单晶炉副室清理装置制造方法及图纸

本申请涉及单晶炉技术领域，尤其是涉及一种单晶炉副室清理装置，其包括清理机构、支撑机构和吹气机构，清理机构可于副室内竖直滑移，支撑机构与清理机构固定连接，且支撑机构用于对清理机构进行驱使，吹气机构固定在清理机构上，且吹气机构用于向副室吹入压缩空气。本申请具有以下效果：通过支撑机构驱使清理机构在副室的内壁上滑移，即可使得清理机构在滑移的过程中对副室内壁上的沉积物进行清理；同时，清理机构上的吹气机构可以对副室内壁上的沉积物进行吹扫，以提高清理机构的清理效果。以提高清理机构的清理效果。以提高清理机构的清理效果。

【技术实现步骤摘要】
单晶炉副室清理装置


[0001]本申请涉及单晶炉
，尤其是涉及一种单晶炉副室清理装置。

技术介绍

[0002]单晶炉中主室主要用于硅料的加热反应，在主室中形成的晶体通过置于副室中的提升装置被向上提拉。单晶拉制过程中，氩气会通过副室流入到主室中，氩气携带着反应的挥发物顺着副室向下运动。
[0003]挥发物在运动过程中会在炉膛内壁上产生沉积，长期以往，沉积物易在拉晶过程中落入主室的硅料中，致使硅料纯度受到污染。因此，保持单晶炉的清洁度，对于提高晶体的成晶质量具有重要的意义。
[0004]由于单晶炉副室为圆筒状结构，其内部狭长，副室内径仅约300mm，且炉膛纵深长，炉膛约深5500mm；对副室进行清理时，操作难度较大且不易观察，清理过程存在不便。

技术实现思路

[0005]为了便于对单晶炉的副室进行清理，本申请提供一种单晶炉副室清理装置。
[0006]本申请提供的一种单晶炉副室清理装置采用如下的技术方案：
[0007]一种单晶炉副室清理装置，包括清理机构、支撑机构和吹气机构，所述清理机构可于副室内竖直滑移，所述支撑机构与所述清理机构固定连接，且所述支撑机构用于对所述清理机构进行驱使，所述吹气机构固定在所述清理机构上，且所述吹气机构用于向副室吹入压缩空气。
[0008]可选的，所述清理机构包括清理架以及固定在所述清理架上的清洁件，且所述清洁件包覆于所述清理架用于清洗的部分，所述清洁件以全接触的方式与副室的内壁相抵接。
[0009]可选的，所述清理架为大小端结构的阶梯圆形架，所述清洁件至少设在所述阶梯圆形架的大端的侧壁上。
[0010]可选的，所述吹气机构包括喷气管和供气管，所述喷气管固设于所述阶梯圆形架的小端的侧壁上，且所述喷气管的侧壁上设有喷气孔，所述供气管与所述喷气管固定连接且相互连通，且所述供气管用于提供压缩空气。
[0011]可选的，所述供气管上设有流量调节阀，所述流量调节阀用于控制供气管内压缩空气的流量大小。
[0012]可选的，所述清洁件为喷洒有无水乙醇的纤维纸。
[0013]可选的，所述支撑机构包括支撑杆，所述支撑杆与所述清理机构之间固定连接有三角支架，所述三角支架的小端与所述支撑杆固定连接，所述三角支架的大端与所述清理机构固定连接。
[0014]可选的，所述三角支架与所述支撑杆可拆卸连接。
[0015]可选的，还包括集尘机构，所述集尘机构与所述清理机构靠近所述支撑机构的一
端固定连接，且所述集尘机构靠近所述清理机构的一端设有开口且远离所述清理机构的一端封闭，所述清理机构在所述集尘机构的开口处设有让位。
[0016]可选的，所述集尘机构为接尘袋，所述接尘袋与所述清理机构可拆卸连接。
[0017]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0018]1.通过支撑机构驱使清理机构在副室的内壁上滑移，即可使得清理机构在滑移的过程中对副室内壁上的沉积物进行清理；同时，清理机构上的吹气机构可以对副室内壁上的沉积物进行吹扫，以提高清理机构的清理效果；
[0019]2.通过设置集尘机构，通过集尘机构对清理过程中产生的沉积物进行收集，并在清理后对收集到的沉积物进行集中处理，可以达到更加环保的目的；
[0020]3.通过流量调节阀对供气管内压缩空气的流量大小进行控制，可以实现吹气机构对副室内壁上的沉积物吹扫力度的控制，以在避免压缩空气供应过量的前提下实现对副室内壁最佳的清洁效果。
附图说明
[0021]图1是本申请一实施例提供的单晶炉副室清理装置整体的结构示意图；
[0022]图2是本申请一实施例提供的单晶炉副室清理装置清理副室内壁的示意图；
[0023]图3是本申请一实施例提供的单晶炉副室清理装置的俯视图。
[0024]附图标记说明：1、清理机构；11、清理架；111、固定环；112、挂钩；12、清洁件；2、支撑机构；3、吹气机构；31、喷气管；32、供气管；33、三通接头；34、流量调节阀；4、集尘机构；5、三角支架；51、连接螺母；6、副室。
具体实施方式
[0025]以下结合附图1
‑
3对本申请作进一步详细说明。
[0026]本申请实施例公开一种单晶炉副室清理装置。参照图1，单晶炉副室清理装置包括清理机构1、支撑机构2、吹气机构3和集尘机构4。
[0027]参照图1和图2，清理机构1可于副室6内竖直滑移，且清理机构1在竖直滑移的过程中对副室6的内壁进行清理。支撑机构2与清理机构1固定连接，支撑机构2用于对清理机构1进行驱使。吹气机构3固定在清理机构1上，吹气机构3用于向副室6吹入压缩空气，压缩空气对副室6内壁上的沉积物进行吹扫，以提高对副室6内壁的清理效果。集尘机构4与清理机构1靠近支撑机构2的一端固定连接，集尘机构4用于对清理后的沉积物进行收集，以避免清扫下的沉积物随意洒落，更加环保。
[0028]参照图1和图3，清理机构1包括清理架11以及固定在清理架11上的清洁件12。清理架11可以是不锈钢材料制成的骨架，比如清理架11为大小端结构的阶梯圆形架，更具体地说，其形状为回转体状，且其母线为阶梯状，其内部设有镂空。阶梯圆形架的大端为远离地面的一端，阶梯圆形架的小端为靠近地面的一端。阶梯圆形架的尺寸与副室6的内径相对应，比如其大端直径为300mm，小端直径为270mm。
[0029]清洁件12包覆于清理架11用于清洗的部位；本实施例中，清洁件12至少设在阶梯圆形架大端的侧壁上。比如纤维纸包覆在清理架11阶梯圆形架大端的外侧壁以及阶梯圆形架两端的端面上。清洁件12可以采用清洁能力较强的物件，比如清洁件12为喷洒有无水乙
醇的纤维纸；在其他实施方式中，清洁件还可以为浸有清洗剂的海绵等。清洁件12以全接触的方式与副室6的内壁相抵接；“全接触”是指纤维纸远离阶梯圆形架侧大端的侧壁的一侧与副室6的内壁完全接触。通过全接触的方式，使得纤维纸在副室6的内壁上滑移时，可以实现对副室6内壁的全面清洁，避免漏刮现象，保障了清理机构1的清洁效果。
[0030]参照图1和图2，支撑机构2包括支撑杆。支撑杆可以采用空心不锈钢管制成，以减轻清理装置整体的自重，降低人工的劳动强度；且其长度可以设置为6m，其外径需小于阶梯圆形架小端的直径。支撑杆可以与阶梯圆形架同轴设置。支撑杆与清理机构1之间固定连接有三角支架5，三角支架5包括三根支架杆，三根支架杆均倾斜且均沿同一圆周阵列设置，以使得三角支架5构成大小端结构。
[0031]参照图1和图3，三角支架5的小端与支撑杆固定连接，三角支架5的大端与清理机构1固定连接。比如构成三角支架5大端的三根支架杆的端部均固定在阶梯圆形架的小端上，且三根支架杆的端部均设在同一圆周上。三角支架5用作支撑杆与阶梯圆形架的连接结构，以实现二者相互靠近的端部之间的稳固连接，并同时满足了清理装置轻质的要求，易于操作，使用便捷。
[0032]本实施例中，三角支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶炉副室清理装置，其特征在于：包括清理机构(1)、支撑机构(2)和吹气机构(3)，所述清理机构(1)可于副室(6)内竖直滑移，所述支撑机构(2)与所述清理机构(1)固定连接，且所述支撑机构(2)用于对所述清理机构(1)进行驱使，所述吹气机构(3)固定在所述清理机构(1)上，且所述吹气机构(3)用于向副室(6)吹入压缩空气。2.根据权利要求1所述的单晶炉副室清理装置，其特征在于：所述清理机构(1)包括清理架(11)以及固定在所述清理架(11)上的清洁件(12)，且所述清洁件(12)包覆于所述清理架(11)用于清洗的部分，所述清洁件(12)以全接触的方式与副室(6)的内壁相抵接。3.根据权利要求2所述的单晶炉副室清理装置，其特征在于：所述清理架(11)为大小端结构的阶梯圆形架，所述清洁件(12)至少设在所述阶梯圆形架的大端的侧壁上。4.根据权利要求3所述的单晶炉副室清理装置，其特征在于：所述吹气机构(3)包括喷气管(31)和供气管(32)，所述喷气管(31)固设于所述阶梯圆形架的小端的侧壁上，且所述喷气管(31)的侧壁上设有喷气孔，所述供气管(32)与所述喷气管(31)固定连接且相互连通，且所述供气管(32)用于提供压缩空气。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏传军，吴安增，王瑞恒，
申请(专利权)人：包头晶澳太阳能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：