一种翻转浸釉机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种翻转浸釉机，包括机架、釉池、釉循环系统、升降结构、翻转结构、清理结构、污水处理结构，所述升降结构包括步进电机、立柱、升降平台，所述翻转结构包括真空吸管、吸盘平台、减速电机、同步带装置、真空发生器，所述清理结构包括擦口对位气缸、摆台气缸、擦面对位气缸、高低位气缸、擦面驱动电机，本实用新型专利技术的翻转浸釉机解决了现有的大件陶瓷产品上釉没有自动化设备，大部分工作由人工操作的技术问题，从而大大提高了工作效率，节约了人工成本，避免采用大型夹具节约设备空间，降低成本，方便浸釉，使大型陶瓷产品浸釉完全。使大型陶瓷产品浸釉完全。使大型陶瓷产品浸釉完全。

【技术实现步骤摘要】
一种翻转浸釉机


[0001]本技术涉及浸釉机
，具体为一种翻转浸釉机。

技术介绍

[0002]现实的陶瓷生产活动中，现有的大件陶瓷产品上釉没有自动化设备，大部分工作由人工手拿产品，将产品放入釉浆池内进行浸泡，同时在釉池内翻转，使釉浆附着到产品的所有表面，在浸泡一定时间后，把产品从釉池内取出来，完成上釉过程。在这一过程中，工人需要全程抱着产品，由于大件陶瓷产品平均重量在8kg左右，工人劳动强度较高，同时还要以经验去判断浸泡时间，产品质量与工人技术水平直接相关，不利于规范化生产。此外，大型机械夹具夹取大件陶瓷产品时容易损坏、破坏大件陶瓷产品，产生大量瑕疵品；釉池内的釉浆易沉淀，大大影响大件陶瓷产品的上釉效果；也不能实现自动化清理的功能，因此设计一款翻转浸釉机迫在眉睫。

技术实现思路

[0003](一)解决的技术问题
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种翻转浸釉机，以解决上述
技术介绍
中提出大件陶瓷产品上釉没有自动化设备、大型机械夹具夹取大件陶瓷产品时容易损坏、破坏大件陶瓷产品、釉池内的釉浆易沉淀，大大影响大件陶瓷产品的上釉效果；也不能实现自动化清理的功能的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种翻转浸釉机，包括机架、釉池、釉循环系统、升降结构、翻转结构、清理结构、污水处理结构，所述升降结构、釉循环系统、污水处理结构设置于釉池后侧，所述升降结构包括步进电机、立柱、升降平台，所述立柱的顶部安装所述步进电机，所述步进电机通过联轴器与滚珠丝杠相连，所述丝杠上安装有升降平台，所述升降平台与翻转结构固定，所述翻转结构包括真空吸管、吸盘平台、减速电机、同步带装置、真空发生器，所述减速电机的转动轴与真空吸管的转动轴通过同步带装置连接，所述吸盘平台固定于真空吸管上，所述真空吸管内部中空，所述真空发生器通过真空吸管与吸盘平台上吸件孔连接，所述釉循环系统与釉池连接，所述釉池和清理结构固定于机架的前侧，所述清理结构包括擦口对位气缸、摆台气缸、擦面对位气缸、高低位气缸、擦面驱动电机，所述摆台气缸的转动轴与擦面对位气缸固定，所述擦面对位气缸与高低位气缸固定，所述擦面驱动电机与高低位气缸固定，所述擦面驱动电机的转动轴与擦面海绵固定，所述擦口对位气缸固定于摆台气缸的下方。
[0007]进一步优选的，所述升降平台通过滑块与立柱上的导轨连接。
[0008]进一步优选的，所述釉池内部还设有进釉管、过滤池、回釉口，所述釉池通过隔板分隔为进釉区和回釉区，所述进釉管铺设于进釉区底部，且所述进釉管上设有多个进釉口，所述回釉区的上方安装过滤池，靠近所述过滤池的隔板上开设有槽口，所述回釉口设置于
回釉区，且所述回釉口和所述进釉管都与釉循环系统连接。
[0009]进一步优选的，所述釉循环系统包括釉泵、釉桶，所述釉泵设置于釉桶内侧，且所述釉泵与进釉管连接，所述釉桶与回釉口连接。
[0010]进一步优选的，所述污水处理结构包括污水泵、沉淀水池、清洗水槽，所述清洗水槽安装于清理结构的一侧，所述清洗水槽通过管道与沉淀水池连接，所述沉淀水池与污水泵连接。
[0011]进一步优选的，所述清洗水槽包括存水槽、挤水槽、挤水平台，所述挤水平台上开设有多个槽，所述挤水平台安装在挤水槽上方，所述挤水槽通过管道与沉淀水池连接，所述污水泵通过管道与存水槽连接。
[0012]进一步优选的，所述擦口对位气缸与擦口海绵连接。
[0013]进一步优选的，还包括电控箱，所述电控箱设置于机架侧面。
[0014]进一步优选的，还包括角度位置传感器，所述角度位置传感器安装与真空吸管的转动轴上。
[0015]进一步优选的，所述釉池侧面还设有排污口。
[0016](三)有益效果
[0017]本技术提供了一种翻转浸釉机，具备以下有益效果：
[0018]1、本技术的翻转浸釉机解决了现有的大件陶瓷产品上釉没有自动化设备，大部分工作由人工操作的技术问题，从而大大提高了工作效率，节约了人工成本，还解决大型陶瓷产品运输、浸釉难的技术问题。
[0019]2、本技术的翻转浸釉机，采用真空发生器、真空吸管、吸盘平台来吸住待加工件，由于陶瓷产品易碎，还容易被机械夹具损伤，这样设计的好处是，一方面可以避免大型机械夹具夹持工件时损伤或者破坏工件，另一方面还可以避免采用大型夹具节约设备空间，降低成本，方便浸釉，使大型陶瓷产品浸釉完全。
[0020]3、本技术还对釉池的结构进行了改进，将进釉管铺设于进釉区底部，釉浆从进釉管上的进釉口进入到釉池后，会使釉浆流动，从而搅拌釉池内釉浆，延缓釉浆沉淀，还在釉池上设置了釉浆液面控制结构，当进釉区内的釉浆达到槽口高度以后，从槽口流入到过滤池内，釉浆会从过滤池上的槽流入到回釉区，大的颗粒物会被过滤池拦截过滤掉，回釉区内的釉浆达到回釉口高度以后，从回釉口流入到釉桶，被釉泵再次循环抽取，使釉浆一直处于流动状态，能够大大延缓釉浆沉淀，提高浸釉效果。
[0021]4、本技术的翻转浸釉机，采用升降结构、翻转结构、清理结构合理的空间布置排位设计，一方面不仅可以使得结构紧凑，降低结构的占地空间，另一方面还可以将整个大件陶瓷产品浸釉、工件运输过程等缩短，提高工作效率，此外，采用较少数量的气缸和电机就可以实现翻转工件、上下浸釉、清洗等多个工序。
[0022]5、本技术的翻转浸釉机的步进电机可以根据电控箱内的PLC程序带到升降平台完成升降动作。翻转结构安装在升降平台上，翻转结构上安装减速电机，减速电机控制翻转平台进行翻转，翻转平台有的角度位置传感器，电控箱内的PLC程序控制翻转平台完成各种角度位置的翻转，从而满足各种不同形状、不同大小的陶瓷产品进行浸釉要求，大大提高了其适用范围。
[0023]6、本技术的擦面海绵内挤出来的污水，落入挤水槽后，由管道进入沉淀水池，
污水经沉淀水池的沉淀作用，沉淀处理后的水经污水泵再次来到清洗水槽的存水槽内，实现污水沉淀过滤再循环过程。
[0024]7、本技术的釉池4侧面还设有排污口，通过排污口可以方便清洗釉池。
[0025]本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0026]图1是本专利技术的整体结构示意图；
[0027]图2是本专利技术另一方向的整体结构示意图；
[0028]图3是本专利技术的釉池的结构图；
[0029]图4是本专利技术的清理结构的结构图；
[0030]图5是本专利技术的清洗水槽的结构图。
[0031]图中：1、机架；2、釉泵；3、釉桶；4、釉池；5、过滤池；6、清理结构；7、翻转结构；8、升降结构；9、电控箱；10、擦口对位气缸；11、摆台气缸；12、擦面对位气缸；13、高低位气缸；14、擦面驱动电机；15、清洗水槽；16、沉淀水池；17、污水泵；18、回釉口；19本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种翻转浸釉机，包括机架(1)，其特征在于：还包括釉池(4)、釉循环系统、升降结构(8)、翻转结构(7)、清理结构(6)、污水处理结构，所述升降结构(8)、釉循环系统、污水处理结构设置于釉池(4)后侧，所述升降结构(8)包括步进电机(31)、立柱(25)、升降平台(28)，所述立柱(25)的顶部安装所述步进电机(31)，所述步进电机(31)通过联轴器与滚珠丝杠相连，所述丝杠上安装有升降平台(28)，所述升降平台(28)与翻转结构(7)固定，所述翻转结构(7)包括真空吸管(30)、吸盘平台(29)、减速电机(26)、同步带装置、真空发生器，所述减速电机(26)的转动轴与真空吸管(30)的转动轴通过同步带装置连接，所述吸盘平台(29)固定于真空吸管(30)上，所述真空吸管(30)内部中空，所述真空发生器通过真空吸管(30)与吸盘平台(29)上吸件孔连接，所述釉循环系统与釉池(4)连接，所述釉池(4)和清理结构(6)固定于机架(1)的前侧，所述清理结构(6)包括擦口对位气缸(10)、摆台气缸(11)、擦面对位气缸(12)、高低位气缸(13)、擦面驱动电机(14)，所述摆台气缸(11)的转动轴与擦面对位气缸(12)固定，所述擦面对位气缸(12)与高低位气缸(13)固定，所述擦面驱动电机(14)与高低位气缸(13)固定，所述擦面驱动电机(14)的转动轴与擦面海绵(21)固定，所述擦口对位气缸(10)固定于摆台气缸(11)的下方。2.根据权利要求1所述的翻转浸釉机，其特征在于：所述升降平台(28)通过滑块与立柱(25)上的导轨连接。3.根据权利要求1所述的翻转浸釉机，其特征在于：所述釉池(4)内部还设有进釉管(19)、过滤池(5)、回釉口...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕宣儒，吕庆杰，王富坤，
申请(专利权)人：河北斯罗米克科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：