圆表面，进而确保所述晶圆完全干燥。
[0003]当单晶圆旋转清洗或蚀刻设备使用去离子水(DI Water)清洗晶圆时，产生的废水会由药液回收环下方的腔体底盘收集，并由主废水排放管排出。然而，有些废水可能因喷洒强劲、溅射或是水气挥发等因素，从而渗入到药液回收导管内部，以致造成药液回收遭受废水污染，而无法重复利用/使用回收药液，增加制程成本。

技术实现思路

[0004]本技术之一目的在于提供一种单晶圆湿处理设备，能够避免废水从回收导管渗入到第一回收内管中，进而污染到用于回收药液的药液储存槽。
[0005]为达上述目的，本技术揭示一种单晶圆湿处理设备，透过一液体供应装置喷洒液体于一晶圆。单晶圆湿处理设备包含一操作壳体、一驱动机构以及一升降机构。操作壳体包含一集液腔室以及与集液腔室分别连通的一回收导管及一第一废水排放管，其中回收导管还包含彼此不连通的一第一回收内管及一第二废水排放管。驱动机构包含承载所述晶圆的一转盘以及驱动转盘转动的一驱动组件，转盘设置在集液腔室内。升降机构包含相对操作壳体移动的一回收环以及跟随回收环移动的一第二回收内管，回收环沿着操作壳体内壁移动，第二回收内管相对第一回收内管移动。
[0006]在一实施例中，该第二回收内管还包含一第一管部以及套设于该第一管部外的一第二管部，该第一管部的一端插设于该第一回收内管内，该第二管部的一端则套设于该第一回收内管外，该第一管部及该第二管部会相对该第一回收内管移动。
[0007]在一实施例中，该第一管部的直径小于该第一回收内管的直径，该第一回收内管的直径小于该第二管部的直径。
[0008]在一实施例中，当该升降机构带动该回收环移动至一第一位置时，该操作壳体暴露该转盘并使该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭，当该升降机构带动该回收环移动至一第二位置时，该回收环的开口平行于该转盘上方的所述晶圆并使该第二回收内管与该第一回收内管部分重迭，当该升降机构带动该回收环移动至一第三位置时，该回收环的开口高于该转盘上方的所述晶圆，并使该第二回收内管与该第一回收内管部分重迭。
[0009]在一实施例中，在该第二位置的该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭的比
例，大于在该第三位置的该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭的比例。
[0010]在一实施例中，该回收环还包含一本体、一第一导引部、一第二导引部及位于该第一导引部与该第二导引部之间的一导引槽，该第一导引部环形地设置于该本体的一开口端缘，该第二导引部环形地设置在远离该开口的该本体内壁上。
[0011]在一实施例中，该回收环还包含连通该第二回收内管的一连接信道，该连接信道开设在该第二导引部的一侧表面与该导引槽连通。
[0012]在一实施例中，该第一导引部与该第二导引部分别为一弧形表面、一倾斜表面或其组合，且该第一导引部的长度小于该第二导引部的长度。
[0013]在一实施例中，该操作壳体还包含一缺槽，该集液腔室通过该缺槽与该第二废水排放管连通，且该回收环透过该缺槽相对该操作壳体的内壁移动。
[0014]在一实施例中，该升降机构还包含至少一活塞缸及与该活塞缸连接的一连杆，该连杆固定的连接该回收环，该驱动机构的该驱动组件还包含一旋转轴、一致动器及一皮带，该制动器通过该皮带连接该旋转轴并传递动力至该旋转轴，使该旋转轴转动的支撑该转盘。
[0015]本技术还提供一种单晶圆湿处理设备，透过一液体供应装置喷洒液体于一晶圆。单晶圆湿处理设备包含一操作壳体以及一升降机构。操作壳体包含一集液腔室以及与该集液腔室分别连通的一回收导管及一第一废水排放管，其中该回收导管还包含彼此不连通的一第一回收内管及一第二废水排放管。升降机构包含设置在该集液腔室内的一回收环以及跟随该回收环移动的一第二回收内管，该回收环沿着该操作壳体内壁移动，其中该第一回收内管的一端连接该第二回收内管的一端，使该第一回收内管相对该第二回收内管伸缩移动。
[0016]在一实施例中，还包含一伸缩软管，该伸缩软管分别连接该第一回收内管与该第二回收内管，使该第一回收内管与该第二回收内管之间伸缩移动。
[0017]本技术提供一种具有内外两层结构并可与回收环同步升降的第二回收内管(上回收导管)，其中第二回收内管的第二管部(外管)在回收环升降的过程中始终保持的套设第一回收内管，使废水不会因为喷洒强劲、溅射或是水气挥发、液滴等因素而渗入到第一回收内管(下回收导管)中，从而有效避免回收药液的第一回收内管被废水污染，达到重复使用/利用储存于药液储存槽的所述药液及降低成本的功效。再者，在回收导管中，由于第二管部包覆/套设第一回收内管，使第二管部的外壁与第一回收内管的外壁可以引导废水流到第二废水排放管排出，即废水会经由回收导管内壁的通道流到第二废水排放管而排出，也不会因为废水喷溅、液滴或挥发而渗入第一回收内管中。
附图说明
[0018]为让本本技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例并配合所附图式，作详细说明如下：
[0019]图1为本技术单晶圆湿处理设备的第一实施例示意图；
[0020]图2为本技术单晶圆湿处理设备的第二实施例示意图；
[0021]图3为本技术单晶圆湿处理设备的第三实施例示意图；
[0022]图4为图2回收环位于第二位置的立体部分剖视示意图；
[0023]图5为本技术单晶圆湿处理设备的部分放大图；
[0024]图6为本技术单晶圆湿处理设备的外观立体示意图；
[0025]图7A至图7C为本技术单晶圆湿处理设备的回收环位于第一至第三位置的示意图；
[0026]图8A至图8C为图7A至图7C的回收导管位于第一至第三位置的示意图；
[0027]图9A至图9C分别为图8A至图8C的部分剖面示意图；以及
[0028]图10为本技术回收导管的另一实施例图。
具体实施方式
[0029]在下文中，将参考附图详细地描述用于实现本创作的技术思想的具体示例。
[0030]本技术涉及一种单晶圆湿处理设备，其可用以容置具有特定尺寸、特定厚度、及特定翘曲度之复数晶圆。
[0031]如图1至图3所示，分别为本技术单晶圆湿处理设备的第一至第三实施例示意图。本技术提供一种单晶圆湿处理设备100，透过一液体供应装置1，例如喷嘴/喷头，喷洒一晶圆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶圆湿处理设备，其特征在于，透过一液体供应装置喷洒一晶圆，该单晶圆湿处理设备包括：一操作壳体，包含一集液腔室以及与该集液腔室分别连通的一回收导管及一第一废水排放管，其中该回收导管还包含彼此不连通的一第一回收内管及一第二废水排放管；一驱动机构，包含承载所述晶圆的一转盘以及驱动该转盘转动的一驱动组件，该转盘设置在该集液腔室内；以及一升降机构，包含相对该操作壳体移动的一回收环以及跟随该回收环移动的一第二回收内管，该回收环沿着该操作壳体内壁移动，该第二回收内管相对该第一回收内管移动。2.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备，其特征在于，该第二回收内管还包含一第一管部以及套设于该第一管部外的一第二管部，该第一管部的一端插设于该第一回收内管内，该第二管部的一端则套设于该第一回收内管外，该第一管部及该第二管部会相对该第一回收内管移动。3.如权利要求2所述的单晶圆湿处理设备，其特征在于，该第一管部的直径小于该第一回收内管的直径，该第一回收内管的直径小于该第二管部的直径。4.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备，其特征在于，当该升降机构带动该回收环移动至一第一位置时，该操作壳体暴露该转盘并使该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭，当该升降机构带动该回收环移动至一第二位置时，该回收环的开口平行于该转盘上方的所述晶圆并使该第二回收内管与该第一回收内管部分重迭，当该升降机构带动该回收环移动至一第三位置时，该回收环的开口高于该转盘上方的所述晶圆并使该第二回收内管与该第一回收内管部分重迭。5.如权利要求4所述的单晶圆湿处理设备，其特征在于，在该第二位置的该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭的比例大于在该第三位置的该第二回收内管与该第一回收内管彼此重迭的比例。6.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备，其特征在于，该回收环还包含一本体、一第一导引部、一...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建胜，
申请(专利权)人：弘塑科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：