【技术实现步骤摘要】
一种超低应力的8
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12
μ
m红外宽带增透薄膜及其制备方法
[0001]本专利技术涉及一种超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜及其制备方法,属于红外宽带增透薄膜
技术介绍
[0002]光学薄膜的应用极其广泛,但几乎所有薄膜都有不同程度的应力存在,尤其是红外波段的薄膜,由于它们的膜层相对较厚、强度较差。应力的存在会直接导致薄膜脱落、色裂等现象,严重影响产品各方面性能。薄膜应力的性质、大小,与基底、薄膜材料、沉积工艺、沉积条件等密切相关;多年来,已有不少文献对电子束蒸发及各类影响因素进行了报道,但目前尚无通过薄膜材料匹配来消除应力的相关报道。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜及其制备方,通过混合膜料的配比、选用及膜层间的膜料匹配,得到了应力变化较小的增透膜层,使成品后膜层的面型维持在基底本身原有的面型,从而获得较好的薄膜牢固度,有效解决膜层间应力大及膜层附着力小的问题,使得到的膜层既有良好的光谱性能又有较好的机械稳定性能。
[0004]为解决上述技术问题,本专利技术所采用的技术方案如下:
[0005]一种超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜,膜系结构为SUB/aHbLcHdLeH/air,其中,SUB代表蓝宝石基底、air代表空气、H代表ZnSe层、L代表Yb
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A层,Yb
‑
A层为YF3与掺钙1 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜,其特征在于:膜系结构为SUB/aHbLcHdLeH/air,其中,SUB代表蓝宝石基底、air代表空气、H代表ZnSe层、L代表Yb
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A层,Yb
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A层为YF3与掺钙1wt%
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8wt%的YbF体积比为1:1
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5:1的混合膜层;a
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e代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数。2.如权利要求1所述的超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜,其特征在于:a的取值为1.00~1.60,b的取值为1.70~2.30,c的取值为13.00~13.60,d的取值为12.70~13.30,e的取值为2.55~3.15。3.如权利要求2所述的超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜,其特征在于:a的取值为1.30~1.34,b的取值为1.98~2.02,c的取值为13.28~13.32,d的取值为12.98~13.02,e的取值为2.83~2.87。4.如权利要求1
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3任意一项所述的超低应力的8
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12μm红外宽带增透薄膜,其特征在于:aH为第一ZnSe层,bL为第一Yb
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A层,cH为第二ZnSe层,dL为第二Yb
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A层,eH为第三ZnSe层;第一ZnSe层的物理厚度为400
±
50nm,第一Yb
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A层的物理厚度为140
±
20nm,...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈佳佳,李全民,朱敏,吴玉堂,
申请(专利权)人:南京波长光电科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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