一种陶瓷板材纳米防污制剂及其制备方法、防污处理方法和柔光防污陶瓷板材技术

本发明专利技术属于陶瓷冷加工技术领域，提供一种陶瓷板材纳米防污制剂及其制备方法、防污处理方法及由该防污处理方法得到的柔光防污陶瓷板材，所述陶瓷板材纳米防污制剂包括如下组分：无机纳米粒子、分散剂、溶剂、成膜剂、硅溶胶、乳液、表面活性剂和水；其中，无机纳米粒子：分散剂：溶剂：成膜剂：硅溶胶：乳液（质量比）=1：（0.2~1）：（2~5）：（0.4~2）：（5~20）：（1~5）。本发明专利技术还提供一种如上所述的陶瓷板材纳米防污制剂的制备方法。本发明专利技术涉及的一种陶瓷板材纳米防污制剂，可直接涂覆在柔抛陶瓷板材表面，能够同时起到填孔、成膜、消光降光的作用，且具有良好的防污性能。好的防污性能。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷板材纳米防污制剂及其制备方法、防污处理方法和柔光防污陶瓷板材


[0001]本专利技术属于陶瓷冷加工
，尤其涉及一种提升柔抛陶瓷板材防污性能的纳米防污制剂及其制备方法、防污处理方法及由该防污处理方法得到的柔光防污陶瓷板材。

技术介绍

[0002]在过去很长一段时间里，建筑陶瓷行业的“超洁亮”产品因其表面超高的光泽度、较高的硬度以及良好的防污性能受到了众多消费者青睐。但是，超洁亮产品对光线的高反射率易造成光污染且容易使人产生视觉疲劳，因此，随着人们生活水平的不断提高，对陶瓷板材的光泽度提出了更高的要求。近年来，具有较低光泽度的柔抛陶瓷产品市场份额出现了迅猛的增长。
[0003]抛釉陶瓷板材在经过抛光工艺段后，表面的气孔会被打开，表面还会出现不同程度微裂纹，目前最常用的解决方法是使用硅溶胶填孔并经抛磨工艺后，在抛釉陶瓷板材表面形成一层致密的、连续的无机陶瓷膜，这层陶瓷膜与陶瓷板材表面的氧化硅通过硅氧键结合，具有良好的耐久性和耐污性。但是这层陶瓷膜的光泽度非常高，通常抛光后光泽度都在90
°
以上，即“超洁亮”技术。
[0004]“超洁亮”技术中，硅溶胶的用量宜多不宜少，用量较少会造成填孔不平，在表面不能形成连续的陶瓷膜，造成光泽度较低且防污性能较差，这也是“超洁亮”技术不能直接用于低光泽度柔抛陶瓷产品的原因之一。
[0005]专利文献CN101580406A公开了一种瓷砖消光剂及其合成方法，将氟化铵、草酸、硫酸铵、硫酸钡、丙三醇和水混合经加热制成，涂刷在瓷砖表面，形成表面哑光效果。该方法是利用酸腐蚀砖面并在砖面形成氟化物而消光，处理过程腐蚀性强且大大降低了砖面的防污性能，另外，含氟物质的使用会有较大的安全隐患。
[0006]专利文献CN106316464A公开了一种消光填孔剂及其使用方法，将硅溶胶和消光填孔剂按一定比例复配制成，使用磨头打磨涂布进行填孔，随着硅溶胶水分蒸发，形成具有强度的固体，消光剂均匀分布在该固体中，从而起到消光作用，该消光方法中，消光组分渗入砖面孔道内部，在填平砖面孔道之后并未形成连续的膜层而相对起到消光作用（光泽度提升不明显），同时，白炭黑即微纳二氧化硅，在抛磨过程中易与板材表面及硅溶胶形成硅氧键而失去消光效果。另外，需要补打防污蜡，提升防污性能。
[0007]专利文献CN110577412A公开了一种柔光砖防污处理工艺，先进行抛光处理，再进行超洁亮处理，最后进行纳米防污处理。该专利虽然解决了超洁亮处理的陶瓷砖表面的防污问题，但陶瓷砖表面的光泽度依然很高，而且是在经超洁亮的砖坯基础上使用纳米液进行防污处理，处理步骤繁琐、柔光效果有限。

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题：
针对上述现有技术的缺陷，本专利技术旨在提供一种提升柔抛陶瓷板材防污性能的纳米防污制剂及其制备方法、以及施用该纳米防污制剂的陶瓷板材柔光防污处理方法和由此方法得到的柔光防污陶瓷板材，可以在不改变现有工艺条件下有效解决柔抛陶瓷板材光泽度和防污性能问题。
[0009]解决问题的手段：为了解决上述技术问题，第一方面，本专利技术提供一种陶瓷板材纳米防污制剂，按照质量百分比计，包括如下组分：无机纳米粒子
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2~5%；分散剂
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1~2%；溶剂
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9~12%；成膜剂
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0.5~5%；硅溶胶
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25~40%；乳液
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5~10%；表面活性剂
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0.5~5%；水
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27~52%；其中，无机纳米粒子：分散剂：溶剂：成膜剂：硅溶胶：乳液（质量比）=1：（0.2~1）：（2~5）：（0.4~2）：（5~20）：（1~5）。在这一比例范围内，抑光防污效果很好。
[0010]根据本专利技术，将无机有机体系结合制备一种提升柔抛陶瓷板材防污性能的制剂，在制剂使用过程中，无机纳米粒子主要起到填孔和对膜的增强作用，硅溶胶主要起到与基材结合的作用，有机材料起到对膜增韧和防裂的作用。
[0011]优选地，所述无机纳米粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锌和二氧化钛中的至少一种；所述分散剂选自聚乙二醇、十聚甘油单硬脂酸酯中的至少一种；所述溶剂选自甲醇、乙醇和异丙醇中的至少一种；所述成膜剂选自聚氨酯、环氧树脂、聚乙烯醇和甲基纤维素中的至少一种；所述硅溶胶为碱性，pH值为8~10，浓度为10~30wt%；所述乳液选自纯丙乳液、硅丙乳液和苯丙乳液中的至少一种，优选为水性乳液，固含量大于30%；所述表面活性剂为硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂选自γ
‑
氨丙基三乙氧基硅烷、3
‑
缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷和γ
‑
甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。
[0012]第二方面，本专利技术还提供一种如上所述的陶瓷板材纳米防污制剂的制备方法，包括如下步骤：步骤（1），将无机纳米粒子、水、分散剂和溶剂混合分散均匀，在一定温度下反应一定时间，得到分散液a；步骤（2），将成膜剂、硅溶胶和乳液混合分散均匀，得到混合液b；步骤（3），在高速搅拌条件下，将分散液a加入到混合液b中，并加入表面活性剂，充分分散均匀，得到所述柔抛陶瓷板材纳米防污制剂。
[0013]优选地，步骤（1）中，在50
‑
95
°
C温度下反应1
‑
3小时。
[0014]第三方面，本专利技术还提供一种陶瓷板材柔光防污处理方法，包括如下步骤：步骤（a），制备砖坯；步骤（b），对砖坯进行抛光处理；步骤（c），对抛光后的砖坯进行柔光防污处理：使用如上所述的陶瓷板材纳米防污
制剂对经抛光后的砖坯表面进行抛光填孔，涂布方式可采用与抛光面之间能产生较大摩擦力的装置进行涂覆，然后固化干燥。
[0015]优选地，步骤（b）中，所述抛光处理为柔抛处理，经柔抛处理后的砖坯的表面光泽度为20
‑
60
°
，优选为20
‑
30
°
。
[0016]优选地，步骤（c）中，所述装置包括带有海绵垫、尼龙垫、羊毛毡垫或胶垫的磨头。
[0017]优选地，步骤（c）中，涂布量为20~50g/m2，涂布过程中，摩擦产热使得砖面温度达到80~100
°
C。
[0018]第四方面，本专利技术还提供一种由如上所述的陶瓷板材柔光防污处理方法得到的柔光防污陶瓷板材。
[0019]优选地，所述陶瓷板材的表面光泽度不超过55
°
，同时具有防污性能。
[0020]与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：（1）本专利技术涉及的一种陶瓷板材纳米防污制剂，可直接涂覆在柔抛陶瓷板材表面，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷板材纳米防污制剂，其特征在于，按照质量百分比计，包括如下组分：无机纳米粒子
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2~5%；分散剂
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1~2%；溶剂
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9~12%；成膜剂
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0.5~5%；硅溶胶
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25~40%；乳液
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5~10%；表面活性剂
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0.5~5%；水
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27~52%；其中，无机纳米粒子：分散剂：溶剂：成膜剂：硅溶胶：乳液（质量比）=1：（0.2~1）：（2~5）：（0.4~2）：（5~20）：（1~5）。2.根据权利要求1所述的陶瓷板材纳米防污制剂，其特征在于，所述无机纳米粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锌和二氧化钛中的至少一种；所述分散剂选自聚乙二醇、十聚甘油单硬脂酸酯中的至少一种；所述溶剂选自甲醇、乙醇和异丙醇中的至少一种；所述成膜剂选自聚氨酯、环氧树脂、聚乙烯醇和甲基纤维素中的至少一种；所述硅溶胶为碱性，pH值为8~10，浓度为10~30wt%；所述乳液选自纯丙乳液、硅丙乳液和苯丙乳液中的至少一种，固含量大于30%；所述表面活性剂为硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂选自γ
‑
氨丙基三乙氧基硅烷、3
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缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷和γ
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甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。3.一种如权利要求1或2所述的陶瓷板材纳米防污制剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤（...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，吴洋，陈鹏程，汪庆刚，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：