元件处理器制造技术

本公开涉及一种用于处理元件(102)的系统(100)。该系统(100)包括转塔组件(200)，该转塔组件(200)包括可绕水平轴(204)旋转的转塔(202)；以及围绕转塔(202)并自水平轴(204)径向对齐的多个端部执行器(206)。该系统(100)还包括支撑组件(300)，其布置成支撑包括经分割元件(102)的源衬底(302)；以及元件传送组件(400)，其布置成支撑用于接收来自端部执行器(206)的经分割元件(102)的元件传送介质(402)。所述转塔组件(200)，支撑组件(300)和元件传送组件(400)彼此垂直布置。在转塔(202)的旋转过程中，端部执行器(206)不断从源衬底(302)拾取经分割元件(102)并将拾取的经分割元件(102)放置在元件传送介质(402)上。元件(102)放置在元件传送介质(402)上。元件(102)放置在元件传送介质(402)上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】元件处理器


[0001]本公开总体上涉及元件处理器。具体地，本公开描述了利用可旋转的转塔处理元件，例如半导体裸片，的系统和方法的各种实施例。

技术介绍

[0002]半导体集成电路等半导体产品通常以晶片形式或封装形式制造，然后分割成多个元件，例如半导体裸片。经分割元件通常经过进一步的处理步骤，直到被封装和分发。每个处理步骤可以发生在不同且单独的处理站和/或经由不同的处理模块。通常，每个元件首先在第一位置被拾取，并在不同处理站之间传送，然后在传送介质上的第二位置卸载。根据处理要求，在运动中或在处理站暂时静止时，在处理站对元件进行处理。在各种过程中，经分割元件通常分批从一个工站运输到另一个工站。元件通常在自动化、紧凑和高速的环境中传输，因此在传输元件时尽量减少损坏元件的风险以及实现高吞吐量和准确性非常重要。
[0003]半导体工业中已知的用于处理和传送元件的一些现有器件包括卷带组件以及在WO2009/128790中描述的元件处理器。后者是具有由电机驱动的倒装机构的旋转元件处理器。倒装器使用凸轮和从动机构可旋转地将倒装头从收回位置翻转到卸载位置。这种元件处理器的一个问题是倒装机构的高转速对凸轮和从动机构施加高摩擦力，从而过早地缩短了凸轮和从动机构的寿命。
[0004]因此，为了解决或缓解上述问题和/或缺点中的至少一个，需要提供一种改进的元件处理器。

技术实现思路

[0005]根据本公开的第一方面，有一种用于处理元件的系统。该系统包括转塔组件，该转塔组件包括：可绕水平轴旋转的转塔；及多个端部执行器附接到转塔并围绕转塔外围布置，该端部执行器自水平轴径向对齐。该系统还包括：支撑组件，其布置成支撑包括经分割元件的源衬底，该支撑组件垂直于转塔组件布置；元件传送组件，其布置成支撑用于接收来自端部执行器的经分割元件的元件传送介质，该元件传送组件垂直于该转塔组件布置。其中转塔组件设置在支撑组件和元件传送组件之间，并且在转塔旋转期间，端部执行器不断从源衬底拾取经分割元件并将拾取的经分割元件放置在元件传送介质上。
[0006]根据本公开的第二方面，有一种用于处理元件的方法。该方法包括：在垂直于转塔组件布置的支撑组件上支撑源衬底，该源衬底包括经分割元件；在垂直于转塔组件布置的元件传送组件上支撑元件传送介质，该元件传送介质用于接收来自转塔组件的多个端部执行器的经分割元件；使转塔组件的转塔围绕水平轴旋转，端部执行器附接到该转塔并围绕该转塔外围布置并且自水平轴径向对齐；在转塔旋转期间，致动端部执行器不断从源衬底拾取经分割元件并将拾取的经分割元件放置在元件传送介质上，其中转塔组件设置在支撑组件和元件传送组件之间。
[0007]根据本公开的第三方面，存在一种用于处理元件的转塔组件。转塔组件包括：可绕
水平轴旋转的转塔；及多个端部执行器附接到转塔并在转塔外围布置，该端部执行器从水平轴径向对齐，其中，在转塔旋转期间，端部执行器不算从源衬底上拾取经分割元件并将拾取的经分割元件放置在元件传送介质上；并且其中，源衬底，转塔组件和元件传送介质彼此垂直布置，该转塔组件设置在源衬底和元件传送介质之间。
[0008]因此本文公开了根据本公开的元件处理器。本公开的各种特征，方面和优点将从以下仅作为非限制性示例的本公开的实施例的详细描述以及附图中变得更加明显。
附图说明
[0009]图1是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的系统的示意图。
[0010]图2是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的方法的流程图说明。
[0011]图3是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的端部执行器的示意图。
[0012]图4是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的系统的另一个示意图。
[0013]图5是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的系统的另一个示意图。
[0014]图6是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的系统的另一个示意图。
[0015]图7A至图7D是根据本公开的一些实施例的用于处理元件的系统的不同阶段的示意图。
具体实施方式
[0016]为了简洁和清楚起见，本公开的实施例的描述针对根据附图的元件处理器。尽管将结合本文提供的实施例来描述本公开的各方面，但应理解它们并非旨在将本公开限制于这些实施例。相反，本公开旨在涵盖本文描述的实施例的替代、修改和等效物，它们包括在由所附权利要求限定的本公开的范围内。此外，在以下详细描述中，阐述了具体细节以便提供对本公开的透彻理解。然而，本领域普通技术人员，即技术人员将认识到，可以在没有具体细节的情况下和/或具有由特定实施例的方面的组合产生的多个细节的情况下实践本公开。在许多情况下，没有详细描述众所周知的系统，方法，过程和元件，以免不必要地混淆本公开的实施例的方面。
[0017]在本公开的实施例中，在特定图中对给定元素的描述或对特定元素编号的考虑或使用或在相应的描述性材料中对其的引用可以涵盖在另一个与之相关的图形或描述性材料的相同，等效或类似的元素或元素编号。
[0018]对“一个实施例/示例”，“另一个实施例/示例”，“一些实施例/示例”，“一些其他实施例/示例”等的引用表明这样描述的实施例/示例可以包括特定特征，结构，特性，特性，元素或限制，但并非每个实施例/示例都必须包括该特定特征，结构，特性，特性，元素或限制。此外，重复使用短语“在一个实施例/示例中”或“在另一个实施例/示例中”不一定指相同的实施例/示例。
[0019]术语“包括”，“包括”，“具有”等不排除除了实施例中列出的特征/元素/步骤之外的其他特征/元素/步骤的存在。在相互不同的实施例中列举某些特征/元素/步骤并不表示这些特征/元素/步骤的组合不能用于实施例中。
[0020]如本文所用，术语“一个”和“一个”被定义为一个或一个以上。除非另有说明，否则在图形或相关文本中使用“/”应理解为表示“和/或”。根据已知的数学定义，术语“集合”被
定义为在数学上表现出至少一个基数的元素的非空有限组织(例如，如本文定义的集合可以对应于单元、单重态或单元素集，或多元素集)。本文中特定数值或数值范围的叙述被理解为包括或为近似数值或数值范围的叙述。如本文所用，术语“第一”，“第二”，“第三”，“第四”等仅用作标签或标识符，并不旨在对它们的相关术语强加数字要求。如本文所用，术语“彼此”表示两个或更多个元素之间的相互关系。
[0021]在本公开的代表性或示例性实施例中，如图1所示，存在用于处理元件102的系统100。系统100包括转塔组件200，垂直于转塔组件200设置的支撑组件300，以及垂直于转塔组件200设置的元件传送组件400。具体地，转塔组件200设置在支撑组件300和元件传送组件400之间。在许多实施例中，支撑组件300设置在转塔组件200下方而元件传送组件400设置在转塔组件200上方。
[0022]转塔组件200被配置用于从支撑组件300拾取或取回经分割或单独的元件102，将拾取的经分割元件102朝向元件传送组件400传送，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理元件的系统，所述系统包括：转塔组件，包括：可绕水平轴旋转的转塔；和附接到转塔并围绕转塔外围布置的多个端部执行器，所述端部执行器自水平轴径向对齐；支撑组件，其布置成支撑包括经分割元件的源衬底，所述支撑组件垂直于转塔组件布置；和元件传送组件，其布置成支撑用于接收来自端部执行器的经分割元件的元件传送介质，所述元件传送组件垂直于转塔组件布置，其中，转塔组件设置在支撑组件和元件传送组件之间，并且在转塔旋转期间，端部执行器不断从源衬底拾取经分割元件并将拾取的经分割元件放置在元件传送介质上。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述支撑组件设置在所述转塔组件下方，并且所述元件传送组件设置在所述转塔组件上方。3.根据权利要求1所述的系统，还包括自水平轴径向对齐的图像捕获设备，其中所述图像捕获设备被配置用于在转塔旋转期间捕获由端部执行器保持的经分割元件的图像。4.根据权利要求3所述的系统，还包括计算机系统，其被配置为基于所捕获的图像来计算所保持的经分割元件的未对准。5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述未对准是相对于源衬底的数字地图计算的，所述数字地图识别经分割元件相对于所述源衬底的位置。6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述数字地图进一步识别有缺陷的经分割元件的位置。7.根据权利要求4至6中任一项所述的系统，还包括用于元件传送组件以校正未对准的元件传送致动机构。8.根据权利要求1至7中任一项所述的系统，还包括支撑致动机构，其用于致动支撑组件以将源衬底的经分割元件与端部执行器对齐。9.根据权利要求1至8中任一项所述的系统，包括第一端部执行器和第二端部执行器，使得在转塔旋转的一个瞬间中，所述第一端部执行器处于将第一经分割元件竖直放置在元件传送介质上的位置；和所述第二端部执行器处于从源衬底竖直拾取第二经分割元件的位置。10.根据权利要求9所述的系统，还包括第三端部执行器，使得在转塔旋转的一个瞬间中，所述第三端部执行器保持第三经分割元件并且处于用于捕获所述第三经分割元件的图像的位置。11.根据权利要求1至10中任一项所述的系统，其中，每个端部执行器包括吸嘴。12.根据权利要求1至11中任一项所述的系统，其中，所述支撑组件包括用于支撑作为半导体晶片的源衬底的高度平面或超平面晶片台。13.一种处理元件的方法，所述方法包括：在垂直于转塔组件布置的支撑组件上支撑源衬底，所述源衬底包括经分割元件；在垂直于转塔组件布置的元件传送组件上支撑元件传送介质，所述元件传送介质用于接收来自所述转塔组件的多个端部执行器的经分割元件；
使转塔组件的转塔围绕水平轴旋转，端部执行器附接到所述转塔并围绕所述转塔外围布置且自水平轴径向对齐；在转塔旋转过程中，致动端部执行器不断从源衬底拾取经分割...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩津丰，
申请(专利权)人：联达科技设备私人有限公司，
类型：发明
国别省市：